CN210261428U - 芯片生产线的废水处理系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了芯片生产线的废水处理系统，包括沉淀池，所述沉淀池的内壁上设置有升降滑轨，所述升降滑轨连接有超密滤网；所述沉淀池的一端连接废水进水管，另一端通过管道连接废水调节池；所述废水调节池的另一端连接废水泵，所述废水泵的另一端连接蒸发池，所述蒸发池的底面设置为铜板，其底部设置有加热腔；所述蒸发池的另一端连接冷却泵，所述冷却泵的另一端连接高效净水器；所述高效净水器的另一端连接清水池。本实用新型通过沉淀、调节、蒸发、冷却、净化等工序，采用物化结合的方式，使芯片生产线产生的废水得到了高效的净化，其操作简单，成本低，利于芯片行业可持续发展，适于大面积推广。

Description

芯片生产线的废水处理系统

技术领域

本实用新型涉及芯片生产线技术领域，特别涉及芯片生产线的废水处理系统。

背景技术

芯片生产过程工艺复杂，包括硅片清洗、光刻、刻蚀、镀镍等，过程中使用大量的化学试剂如氢氟酸、氨水、氯化镍等，其废水包括含氮废水、含氟废水、酸碱废水、有机废水、废气洗涤废水、镍废水等等，其中，镍废水排放后，会在土壤中沉积，从而被植物吸收后，转移到人的体内，镍含量最高的植物是绿色蔬菜和烟草，可达1.5～3ppm，镍对水稻产生毒性的临界浓度是20ppm。中国规定车间空气中羰基镍的最高容许浓度为0.001mg/m3，地面水中镍的最高容许浓度为0.5mg/L，镍含量超标大大提高了癌症的发病率。对废水进行分类收集和单独处理，可实现废水的总排放达标。

现有对芯片生产线废水的处理方式主要是采用化学试剂，结合破络合物、氧化、沉淀、过滤、中和等过程，将含镍废液处理成含镍沉积物，将废水进行排放，将沉积物再进行回收使用或进一步处理，由于需要充分地破络合处理，才能将镍离子释放出来，故需用大量的化学试剂，处理的步骤复杂，成本高，影响芯片加工企业的经济效益，不利于芯片行业可持续发展。

发明内容

本实用新型的目的在于：提供了芯片生产线的废水处理系统，通过沉淀、调节、蒸发、冷却、净化等工序，采用物化结合的方式，使芯片生产线产生的废水得到了高效的净化，其操作简单，成本低，利于芯片行业可持续发展，适于大面积推广。

本实用新型采用的技术方案如下：

芯片生产线的废水处理系统，包括沉淀池，所述沉淀池的内壁上设置有升降滑轨，所述升降滑轨连接有超密滤网；所述沉淀池的一端连接废水进水管，另一端通过管道连接废水调节池；所述废水调节池的另一端连接废水泵，所述废水泵的另一端连接蒸发池，所述蒸发池的底面设置为铜板，其底部设置有加热腔；所述蒸发池的另一端连接冷却泵，所述冷却泵的另一端连接高效净水器；所述高效净水器的另一端连接清水池。

本实用新型的工作过程为：处理开始时，将芯片生产线产生的废水通过废水进水管引入沉淀池中，向沉淀池中加入无机絮凝剂和有机阴离子型絮凝剂聚丙烯酰胺配制成的水溶液并搅拌，使废水中的颗粒物杂质沉淀，两小时后，启动升降滑轨，升起超密滤网，将杂质与废水分离，并把废水排入到废水调节池中，使废水的水量、水质达到均匀稳定的状态，处理之后接入废水泵进行抽取送入蒸发池中，通过加热腔对废水进行加热蒸发，使其中的杂质挥发，进一步减少废水中的杂质率，随后将加热蒸发后的废水通过冷却泵进行冷却之后，输送入高效净水器进行最后的净化，得到无有害物质的清水，最终完成对废水的处理，处理后的清水达到排放标准，可直接进行排放，也可进行再次净化达到民用标准。由此，本实用新型通过沉淀、调节、蒸发、冷却、净化等工序，采用物化结合的方式，使芯片生产线产生的废水得到了高效的净化，其操作简单，成本低，利于芯片行业可持续发展，适于大面积推广。

进一步地，所述沉淀池与所述废水调节池之间的连接管道上设置有第一水阀。其中，第一水阀用于控制沉淀池中废水的通闭，在沉淀时关闭，在沉淀后开启，使废水通入废水调节池。

进一步地，所述废水调节池与所述废水泵的连接管道上设置有第一药箱。其中，第一药箱内部放置PH调整剂及氧化还原剂。

进一步地，所述废水泵与所述蒸发池的连接管道上设置有第二药箱。其中，第二药箱内部放置调理剂。

进一步地，所述蒸发池与所述冷却泵的连接管道上设置有第二水阀。其中，第二水阀用于控制蒸发池中的废水的排放，蒸发时关闭，蒸发后开启，使废水流经冷却泵。

进一步地，所述清水池连接有清水出水管。其中，清水出水管用于排放清水或进行下一步净化工序，使废水再利用。

综上所述，由于采用了上述技术方案，本实用新型的有益效果是：

1.芯片生产线的废水处理系统，通过沉淀、调节、蒸发、冷却、净化等工序，采用物化结合的方式，使芯片生产线产生的废水得到了高效的净化，其操作简单，成本低，利于芯片行业可持续发展，适于大面积推广。

