CN210223944U - 一种二极管生产加工用刻蚀装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种二极管生产加工用刻蚀装置，包括上电极板、下电极板和等离子体，所述等离子体设在所述上电极板的下表面，所述上电极板与所述等离子体的外侧设置有刻蚀枪，所述刻蚀枪为圆柱形空心腔体，所述刻蚀枪的上端侧壁设有进气风扇，所述刻蚀枪的下端设有喷气口，本实用新型通过将上电极板、下电极板和等离子体分离，采用外部引气，同时气体由喷气口吹出，作用在物体表面进行刻蚀，加快刻蚀效率，同时通过环形喷气管的设置，使得惰性气体由环形喷气管吹入防护罩内，从而对喷气口吹出的等离子体周围进行气体保护，从而无需采用密闭环形，且使得等离子体较为密集的集中在需要刻蚀的物体表面。

Description

一种二极管生产加工用刻蚀装置

技术领域

本实用新型涉及刻蚀装置技术领域，具体领域为一种二极管生产加工用刻蚀装置。

背景技术

二极管在电子元件当中，是一种具有两个电极的装置，只允许电流由单一方向流过，许多的使用是应用其整流的功能，而变容二极管则用来当作电子式的可调电容器，大部分二极管所具备的电流方向性我们通常称之为“整流”功能，二极管最普遍的功能就是只允许电流由单一方向通过称为顺向偏压，反向时阻断称为逆向偏压，因此，二极管可以想成电子版的逆止阀，早期的真空电子二极管是一种能够单向传导电流的电子器件，在半导体二极管内部有一个PN结两个引线端子，这种电子器件按照外加电压的方向，具备单向电流的传导性，一般来讲，晶体二极管是一个由p型半导体和n型半导体烧结形成的p-n结界面，在其界面的两侧形成空间电荷层，构成自建电场，当外加电压等于零时，由于p-n结两边载流子的浓度差引起扩散电流和由自建电场引起的漂移电流相等而处于电平衡状态，这也是常态下的二极管特性，而刻蚀，它是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤，是与光刻相联系的图形化处理的一种主要工艺，所谓刻蚀，实际上狭义理解就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分，随着微制造工艺的发展，广义上来讲，刻蚀成了通过溶液、反应离子或其它机械方式来剥离、去除材料的一种统称，成为微加工制造的一种普适叫法，二极管刻蚀现在极为普遍，目前采用反应离子进行刻蚀的方法效率较高，且不会产生废液等优点，但现有技术中，因需采用离子对二极管进行刻蚀，使得需要在密闭环境下工作，在进行批量生产时即为不方便，为此，提出一种二极管生产加工用刻蚀装置。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种二极管生产加工用刻蚀装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种二极管生产加工用刻蚀装置，包括上电极板、下电极板和等离子体，所述等离子体设在所述上电极板的下表面，所述上电极板与所述等离子体的外侧设置有刻蚀枪，所述刻蚀枪为圆柱形空心腔体，所述刻蚀枪的上端侧壁设有进气风扇，所述刻蚀枪的下端设有喷气口，所述刻蚀枪的下端外侧壁插接有防护罩，所述防护罩呈环形，且所述防护罩的侧壁内部设有环形喷气管，所述环形喷气管与所述防护罩的内侧壁之间设有多个导管，所述环形喷气管的侧壁贯穿设有第一进气导管，所述下电极板设在所述喷气口的下端，所述下电极板的上表面设有加热板，所述加热板的上表面设有安装台。

优选的，所述刻蚀枪对应所述上电极板下端的侧壁内部设有环形冷却腔体，所述环形冷却腔体的侧壁分别设有进水管与出水管。

优选的，所述喷气口的下端设有传送带，所述下电极板、所述加热板位于所述传送带的上下皮带之间。

优选的，所述传送带沿其运动方向延伸，所述防护罩的外表面沿着所述传送带延伸方向设有保护罩，所述保护罩与所述传送带平行，所述保护罩的内部设有喷气管，所述喷气管与所述保护罩的下表面之间连接有多个喷气导管，所述喷气管的侧壁设有第二进气管。

优选的，所述环形喷气管与喷气管之间为管连接。

优选的，所述防护罩的内侧壁呈锥形。

优选的，所述进气风扇的上表面设有过滤网。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：一种二极管生产加工用刻蚀装置，通过将上电极板、下电极板和等离子体分离，采用外部引气，同时气体由喷气口吹出，作用在物体表面进行刻蚀，加快刻蚀效率，同时通过环形喷气管的设置，使得惰性气体由环形喷气管吹入防护罩内，从而对喷气口吹出的等离子体周围进行气体保护，从而无需采用密闭环形，且使得等离子体较为密集的集中在需要刻蚀的物体表面，从而使得刻蚀效果更好，操作也极为便捷。

