CN210411745U - 一种硅片超声波循环清洗器 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种硅片超声波循环清洗器，包括清洗槽，清洗槽上部外侧安装控制面板，控制面板下方设置的电机一端机械连接第一旋转杆的一端，第一旋转杆贯穿安装在清洗槽壁内的轴承，且固接硅片放置架的一侧，硅片放置架的另一侧固接第二旋转杆的一端，第二旋转杆的另一端插入轴承座内，超声波发生器两侧分别设置鼓泡器，清洗槽底部中心位置连接有出液管，出液管连接过滤净化器，过滤净化器连接蓄液槽，蓄液槽连接排液管的下端口，排液管上安装有增压泵，排液管的上端口连通清洗槽的上部。本实用新型能够实时循环利用过滤净化后的清洗液，将硅片清洗干净且能够将局部清洗液的温度和化学试剂快速扩散至整个清洗液中。
Description
技术领域
本实用新型属于太阳能硅片生产技术领域，具体涉及一种硅片超声波循环清洗器。
背景技术
超声波清洗器是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物进行直接或间接的作用，能够分散、乳化和剥离污物层从而达到清洗的目的，效率最高且效果最好。
现有的技术存在以下的不足之处：
1.超声波清洗器在清洗过程中存在清洗液更换频繁，不能实时循环利用过滤净化后的清洗液；
2.超声波清洗器中的硅片的位置在整个清洗过程中始终固定不变，且硅片之间的间隙和清洗的表面较小，无法将硅片上的每个旮旯角落清洗干净；
3.无法使加热后的清洗液的温度从局部快速扩散至整个清洗液，同时也无法将清洗液内加入的化学试剂快速分散至整个清洗液中。
实用新型内容
针对现有技术存在的不足，本实用新型提供一种硅片超声波循环清洗器，能够实时循环利用过滤净化后的清洗液，将硅片上的每个旮旯角落清洗干净且能够将局部清洗液的温度和加入的化学试剂快速扩散至整个清洗液中。
本实用新型是通过以下技术方案实现的：一种硅片超声波循环清洗器，包括清洗槽，所述清洗槽上部外侧安装控制面板，所述控制面板下方设置电机，所述电机的一端机械连接第一旋转杆的一端，所述第一旋转杆贯穿安装在所述清洗槽壁内的轴承，且固接硅片放置架的一侧，所述硅片放置架上部通过栅栏门固定，所述硅片放置架的另一侧固接第二旋转杆的一端，所述第二旋转杆的另一端插入轴承座内，所述硅片放置架下方设有加热器和温控器，所述加热器下方设置超声波发生器，所述超声波发生器两侧分别设置鼓泡器，所述清洗槽的一侧连接有进液管，所述清洗槽底部中心位置连接有出液管，所述出液管连接过滤净化器，所述过滤净化器连接蓄液槽，所述蓄液槽连接排液管的下端口，所述排液管上安装有增压泵，所述排液管的上端口连通所述清洗槽的上部。
优选地，所述硅片放置架分隔为若干放置腔。
优选地，所述过滤净化器至少包括活性炭滤芯和中空纤维超滤膜。
优选地，所述增压泵为水位式增压泵。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
1.本实用新型通过过滤净化器、蓄液槽、排液管和增压泵的设计，能够实时的循环利用过滤净化后的清洗液，增压泵为水位式增压泵能够保证清洗槽内液位始终高于硅片放置架。
2.本实用新型采用电机带动第一旋转杆和第二旋转杆旋转，从而带动整个硅片放置架的旋转使得硅片不断旋转，位置不断改变，且硅片放置架分隔为若干放置腔，硅片之间的间隙大且清洗的表面增大，从而将硅片上的每个旮旯角落清洗干净。
3.本实用新型通过鼓泡器的鼓泡，从而起到混合搅拌的作用，使加热后的清洗液的温度从局部快速扩散至整个清洗液，同时也将清洗液内加入的化学试剂快速分散至整个清洗液中。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
附图中：1.清洗槽；2.控制面板；3.电机；4.第一旋转杆；5.轴承；6.硅片放置架；7.栅栏门；8.第二旋转杆；9.轴承座；10.加热器；11.温控器；12.超声波发生器；13.鼓泡器；14.进液管；15.出液管；16.过滤净化器；17.蓄液槽；18.排液管；19.增压泵。
具体实施方式
