CN210026558U - 一种盖板 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种盖板。该盖板至少包括透明本体以及形成于透明本体一侧表面上的抗反射层及至少一塑料膜层,其中抗反射层为以离子源轰击方式形成于透明本体一侧表面上的多孔纳米结构层。通过这种方式,能够提高盖板的抗冲击性及透光性。
Description
技术领域
本申请涉及盖板加工技术领域,特别是涉及一种盖板。
背景技术
随着终端制造技术的提高,4G、5G类智能终端已经成为人们必不可少的工具。目前终端的盖板多为塑料或者金属,塑料盖板和金属盖板存在着诸多缺点:塑料盖板同质化严重,而且长时间使用易掉色,影响美观;金属盖板由于天线的设计需要,须采用多段式,影响美观,同时,金属盖板会对4G、5G信号产生屏蔽,降低信号强度。
为了克服上述缺陷,终端逐渐采用玻璃或陶瓷类盖板。目前玻璃盖板的手感和外观等都得到了市场的认可,但是,玻璃盖板存在抗冲击性差、硬度低等问题,同时,玻璃盖板易发生光线反射,在光线照射下易产生眩光,容易对眼睛造成不适。
实用新型内容
本申请提供一种盖板,其具有较高的抗冲击性及透光性。
为解决上述技术问题,本申请采用的一个技术方案是:提供一种盖板,该盖板至少包括透明本体以及形成于透明本体一侧表面上的抗反射层及至少一塑料膜层,其中抗反射层为以离子源轰击方式形成于透明本体一侧表面上的多孔纳米结构层。
其中,抗反射层的表面粗糙度范围为1nm-10nm。
其中,抗反射层使得透明本体在可见光380nm-780nm范围内的平均反射率小于1%。
其中,每一塑料膜层压合或胶合于抗反射层上或前一层塑料膜层上。
其中,塑料膜层包括PC膜、PMMA膜、PE膜、PET膜或者PC、PMMA、PE和PET中的至少两材料的复合塑料膜。
其中,塑料膜层的厚度范围为10um-500um。
其中,塑料膜层的数量为至少两层,且每一塑料膜层与相邻的塑料膜层的材料不同。
其中,盖板在使用时以透明本体的远离抗反射层的另一侧表面为外表面。
其中,透明本体表面的莫氏硬度大于6.0。
其中,盖板在自然环境下可见光380-780nm范围内的平均透过率大于或等于92%。
本申请的有益效果是:区别于现有技术,本申请实施例盖板至少包括透明本体以及形成于透明本体一侧表面上的抗反射层及至少一塑料膜层,其中抗反射层为以离子源轰击方式形成于透明本体一侧表面上的多孔纳米结构层。通过这种方式,本申请实施例通过离子源轰击方式对透明本体表面进行处理,制成多孔纳米结构的抗反射层,使盖板具有低反射的特性,能够提高盖板的透光率,使其反射的光线不刺眼,使盖板具有防眩光功能;同时在抗反射层表面复合塑料膜层,能够增加了盖板的柔性和强度,能够提高盖板的抗冲击性。
附图说明
图1是本申请盖板第一实施例的结构示意图;
图2是本申请盖板第二实施例的结构示意图;
图3是本申请盖板第三实施例的结构示意图;
图4是图3实施例盖板的制造方法一实施例的流程示意图;
图5是图4实施例中步骤S401的具体流程示意图;
图6是本申请盖板第四实施例的结构示意图;
图7是图6实施例盖板的制造方法一实施例的流程示意图;
图8是本申请终端一实施例的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
本申请首先提出一种盖板,如图1所示,本实施例盖板101至少包括透明本体102以及形成于透明本体102一侧表面上的抗反射层103及至少一塑料膜层104,其中抗反射层103为以离子源轰击方式形成于透明本体102一侧表面上的多孔纳米结构层103。
本实施例的盖板101可以为终端的后盖,如手机的后盖等。在将盖板101安装于终端本体上时,盖板101的塑料膜层104靠近终端本体设置,盖板101的透明本体102背离终端本体设置,即盖板101在使用时以透明本体102的远离抗反射层103的另一侧表面为外表面。
在其它实施例中,盖板还可以用于家电、汽车等产品。
