CN210388943U - 一种用于制备单晶化铜箔的载具 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种用于制备单晶化铜箔的载具，包括多个用于承载待处理的铜箔的支撑板以及用于支撑支撑板的板架，板架包括底板和侧板，底板的上表面设有多个限位部，多个支撑板的一端分别连接于多个限位部。多个支撑板的另一端向侧板方向倾斜，且距离侧板最近的支撑板抵接于侧板。多个支撑板层叠设置，且相邻两个支撑板之间设有隔离块，用以限定两个相邻支撑板之间的距离为一设定距离。

Description

一种用于制备单晶化铜箔的载具

技术领域

本实用新型总体来说涉及铜箔表面处理技术领域，具体而言，涉及一种铜箔表面处理时用于承载铜箔的载具。

背景技术

铜箔作为生长石墨烯薄膜的常用基底材料，通过实验调控可在铜箔基底上制备出高质量的石墨烯薄膜。但目前用于生长石墨烯的铜箔多为多晶铜箔，铜箔的不同取向、粗糙度及晶界都会影响到石墨烯的质量，因此，需要对铜箔进行处理，以制备出单晶化的铜箔，从而消除晶界密度对生长石墨烯的影响。

然而，现有技术中的批量制备单晶化铜箔时所用的载具，用于承载铜箔的支撑板的倾斜角度都是固定而不可调节的，给生产者带来了不便。

在所述背景技术部分公开的上述信息仅用于加强对本实用新型的背景的理解，因此它可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

实用新型内容

本实用新型的一个主要目的在于克服上述现有技术的至少一个问题，提供一种可调节倾斜角度的用于制备单晶化铜箔的载具。

为实现上述实用新型目的，本实用新型采用如下技术方案：

根据本实用新型的一个方面，提供了一种用于制备单晶化铜箔的载具，包括多个用于承载待处理的铜箔的支撑板以及用于支撑所述支撑板的板架，所述板架包括底板和侧板，所述底板的上表面设有多个限位部，多个所述支撑板的一端分别连接于所述多个限位部；多个所述支撑板的另一端向所述侧板方向倾斜，且距离所述侧板最近的所述支撑板抵接于所述侧板；多个所述支撑板层叠设置，且相邻两个所述支撑板之间设有隔离块，用以限定两个相邻所述支撑板之间的距离为一设定距离。

根据本实用新型的一实施方式，所述隔离块包括第一圆柱和第二圆柱，所述第一圆柱的底面连接于所述第二圆柱的顶面，所述第二圆柱的底面面积大于所述第一圆柱的底面面积；

所述支撑板包括第一表面以及与所述第一表面相背对的第二表面，所述支撑板还包括贯穿所述第一表面和所述第二表面的通孔；

所述第一圆柱能够穿过所述通孔且所述第一圆柱的顶面不突出所述第一表面，所述第二圆柱的顶面与所述第二表面贴合，所述第二圆柱的底面与另一相邻的所述支撑板的第一表面贴合。