附图说明

图1为本实用新型的实施例1主视剖面结构示意图；

图2为本实用新型的实施例1俯视剖面结构示意图；

图3为本实用新型的实施例1防护罩俯视剖面结构示意图；

图4为本实用新型的实施例2主视剖面结构示意图；

图5为本实用新型的实施例3主视剖面结构示意图。

图中：1-上电极板、2-下电极板、3-等离子体、4-刻蚀枪、5-进气风扇、6-喷气口、7-防护罩、8-环形喷气管、9-导管、10-第一进气导管、11-加热板、12-安装台、13-环形冷却腔体、14-进水管、15-出水管、16-传送带、17-保护罩、18-喷气管、19-喷气导管、20-第二进气管。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例1

请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：一种二极管生产加工用刻蚀装置，包括上电极板1、下电极板2和等离子体3，所述等离子体3设在所述上电极板1的下表面，所述等离子体3用于产生与二极管表面发生反应的离子，所述上电极板1与所述下电极板2用于将所述等离子体3所产生的离子牵引至所述上电极板1与所述下电极板2之间，二极管即位于上电极板1与所述下电极板2之间，所述上电极板1与所述等离子体3的外侧设置有刻蚀枪4，所述刻蚀枪4为圆柱形空心腔体，所述刻蚀枪4的上端侧壁设有进气风扇5，所述刻蚀枪4的下端设有喷气口6，所述喷气口6的直径要远小于所述刻蚀枪4的内径，从而起到加快空气流速的作用，使通过所述喷气口6的气体流速加快，从而获得良好的刻蚀效果，将惰性气体通入刻蚀枪4的上端，因气体在所述进气风扇5的作用下进入所述刻蚀枪4，流经所述刻蚀枪4的内部由下端流出，所以所述上电极板1与所述等离子体3需要使用支架等连接方式连接在所述刻蚀枪4的内侧壁，从而流出较大缝隙使得空气得以顺利经过，所述刻蚀枪4的下端外侧壁插接有防护罩7，所述防护罩7呈环形，且所述防护罩7的侧壁内部设有环形喷气管8，所述环形喷气管8与所述防护罩7的内侧壁之间设有多个导管9，所述环形喷气管8的侧壁贯穿设有第一进气导管10，可将所述第一进气导管10设置在所述刻蚀枪4的侧壁中，由所述刻蚀枪4的上端引出，防止所述第一进气导管10裸露在外，一方面容易造成损坏，另一方面使装置不美观，惰性气体由所述第一进气导管10进入，由所述导管9喷出，从而在所述喷气口6的四周形成保护层，使得等离子气体可在所述喷气口6处集中，从而无需在密闭环境下进行，所述下电极板2设在所述喷气口6的下端，所述下电极板2的上表面设有加热板11，所述加热板11的上表面设有安装台12，二极管即放在所述安装台12的上表面，所述加热板11可加快刻蚀速率。

具体而言，所述刻蚀枪4对应所述上电极板1下端的侧壁内部设有环形冷却腔体13，所述环形冷却腔体13的侧壁分别设有进水管14与出水管15，可将所述进水管14与出水管15设在所述刻蚀枪4的侧壁，统一由所述刻蚀枪4的上端引出，将冷却水由所述进水管14注入，冷却水进入所述冷却腔体13，给所述刻蚀枪4的下端进行冷却，防止由于长时间工作造成温度过高而损坏装置。

具体而言，所述防护罩7的内侧壁呈锥形，可扩大惰性气体的保护范围，使得保护效果更好。

具体而言，所述进气风扇5的上表面设有过滤网，所述过滤网可防止外界空气中的杂质进入设备中。

工作原理：本实用新型在对二极管进行刻蚀工序时使用，使用时将二极管放置在安装台12的上表面，将惰性气体注入第一进气导管10以及刻蚀枪4的上端，开启装置，惰性气体由第一进气导管10进入环形喷气管8中，最终由导管9喷出，形成保护层，而等离子体3在上电极板1和下电极板2的作用下释放等离子，进气风扇将惰性气体引入刻蚀枪4中，由下端喷气口吹出，夹带着等离子体作用在二极管的表面，从而对二极管进行刻蚀。