光在具有不同折射率的介质中传输时会产生光反射。光在空气与透明本体102之间传输时会产生反射,本实施例通过将透明本体102的一表面设置多孔纳米结构(孔内为气体),能够使入射至纳米孔的光不被反射,因此能够提高透明本体102对光的透过率。也就是说,多孔纳米结构能够使透明本体102的光平均折射率更靠近空气的光折射率。
本实施例盖板101实施例通过离子源轰击方式对透明本体102表面进行处理,制成多孔纳米结构的抗反射层103,使盖板101具有低反射的特性,能够提高盖板101的透光率,使其反射的光线不刺眼,使盖板具有防眩光功能;同时在抗反射层103表面复合塑料膜层104,能够增加了盖板101的柔性和强度,因此能够提高盖板101的抗冲击性,就减少对盖板101及终端的损坏。
进一步地,从抗反射层103的物理特征考虑,为实现上述效果,抗反射层103的表面粗糙度范围可以为1nm-10nm,该表面粗糙度具体可以为1nm、2nm、4nm、6nm、8nm及10nm;抗反射层104使得透明本体102在可见光380nm-780nm范围内的平均反射率小于1%,该平均反射率可以为0.2%、0.5%及0.8%等。
进一步地,从透明本体102的物理特征考虑,为实现上述效果,透明本体102表面的莫氏硬度大于6.0,该莫氏硬度具体可以为6.2、7.0及8.0等。
进一步地,从透明本体102及塑料膜层104的材料考虑,为实现上述效果,透明本体102可以包括高透过率的超白玻璃本体,或者包括其它玻璃本体、陶瓷本体、聚苯乙烯本体或聚甲基丙烯酸甲脂本体等高透过率的透明本体;塑料膜层104可以包括PC膜、PMMA膜、PE膜、PET膜或者PC、PMMA、PE和PET中的至少两材料的复合塑料膜。
进一步地,从塑料膜层104的厚度考虑,为实现上述效果,塑料膜层104的厚度范围可以为10um-500um,该厚度具体可以为10um、100um、200um、300um、400um及500um等。
在一具体应用中,盖板101在自然环境下可见光380-780nm范围内的平均透过率大于或等于92%,该平均透过率可以为95%、97%等。
可选地,塑料膜层104可以采用压合或胶合于抗反射层103上。
本申请进一步提出第二实施例的盖板,如图2所示,本实施例盖板201与上述实施例盖板的不同之处在于:本实施例盖板201包括第一塑料膜层202及第二塑料膜层203,第一塑料膜层202形成于抗反射层204背离透明本体205的一侧表面上,第二塑料膜层203形成于第一塑料膜层202背离抗反射层204的一侧表面上。
其中,第一塑料膜层202可以包括PC膜、PMMA膜、PE膜、PET膜或者PC、PMMA、PE和PET中的至少两材料的复合塑料膜,第二塑料膜层203可以包括PC膜、PMMA膜、PE膜、PET膜或者PC、PMMA、PE和PET中的至少两材料的复合塑料膜。且第一塑料膜层202与第二塑料膜层203的材料不同。
本实施例可以通过挤压方式将抗反射层204、第一塑料膜层202及第二塑料膜层203之间进行贴合。
在其它实施例中,塑料膜层的数量可以大于2,且每一塑料膜层与相邻的塑料膜层的材料不同。
本申请通过设置两层或者两层以上的塑料膜层,且相邻塑料膜层间的材料不同,能够进一步提高盖板的柔性和强度。
本申请进一步提出第三实施例的盖板,如图3所示,本实施例盖板301与图2实施例盖板的区别在于:本实施例盖板301进一步包括第一胶合层302及第二胶合层303。其中,第一胶合层302设置在抗反射层304与第一塑料膜层305之间,用于提高抗反射层304与第一塑料膜层305之间的结合力,第二胶合层303设置在第一塑料膜层305与第二塑料膜层306之间,用于提高第一塑料膜层305与第二塑料膜层306之间的结合力。
本实施例通过在抗反射层304与第一塑料膜层305之间设置第一胶合层302,在第一塑料膜层305与第二塑料膜层306之间设置第二胶合层303,能够提高各膜层之间的结合力。