根据本实用新型的一实施方式，所述第一圆柱和所述第二圆柱共轴线。

根据本实用新型的一实施方式，所述支撑板包括两个所述通孔，两个所述通孔设于所述支撑板的远离所述底板的一端，所述铜箔位于两个所述通孔之间。

根据本实用新型的一实施方式，所述设定距离为2mm至10mm。

根据本实用新型的一实施方式，所述支撑板的倾斜角度为30°至60°。

根据本实用新型的一实施方式，所述支撑板的倾斜角度为45°至60°。

根据本实用新型的一实施方式，每一所述限位部包括设于所述底板上表面的条形槽，多个所述条形槽相互平行且平行于所述侧板，所述支撑板的一端能够嵌入所述条形槽内。

根据本实用新型的一实施方式，所述条形槽的深度方向向所述侧板方向倾斜。

根据本实用新型的一实施方式，所述条形槽的深度为2mm至5mm。

根据本实用新型的一实施方式，所述侧板垂直于所述底板。

根据本实用新型的一实施方式，所述侧板设有多个管穿孔。

由上述技术方案可知，本实用新型的用于制备单晶化铜箔的载具的优点和积极效果在于：

本实用新型的载具包括多个用于承载待处理的铜箔的支撑板以及用于支撑支撑板的板架，板架包括底板和侧板，底板的上表面设有多个限位部，多个支撑板的一端分别对应连接于多个限位部。多个支撑板的另一端向侧板方向倾斜，且距离侧板最近的支撑板抵接于侧板。多个支撑板层叠设置，且相邻两个支撑板之间设有隔离块，用以限定两个相邻支撑板之间的距离为一设定距离。通过上述的结构设计，通过支撑板的一端与不同位置限位部接触的方式，使得本实用新型的支撑板能够调整倾斜的角度。同时，本实用新型的载具结构简单，拆装方便，能够批量处理多片铜箔。

附图说明

通过参照附图详细描述其示例实施方式，本实用新型的上述和其它特征及优点将变得更加明显。

图1是根据一示例性实施方式示出的一种用于制备单晶化铜箔的载具的侧视图。

图2是根据一示例性实施方式示出的隔离块的示意图。

图3是根据一示例性实施方式示出的板架的示意图。

图4是根据一示例性实施方式示出的支撑板的示意图。

其中，附图标记说明如下：

10、支撑板

11、通孔

20、板架

21、底板

211、条形槽

22、侧板

30、隔离块

31、第一圆柱

32、第二圆柱

d、设定距离

α、倾斜角度

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本实用新型将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。

虽然本说明书中使用相对性的用语，例如“上”、“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系，但是这些术语用于本说明书中仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是，如果将图标的装置翻转使其上下颠倒，则所叙述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。其他相对性的用语，例如“顶”、“底”等也作具有类似含义。用语“一个”、“一”、“该”和“所述”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等；用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等；用语“第一”、“第二”、“第三”和“第四”等仅作为标记使用，不是对其对象的数量限制。

其中，图1是根据一示例性实施方式示出的一种用于制备单晶化铜箔的载具的侧视图。图2是根据一示例性实施方式示出的隔离块的示意图。图3是根据一示例性实施方式示出的板架的示意图。图4是根据一示例性实施方式示出的支撑板的示意图。

下面结合上述附图，对本实用新型提出的用于制备单晶化铜箔的载具的各主要组成部分的结构、连接方式以及功能关系进行详细说明。

如图1所示，本实用新型的一实施方式的用于制备单晶化铜箔的载具，包括多个用于承载待处理的铜箔的支撑板10以及用于支撑支撑板10的板架20。

板架20包括底板21和侧板22，底板21和侧板22可以是一体成型的或固定连接的。底板21的上表面设有多个限位部，多个支撑板10的一端分别对应连接于多个限位部，限位部用以将支撑板10的一端定位在底板21的既定位置。多个支撑板10的另一端向侧板22方向倾斜，且距离侧板22最近的支撑板10抵接于侧板22。多个支撑板10层叠设置，且相邻两个支撑板10之间设有隔离块30，用以限定两个相邻支撑板10之间为一设定距离d。

具体来说，板架20上的底板21利用其上设置的多个限位部分别对应的将多个支撑板10的一端限定在底板21上，防止多个支撑板10移动。支撑板10的另一端向侧板22方向倾斜，且在相邻两个支撑板10之间设有隔离块30，从而将两个支撑板10间隔开，确保支撑板10之间预留出足够空间，供铜箔处理的气氛进入该空间。

如图1所示，在使用时，当最右侧的支撑板10的与限位部接触的一端距离侧板较近时，支撑板10的倾斜角度较大；当最右侧的支撑板10的与限位部接触的一端距离侧板较远时，支撑板10的倾斜角度较小。据此，通过支撑板的一端与不同位置限位部接触的方式，使得本实用新型的支撑板能够调整倾斜的角度，以适应不同生产条件，极大地方便了生产者。

如图2所示，在一实施方式中，隔离块30包括第一圆柱31和第二圆柱32，第一圆柱31的底面连接于第二圆柱32的顶面，第二圆柱32的底面面积大于第一圆柱31的底面面积。