实施例2

请参阅图4，本实施例与实施例1的不同之处在于：所述喷气口6的下端设有传送带16，所述下电极板2、所述加热板11位于所述传送带16的上下皮带之间，将二极管放置在所述传送带16上即可实现流水作业，所述传送带16的上皮带即可视为实施例1中的安装台12，传送带16工作，将传送带16上的二极管移动至喷气口6的下方，进行刻蚀，刻蚀结束后，传送带16继续转动，将完成刻蚀工序的二极管运输到指定位置，同时将新的二极管运输至所述喷气口6的下方，即可实现连续工作。

实施例3

请参阅图5，本实施例与实施例1的不同之处在于：所述传送带16沿其运动方向延伸至一段距离，同时所述防护罩7的外表面沿着所述传送带16延伸方向设有保护罩17，即延伸段的所述传送带16的上方设置有所述保护罩17，所述保护罩17与所述传送带16平行，所述保护罩17的内部设有喷气管18，所述喷气管18与所述保护罩17的下表面之间连接有多个喷气导管19，所述喷气管18的侧壁设有第二进气管20，将惰性气体通入所述第二进气管20中，惰性气体最终由所述喷气导管19喷出，可对刚刚完成刻蚀的二极管表面进行保护，因二极管在刻蚀工作后，表面可能尚未反应完全，极易与空气中的氧气发生氧化反应，而惰性气体则可保护二极管的表面，使其不会发生氧化反应。

具体而言，所述环形喷气管8与喷气管18之间为管连接，则可不用设置所述第二进气管20，由所述第一进气管10提供惰性气体。

在本实用新型的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

本实用新型使用到的标准零件均可以从市场上购买，异形件根据说明书的和附图的记载均可以进行订制，各个零件的具体连接方式均采用现有技术中成熟的螺栓、铆钉、焊接等常规手段，机械、零件和设备均采用现有技术中，常规的型号，加上电路连接采用现有技术中常规的连接方式，在此不再详述。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (7)

1.一种二极管生产加工用刻蚀装置，包括上电极板(1)、下电极板(2)和等离子体(3)，其特征在于：所述等离子体(3)设在所述上电极板(1)的下表面，所述上电极板(1)与所述等离子体(3)的外侧设置有刻蚀枪(4)，所述刻蚀枪(4)为圆柱形空心腔体，所述刻蚀枪(4)的上端侧壁设有进气风扇(5)，所述刻蚀枪(4)的下端设有喷气口(6)，所述刻蚀枪(4)的下端外侧壁插接有防护罩(7)，所述防护罩(7)呈环形，且所述防护罩(7)的侧壁内部设有环形喷气管(8)，所述环形喷气管(8)与所述防护罩(7)的内侧壁之间设有多个导管(9)，所述环形喷气管(8)的侧壁贯穿设有第一进气导管(10)，所述下电极板(2)设在所述喷气口(6)的下端，所述下电极板(2)的上表面设有加热板(11)，所述加热板(11)的上表面设有安装台(12)。

2.根据权利要求1所述的一种二极管生产加工用刻蚀装置，其特征在于：所述刻蚀枪(4)对应所述上电极板(1)下端的侧壁内部设有环形冷却腔体(13)，所述环形冷却腔体(13)的侧壁分别设有进水管(14)与出水管(15)。

3.根据权利要求1所述的一种二极管生产加工用刻蚀装置，其特征在于：所述喷气口(6)的下端设有传送带(16)，所述下电极板(2)、所述加热板(11)位于所述传送带(16)的上下皮带之间。

4.根据权利要求3所述的一种二极管生产加工用刻蚀装置，其特征在于：所述传送带(16)沿其运动方向延伸，所述防护罩(7)的外表面沿着所述传送带(16)延伸方向设有保护罩(17)，所述保护罩(17)与所述传送带(16)平行，所述保护罩(17)的内部设有喷气管(18)，所述喷气管(18)与所述保护罩(17)的下表面之间连接有多个喷气导管(19)，所述喷气管(18)的侧壁设有第二进气管(20)。

5.根据权利要求4所述的一种二极管生产加工用刻蚀装置，其特征在于：所述环形喷气管(8)与喷气管(18)之间为管连接。

6.根据权利要求1所述的一种二极管生产加工用刻蚀装置，其特征在于：所述防护罩(7)的内侧壁呈锥形。

7.根据权利要求1所述的一种二极管生产加工用刻蚀装置，其特征在于：所述进气风扇(5)的上表面设有过滤网。

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