其中,第一胶合层302及第二胶合层303可以采用透明UV胶、透明水溶胶等,或者采用透明氧化物膜层,如氧化钛膜层、氧化铌膜层、氧化锡膜层、氧化锌膜层或氧化锌锡膜层的任一种或组合;第一胶合层302、第二胶合层303的厚度范围可以为50-150nm,该厚度具体可以为50nm、70nm、90nm、110nm、130nm及150nm等。
本申请进一步提出一种盖板的制造方法,可用于制造上述盖板301,如图4,本实施例的制造方法包括以下步骤:
S401:对透明本体307的表面进行清洗和烘干。
由于透明本体307表面的洁净度对离子源轰击工艺影响较大,因此需要采用清洗效果较好的方式对透明本体307的进行清洗,本实施例可以采用超声波清洗方式对透明本体307进行清洗及烘干。
在一具体应用中,可以通过如图5所述的方法实现步骤S401,本实施例具体以下步骤包括:
S501:在第一槽中加入清洗剂,并将其加热到第一预设温度,然后将透明本体307放入第一槽中,浸泡3分钟。
S502:在第二槽中加入清洗剂,并将其加热到第二预设温度,然后将透明本体307放入第二槽,并通过喷淋清洗方式对透明本体307清洗7分钟。
S503:在第三槽中加入纯水,并将透明本体307放入第三槽中,然后通过超声清洗方式对透明本体307清洗2分钟。
S504:在第四槽中加入超声清洗剂,并将透明本体307放入第四槽中,然后通过超声清洗方式对透明本体307清洗2分钟。
S505:在第五槽中及第六槽中加入纯水,并将透明本体307放入第五槽中,然后通过超声清洗方式对透明本体307清洗5分钟,接着将透明本体307放入第六槽中,并通过超声清洗方式对透明本体307清洗5分钟。
S506:将透明本体307放入第七槽中进行脱水,并将脱水后的透明本体307依次放入第八槽中及第九槽中热烘脱水。
其中,第一槽至第四槽为普通清洗槽,第五槽及第六槽为超声槽,第七槽为慢提拉槽脱水槽,第八槽及第九槽为烘干槽。
上述清洗/烘干流程、清洗/烘干温度及清洗/烘干时间可以根据透明本体307的材料及表面粗糙度等因素进行适应性修改;本实施例还可以通过检测器自动检测每次清洗后的透明板体37的表面清洁度,并根据该清洁度调整或者规划后续的清洗/烘干的流程、清洗/烘干温度及清洗/烘干时间,以提高透明本体307进行清洗及烘干效率及效果。
S402:采用离子源轰击工艺对透明本体307的第一表面进行处理,以在透明本体307的第一表面上形成抗反射层304。
具体地,将烘干后的透明本体307放置在镀膜机内,抽真空;在真空条件下,用阳极离子源轰击透明本体302的第一表面,持续2分钟,以在透明本体302的第一表面上形成具有多孔纳米结构的抗反射层304。
其中,离子源工艺参数如表一所示:
表一
S402:在抗反射层304背离透明本体307的一侧表面上形成第一胶合层302。
S403:第一胶合层302背离抗反射层304的一侧表面上形成第一塑料膜层305。
S404:在第一塑料膜层305背离第一胶合层30一侧表面上形成第二胶合层303。
S405:第二胶合层303背离第一塑料膜层305的一侧表面上形成第二塑料膜层306。
可以通过溅射镀制工艺形成第一塑料膜层305及第二塑料膜层306。本实施例的溅射镀制方法是在磁控连续镀膜机内,在真空的状态下,充入氩气气体,使氩气电离,在磁场的作用下轰击靶材表面,同时还充入了反应气体,靶材与反应气体发生碰撞并与靶表面发生反应,从反应气体与靶材的化合物沉积到胶合层上。
区别于现有技术,本实施例通过离子源轰击方式对透明本体表面进行处理,制成多孔纳米结构的抗反射层,使盖板具有低反射的特性,能够提高盖板的透光率,使其反射的光线不刺眼,使盖板具有防眩光功能;同时在抗反射层表面复合塑料膜层,能够增加了盖板的柔性和强度,能够提高盖板的抗冲击性。
为进一步丰富盖板的外观效果,本申请进一步提出第四实施例的盖板,如图6所示,本实施例盖板601与图1实施例盖板101的不同之处在于:本实施例盖板601进一步包括设置在塑料膜层602背离抗反射层603一侧的图案层604。
其中,图案层604可以通过丝网印刷工艺形成在塑料膜层602上。图案层604可以包括特定图案标识,如产品的Logo、产品所需的说明文字、产品图案及花纹等。