支撑板10包括第一表面以及与第一表面相背对的第二表面，支撑板10还包括贯穿第一表面和第二表面的通孔11。

第一圆柱31能够穿过通孔11且第一圆柱31的顶面不突出于支撑板10的第一表面，第二圆柱32的顶面与支撑板10的第二表面贴合，第二圆柱32的底面与另一相邻的支撑板10的第一表面贴合。换句话说，第一圆柱31的高度小于等于支撑板10的厚度，第二圆柱32的高度等于相邻两个支撑板10之间的设定距离d。

在该实施例中，具体限定了隔离块30的形状，通过与支撑板10上的通孔11配合，从而将相邻两个支撑板10间隔开，为铜箔处理的气氛进入提供了足够的空间。

当然，在另一实施方式中，隔离块30还可以包括两个连接的立方体，相应的，支撑板10上的通孔11具有与立方体配合的形状，确保立方体能够穿过通孔11。在其他实施方式中，隔离块30还可以为其他形状，在此不再一一列举。

上述实施方式中，隔离块30与支撑板10是分体设计的，在一些实施方式中，隔离块30还可以与支撑板10一体成型或固定连接的。举例来说，隔离块30可以是一块状形状，固定连接于支撑板10的一侧表面，在多个支撑板10层叠时，每个隔离块30能够抵接相邻的支撑板10的下表面，从而将多个支撑板10间隔开。

如图2所示，在一些实施方式中，第一圆柱31和第二圆柱32共轴线，使得第一圆柱31位于第二圆柱32的中轴线，在第二圆柱32的顶面抵接于支撑板10的底面时，第二圆柱32施加在支撑板10的通孔11附近的力更加均匀，使得多个支撑板10层叠后更加稳定。

如图4所示，在一些实施方式中，支撑板10包括两个通孔11，两个通孔11设于支撑板10的远离底板21的一端，待处理的铜箔位于两个通孔11之间。

在该实施例中，支撑板10上开有两个相隔开的通孔11，铜箔设于两个通孔11之间，在相邻两个支撑板10层叠后，位于上方的支撑板10受到两个隔离块30的支撑力，使得支撑板10受力更加均匀且支撑效果更加稳定。

当然，在其他实施方式中，通孔11的数量还可以设置为一个、三个、四个或多个。

如图1所示，在一些实施方式中，相邻两个支撑板10之间的设定距离d为2mm至10mm，例如3mm、4mm、5mm、6mm、7mm、8mm、9mm等。

如图1所示，在一些实施方式中，支撑板10的倾斜角度α为30°至60°，例如，35°、40°、50°等，作为优选，支撑板10的倾斜角度α为45°至60°。

如图1和图3所示，在一些实施方式中，每一限位部包括设于底板21上表面的条形槽211，多个条形槽211相互平行且平行于侧板22，支撑板10的一端能够嵌入条形槽211。

在该实施方式中，具体限定了限位部的结构，通过槽型的结构设计，使得板架20的底板21的上表面不会存在凸起的结构，令板架20整体结构简单。

当然，在其他实施方式中，限位部也可以包括其他结构，能够将支撑板10的一端限定在底板21上且防止支撑板10发生移动即可。

如图3所示，在一些实施方式中，条形槽211的深度方向向侧板22方向倾斜，在支撑板10的一端插入条形槽211后，使得支撑板10的另一端能够向侧板22方向倾斜，距离侧板22最近的支撑板10能够稳定地抵接于侧板22。

在一些实施方式中，条形槽的深度为2mm至5mm，例如，3mm，4mm等。

如图3所示，在一些实施方式中，侧板22垂直于底板21。

当然，在其他实施方式中，侧板22与底板21之间的夹角也可以是锐角的，或钝角的。

在一些实施方式中，侧板22设有多个贯穿孔(图未示)，当进行铜箔单晶化处理时，外界气氛能够通过该多个管穿孔顺畅地进入载具内，使得气氛能够与铜箔表面充分接触。

综上所述，本实用新型的用于铜箔处理的载具的优点和积极效果在于：

本实用新型的载具包括多个用于承载待处理的铜箔的支撑板10以及用于支撑支撑板10的板架20，板架20包括底板21和侧板22，底板21的上表面设有多个限位部，多个支撑板10的一端分别对应连接于多个限位部。多个支撑板10的另一端向侧板22方向倾斜，且距离侧板22最近的支撑板10抵接于侧板22。多个支撑板10层叠设置，且相邻两个支撑板10之间设有隔离块30，用以限定两个相邻支撑板10之间的距离为一设定距离d。通过上述的结构设计，通过支撑板的一端与不同位置限位部接触的方式，使得本实用新型的支撑板能够调整倾斜的角度，同时，本实用新型的载具结构简单，拆装方便，能够批量处理多片铜箔。