如说明书附图中图1所示的一种硅片超声波循环清洗器，包括清洗槽1，清洗槽1上部外侧安装控制面板2，控制面板2下方设置电机3，电机3的一端机械连接第一旋转杆4的一端，第一旋转杆4贯穿安装在清洗槽1壁内的轴承5，且固接硅片放置架6的一侧，硅片放置架6上部通过栅栏门7固定，硅片放置架6的另一侧固接第二旋转杆8的一端，第二旋转杆8的另一端插入轴承座9内，硅片放置架6下方设有加热器10和温控器11，加热器10下方设置超声波发生器12，超声波发生器12两侧分别设置鼓泡器13，清洗槽1的一侧连接有进液管14，清洗槽1底部中心位置连接有出液管15，出液管15连接过滤净化器16，过滤净化器16连接蓄液槽17，蓄液槽17连接排液管18的下端口，排液管18上安装有增压泵19，排液管18的上端口连通清洗槽1的上部。
硅片放置架6分隔为若干放置腔。
过滤净化器16至少包括活性炭滤芯和中空纤维超滤膜。
增压泵19为水位式增压泵。
具体工作原理：使用时，控制面板2控制电机3带动第一旋转杆4和第二旋转杆8旋转，从而带动硅片放置架6旋转，栅栏门7的设计能够保证硅片安全的放置在硅片放置架6内，此时，硅片放置架内的硅片不断旋转发生位置的改变；鼓泡器13不断鼓泡，从而起到混合搅拌的作用，使加热后的清洗液的温度从局部快速扩散至整个清洗液，同时也将清洗液内加入的化学试剂快速分散至整个清洗液中；清洗液通过出液管15进入过滤净化器16中，过滤净化器16至少包括活性炭滤芯和中空纤维超滤膜，能够过滤洗涤液中的杂质，净化后的清洗液进入蓄液槽17内，当清洗槽1的液位下降到指定液位时，由于增压泵19为水位式增压泵，因此增压泵19启动将蓄液槽17内的清洗液经排液管18输送至清洗槽1内，当清洗槽1的液位上升到指定液位时增压泵19关闭，能够实时的循环利用过滤净化后的清洗液。
综上所述，仅为本实用新型的较佳实施例而已，并非用来限定本实用新型实施的范围，凡依本实用新型权利要求范围所述的形状、构造、特征及精神所为的均等变化与修饰，均应包括于本实用新型的权利要求范围内。
Claims (4)
1.一种硅片超声波循环清洗器，包括清洗槽(1)，其特征在于：所述清洗槽(1)上部外侧安装控制面板(2)，所述控制面板(2)下方设置电机(3)，所述电机(3)的一端机械连接第一旋转杆(4)的一端，所述第一旋转杆(4)贯穿安装在所述清洗槽(1)壁内的轴承(5)，且固接硅片放置架(6)的一侧，所述硅片放置架(6)上部通过栅栏门(7)固定，所述硅片放置架(6)的另一侧固接第二旋转杆(8)的一端，所述第二旋转杆(8)的另一端插入轴承座(9)内，所述硅片放置架(6)下方设有加热器(10)和温控器(11)，所述加热器(10)下方设置超声波发生器(12)，所述超声波发生器(12)两侧分别设置鼓泡器(13)，所述清洗槽(1)的一侧连接有进液管(14)，所述清洗槽(1)底部中心位置连接有出液管(15)，所述出液管(15)连接过滤净化器(16)，所述过滤净化器(16)连接蓄液槽(17)，所述蓄液槽(17)连接排液管(18)的下端口，所述排液管(18)上安装有增压泵(19)，所述排液管(18)的上端口连通所述清洗槽(1)的上部。
2.根据权利要求1所述的一种硅片超声波循环清洗器，其特征在于：所述硅片放置架(6)分隔为若干放置腔。
3.根据权利要求1所述的一种硅片超声波循环清洗器，其特征在于：所述过滤净化器(16)至少包括活性炭滤芯和中空纤维超滤膜。
4.根据权利要求1所述的一种硅片超声波循环清洗器，其特征在于：所述增压泵(19)为水位式增压泵。
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Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
| CN114334727A (zh) * | 2021-12-24 | 2022-04-12 | 广州仕上科技有限公司 | 半导体表面清洁处理装置 |
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2019
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