在一实施例中,还可以使用激光雕刻、化学蚀刻、油墨印刷等工艺在打底层上形成图案或Logo,在此不做限定。
在另一实施例中,还可以在塑料膜层背离抗反射层一侧设置纹理层,该纹理层可以为磁性纹理层、UV转印纹理层、热转印纹理层中的至少一种,纹理层的具体图案可以根据实际需求灵活选择。
其中,形成磁性纹理层的方法可以为磁性喷涂,即在喷涂过程中,通过磁场控制磁性材料的分布,使其形成所需的纹理图案。
形成UV转印纹理层的方法可以为利用UV转印及压印加工,即在将设计好的纹理图形用激光光绘机输出成光绘菲林或玻璃菲林,在透明本体上涂布一离型层,并在离型层涂布UV胶,并把涂布好UV胶的透明本体与光绘菲林或玻璃菲林紧密贴合,进行曝光成像,进而在塑料膜层上就形成纹理图案层。
形成热转印纹理层的方法可以为将PVC热转印膜贴在透明本体上,以预设温度烘烤预设时间,之后剥离PVC薄膜,即得到热转印纹理。
通过这种方式,能够在上述实施例效果的基础上进一步使盖板呈现特定图案或者纹理图案等。
在一实施例中,为丰富盖板的外观效果。还可以在塑料膜层背离抗反射层一侧设置渐变色层等。渐变色层包括多层油墨层,其中,可以通过如图7所示的方法在塑料膜层的上形成多层油墨层,本实施例的方法包括:
S701:获取渐变色层的配色方案。
具体的,可以通过计算机模拟程序设计渐变色层的配色方案,该配色方案可以包括第一油墨层、第二油墨层的厚度、覆盖面积以及颜色方案。
S702:根据配色方案制备至少一个遮蔽挡板。
具体的,根据配色方案设计得到遮蔽挡板,遮蔽挡板用于覆盖未设置有第一油墨层和第二油墨层的区域。
S703:在塑料膜层上放置遮蔽挡板。
其中,遮蔽挡板用于遮蔽第一区域,第一区域为塑料膜层的第一表面上未设置有第一油墨层的区域。
S704:在塑料膜层上设置第一油墨层。
具体的,第一油墨层可以通过丝网印刷、辊筒印刷或喷墨打印技术打印或者印刷在塑料膜层的第一表面上。
S705:至少在第一油墨层的局部表面上放置遮蔽挡板。
其中,遮蔽挡板用于遮蔽第二区域,第二区域为第一油墨层上未设置有第二油墨层的区域。
S706:至少在第一油墨层的局部表面上设置第二油墨层。
具体的,第二油墨层可以通过丝网印刷、辊筒印刷或喷墨打印技术打印或者印刷在第一油墨层上。
进一步地,至少在第二油墨层的局部表面上放置遮蔽挡板。其中,遮蔽挡板用于覆盖第三区域,第三区域为第二油墨层上未设置有第n油墨层(n为大于2的整数)的区域。第n油墨层可以通过光学镀膜、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、等离子增强的化学气相沉积(PECVD)、反应性DC射蚀、RF溅蚀或磁控溅射等工艺沉积在第二油墨层上。
通过本实施例中采用的遮蔽挡板方式,可以遮挡塑料膜层、第一油墨层、第二油墨层或者第n油墨层的不同部位,以实现颜色渐变梯度明显的显现效果。
进一步地,喷涂时第二油墨层的厚度可以由第一油墨层左侧边界处向右侧边界处逐渐变薄,以得到渐变效果。或者,等待第一油墨层干燥后,可以向第一油墨层局部表面喷涂至少一层第二油墨层。在其他实施例中,可以在第二油墨层干燥后,至少在第二油墨层的局部表面喷涂油墨,以形成第三油墨层。其中,第一油墨层、第二油墨层和第三油墨层的厚度相同,但覆盖的面积逐渐减小。例如,第一油墨层覆盖面积为塑料膜层覆盖面积的100%,第二油墨层覆盖面积为塑料膜层覆盖面积的70%,第三油墨层为塑料膜层覆盖面积的30%。
第一油墨层、第二油墨层和第三油墨层的材料可以包括UV固化树脂、单体、光引发剂、砂粉和添加剂,其中,添加剂中可以包括颜料;UV固化树脂可以包括环氧丙烯酸树脂、乙氧基乙氧基乙基丙烯酸酯和改性聚氨酯树脂;单体可以包括TPGDA和HDDA;光引发剂可以为TPO;颜料可以为晾干型树脂颜料。