在此应注意，附图中示出而且在本说明书中描述的用于铜箔处理的载具仅仅是采用本实用新型的原理的一个示例。本领域的普通技术人员应当清楚地理解，本实用新型的原理并非仅限于附图中示出或说明书中描述的装置的任何细节或任何部件。

应可理解的是，本实用新型不将其应用限制到本说明书提出的部件的详细结构和布置方式。本实用新型能够具有其他实施方式，并且能够以多种方式实现并且执行。前述变形形式和修改形式落在本实用新型的范围内。应可理解的是，本说明书公开和限定的本实用新型延伸到文中和/或附图中提到或明显的两个或两个以上单独特征的所有可替代组合。所有这些不同的组合构成本实用新型的多个可替代方面。本说明书所述的实施方式说明了已知用于实现本实用新型的最佳方式，并且将使本领域技术人员能够利用本实用新型。

Claims (12)

1.一种用于制备单晶化铜箔的载具，其特征在于，包括多个用于承载待处理的铜箔的支撑板以及用于支撑所述支撑板的板架，所述板架包括底板和侧板，所述底板的上表面设有多个限位部，多个所述支撑板的一端分别连接于所述多个限位部；多个所述支撑板的另一端向所述侧板方向倾斜，且距离所述侧板最近的所述支撑板抵接于所述侧板；多个所述支撑板层叠设置，且相邻两个所述支撑板之间设有隔离块，用以限定两个相邻所述支撑板之间的距离为一设定距离。

2.根据权利要求1所述的用于制备单晶化铜箔的载具，其特征在于，所述隔离块包括第一圆柱和第二圆柱，所述第一圆柱的底面连接于所述第二圆柱的顶面，所述第二圆柱的底面面积大于所述第一圆柱的底面面积；

所述支撑板包括第一表面以及与所述第一表面相背对的第二表面，所述支撑板还包括贯穿所述第一表面和所述第二表面的通孔；

所述第一圆柱能够穿过所述通孔且所述第一圆柱的顶面不突出所述第一表面，所述第二圆柱的顶面与所述第二表面贴合，所述第二圆柱的底面与另一相邻的所述支撑板的第一表面贴合。

3.根据权利要求2所述的用于制备单晶化铜箔的载具，其特征在于，所述第一圆柱和所述第二圆柱共轴线。

4.根据权利要求2所述的用于制备单晶化铜箔的载具，其特征在于，所述支撑板包括两个所述通孔，两个所述通孔设于所述支撑板的远离所述底板的一端，所述铜箔位于两个所述通孔之间。

5.根据权利要求1所述的用于制备单晶化铜箔的载具，其特征在于，所述设定距离为2mm至10mm。

6.根据权利要求1所述的用于制备单晶化铜箔的载具，其特征在于，所述支撑板的倾斜角度为30°至60°。

7.根据权利要求6所述的用于制备单晶化铜箔的载具，其特征在于，所述支撑板的倾斜角度为45°至60°。

8.根据权利要求1所述的用于制备单晶化铜箔的载具，其特征在于，每一所述限位部包括设于所述底板上表面的条形槽，多个所述条形槽相互平行且平行于所述侧板，所述支撑板的一端能够嵌入所述条形槽内。

9.根据权利要求8所述的用于制备单晶化铜箔的载具，其特征在于，所述条形槽的深度方向向所述侧板方向倾斜。

10.根据权利要求8所述的用于制备单晶化铜箔的载具，其特征在于，所述条形槽的深度为2mm至5mm。

11.根据权利要求1所述的用于制备单晶化铜箔的载具，其特征在于，所述侧板垂直于所述底板。

12.根据权利要求1所述的用于制备单晶化铜箔的载具，其特征在于，所述侧板设有多个贯穿孔。

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