附图说明

本实用新型将通过例子并参照附图的方式说明，其中：

图1是芯片生产线的废水处理系统的结构示意图；

图中，1-废水进水管，2-沉淀池，201-升降滑轨，202-超密滤网，3-第一水阀，4-废水调节池，5-第一药箱，6-废水泵，7-第二药箱，8-蒸发池，9-加热腔，10-第二水阀，11-冷却泵，12-高效净水器，13-清水池，14-清水出水管。

具体实施方式

本说明书中公开的所有特征，或公开的所有方法或过程中的步骤，除了互相排斥的特征和/或步骤以外，均可以以任何方式组合。

下面结合图1对本实用新型作详细说明。

实施例1

如图1所示，芯片生产线的废水处理系统，包括沉淀池2，所述沉淀池2的内壁上设置有升降滑轨201，所述升降滑轨201连接有超密滤网202；所述沉淀池2的一端连接废水进水管1，另一端通过管道连接废水调节池4；所述废水调节池4的另一端连接废水泵6，所述废水泵6的另一端连接蒸发池8，所述蒸发池8的底面设置为铜板，其底部设置有加热腔9；所述蒸发池8的另一端连接冷却泵11，所述冷却泵11的另一端连接高效净水器12；所述高效净水器12的另一端连接清水池13。

本实用新型的工作过程为：处理开始时，将芯片生产线产生的废水通过废水进水管1引入沉淀池2中，向沉淀池2中加入无机絮凝剂和有机阴离子型絮凝剂聚丙烯酰胺配制成的水溶液并搅拌，使废水中的颗粒物杂质沉淀，两小时后，启动升降滑轨201，升起超密滤网202，将杂质与废水分离，并把废水排入到废水调节池4中，使废水的水量、水质达到均匀稳定的状态，处理之后接入废水泵6进行抽取送入蒸发池8中，通过加热腔9对废水进行加热蒸发，使其中的杂质挥发，进一步减少废水中的杂质率，随后将加热蒸发后的废水通过冷却泵11进行冷却之后，输送入高效净水器12进行最后的净化，得到无有害物质的清水，最终完成对废水的处理，处理后的清水达到排放标准，可直接进行排放，也可进行再次净化达到民用标准。由此，本实用新型通过沉淀、调节、蒸发、冷却、净化等工序，采用物化结合的方式，使芯片生产线产生的废水得到了高效的净化，其操作简单，成本低，利于芯片行业可持续发展，适于大面积推广。

实施例2

本实施例与实施例1的不同之处在于，所述超密滤网202的孔径为1mm。

实施例3

本实施例与以上实施例的不同之处在于，所述废水泵6的型号为QW25-8-15-1.1。

实施例4

本实施例与以上实施例的不同之处在于，所述加热腔9通过煤气燃烧加热。

以上所述，仅为本实用新型的优选实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本领域的技术人员在本实用新型所揭露的技术范围内，可不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。

Claims (6)

1.芯片生产线的废水处理系统，其特征在于：包括沉淀池(2)，所述沉淀池(2)的内壁上设置有升降滑轨(201)，所述升降滑轨(201)连接有超密滤网(202)；所述沉淀池(2)的一端连接废水进水管(1)，另一端通过管道连接废水调节池(4)；所述废水调节池(4)的另一端连接废水泵(6)，所述废水泵(6)的另一端连接蒸发池(8)，所述蒸发池(8)的底面设置为铜板，其底部设置有加热腔(9)；所述蒸发池(8)的另一端连接冷却泵(11)，所述冷却泵(11)的另一端连接高效净水器(12)；所述高效净水器(12)的另一端连接清水池(13)。

2.根据权利要求1所述的芯片生产线的废水处理系统，其特征在于：所述沉淀池(2)与所述废水调节池(4)之间的连接管道上设置有第一水阀(3)。

3.根据权利要求1所述的芯片生产线的废水处理系统，其特征在于：所述废水调节池(4)与所述废水泵(6)的连接管道上设置有第一药箱(5)。

4.根据权利要求1所述的芯片生产线的废水处理系统，其特征在于：所述废水泵(6)与所述蒸发池(8)的连接管道上设置有第二药箱(7)。

5.根据权利要求1所述的芯片生产线的废水处理系统，其特征在于：所述蒸发池(8)与所述冷却泵(11)的连接管道上设置有第二水阀(10)。

6.根据权利要求1所述的芯片生产线的废水处理系统，其特征在于：所述清水池(13)连接有清水出水管(14)。

Images