在一实施例中,渐变色层可以包括多层介质层,每一层介质层可以由纳米结构色晶体与光油混合构成。其中,纳米结构色晶体可以由多层光学干涉薄膜粉碎得到,多层光学干涉薄膜可以为具有交替沉积有第一折射率光学介质层L1、L2和第二折射率光学介质层H1、H2、H3的结构,也就是说,多层光学干涉薄膜可以包括依次层叠设置的第二折射率光学介质层H1,第一折射率光学介质层L1,第二折射率光学介质层H3、第一折射率光学介质层L2以及第二折射率光学介质层H2。
在一实施例中,为提高盖板的硬度和耐磨损性能,可以进一步在透明本体背离抗反射层的一侧设置透明加硬层。
透明加硬层的材料包括氮化物以及类金刚石碳中的至少一种或组合。该氮化物还可以是氮硼化物或氮碳化物。例如,氮化硅、氮化铝、氮化钛、氮化铬、氮化钽、氮化锆、氮化硅铝、氮化钛铝、氮化铬铝、氮化铬钛铝、氮化铬硅铝、氮化硅钛铝、氮化硼、氮硼化钛、氮硼化铬、氮硼化钛铝、氮硼化钛硅、氮硼化硅钛铝、氮碳化钛、氮碳化铬、氮碳化锆、氮碳化钨中的至少一种或组合。
进一步,还可以在透明本体背离抗反射层的一侧设置防指纹层。其中,防指纹层以采用具有疏水性和疏油性的聚合物涂层或者适当材料的镀膜。
本申请进一步提出一种终端,如图8所示,图8是本申请终端一实施例的结构示意图。本实施例终端801包括盖板802,将盖板802的透明本体背离终端本体803设置,即透明本体为终端801的最外侧。
本实施例盖板802可以是上述各实施例盖板,其结构及工作原理,这里不赘述。
本实施例终端801可以包括手机、平板电脑或可穿戴设备等。
本申请实施例盖板可以广泛的使用于光学仪器、电子、汽车工业等诸多领域。
区别于现有技术,本申请实施例盖板至少包括透明本体以及形成于透明本体一侧表面上的抗反射层及至少一塑料膜层,其中抗反射层为以离子源轰击方式形成于透明本体一侧表面上的多孔纳米结构层。通过这种方式,本申请实施例通过离子源轰击方式对透明本体表面进行处理,制成多孔纳米结构的抗反射层,使盖板具有低反射的特性,能够提高盖板的透光率,使其反射的光线不刺眼,使盖板具有防眩光功能;同时在抗反射层表面复合塑料膜层,能够增加了盖板的柔性和强度,能够提高盖板的抗冲击性。
以上所述仅为本申请的实施方式,并非因此限制本申请的专利范围,凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本申请的专利保护范围内。
Claims (9)
1.一种盖板,其特征在于,所述盖板至少包括透明本体以及形成于所述透明本体一侧表面上的抗反射层及至少一塑料膜层,其中所述抗反射层为以离子源轰击方式形成于所述透明本体一侧表面上的多孔纳米结构层。
2.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述抗反射层的表面粗糙度范围为1nm-10nm。
3.根据权利要求2所述的盖板,其特征在于,所述抗反射层使得所述透明本体在可见光380nm-780nm范围内的平均反射率小于1%。
4.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,每一所述塑料膜层压合或胶合于所述抗反射层上或前一层所述塑料膜层上。
5.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述塑料膜层的厚度范围为10um-500um。
6.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述塑料膜层的数量为至少两层,且每一所述塑料膜层与相邻的塑料膜层的材料不同。
7.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述盖板在使用时以所述透明本体的远离所述抗反射层的另一侧表面为外表面。
8.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述透明本体表面的莫氏硬度大于6.0。
9.根据权利要求1-8任一项所述的盖板,其特征在于,所述盖板在自然环境下可见光380-780nm范围内的平均透过率大于或等于92%。
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