CN210010254U - 一种硅片烘干装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种硅片烘干装置，包括箱体，箱体底面四个拐角均固定连接有万向轮，箱体内部通过多孔隔板分为下方的储水室和上方的处理室，利用过滤网、干燥层和活性炭过滤层，通过三组过滤网可以对清洗后的清洗剂进行过滤回收，干燥层可以提高烘干效果，同时活性炭过滤层可以对烘干产生的气体进行吸附过滤，去除有害物质，保障操作人员身体健康；利用集水仓和水泵，可以通过PLC控制器打开水泵把储水室内的清洗剂通过输水管导入处理室，进行清洗；清洗结束后，可打开止回阀把清洗剂从排水管导入储水室进行回收，同时通过PLC控制器打开电加热管对硅片进行烘干处理，清洗与烘干一体化，效率大大提高。

Description

一种硅片烘干装置

技术领域

本实用新型涉及太阳能设备相关技术领域，具体为一种硅片烘干装置。

背景技术

太阳能作为一种清洁能源，正日益得到广泛的应用。硅片是太阳能产业中最为重要的元件，硅片在生产流程中需要经过多道处理工序，以便保障硅片的光电转换效果和光利用率。在太阳能硅片生产过程中，需要利用清洗机对太阳能硅片进行清洗，接着清洗好的太阳能硅片进入分选机进行烘干，现有的清洗设备和烘干设备均为独立的个体，清洗完毕后需要人工操作夹出后再放入烘干装置内，硅片薄且脆，在反复夹取的过程中易损坏硅片，且工作效率低下，导致生产成本较高。硅片在清洗时往往都是通过化学清洗剂清洗，清洗结束后直接排放造成很大的浪费，同时化学清洗剂在烘干时，容易产生有毒气体，损害操作人员身体健康，为此，本实用新型提出一种硅片烘干装置用于解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种硅片烘干装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种硅片烘干装置，包括箱体，所述箱体底面四个拐角均固定连接有万向轮，所述箱体内部通过多孔隔板分为下方的储水室和上方的处理室，所述多孔隔板底面密封连接有集水仓，所述集水仓底面中部设置有排水管，且排水管上安装有止回阀，所述储水室底面右侧安装有水泵，所述水泵上表面中部通过输水管与处理室连通，所述集水仓底面安装有换能器，所述多孔隔板上表面中部可拆卸连接有数字液压缸，所述数字液压缸正面中部安装有步进电机驱动器，所述数字液压缸活塞顶端螺纹连接有放置结构，所述处理室左右两侧内壁均安装有电加热管，所述箱体顶端可拆卸连接有顶盖，所述顶盖左右两侧均转动连接有卡扣，且箱体左右两侧顶端均固定连接有与卡扣相对应的卡块，所述顶盖上表面设置有通风孔，所述箱体正面中部上端安装有PLC控制器，所述PLC控制器下方安装有超声波发生器，所述箱体左侧底端设置有废水排放管。

优选的，所述集水仓内部为漏斗式空腔，所述集水仓内壁镶嵌连接有三组过滤网，且三组所述过滤网孔径从上往下依次减小。

优选的，所述换能器安装有五组，且五组换能器以圆周均匀分部在集水仓底面。

优选的，所述数字液压缸活塞最大行程为50厘米，所述数字液压缸为MSWAY型数字液压缸，且数字液压缸通过导线与步进电机驱动器电性连接.

优选的，所述放置结构还包括底板、支撑柱、中间支撑板、上盖板和放置槽，所述底板上表面中心处螺纹连接有支撑柱，所述支撑柱中部可拆卸连接有中间支撑板，所述支撑柱顶端螺纹连接有上盖板，所述底板上表面、中间支撑板上下两面与上盖板底面均设置有放置槽。

优选的，相邻所述放置槽之间保留1厘米间隔，且放置槽内壁均粘接有缓冲海绵。

优选的，所述顶盖底面左右两侧固定连接有挡板，所述挡板内部镶嵌连接有干燥层和活性炭过滤层，所述活性炭过滤层设置于干燥层上方，所述干燥层与活性炭过滤层之间保留2厘米间隔，且干燥层由氯化钙颗粒组成。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1.利用过滤网、干燥层和活性炭过滤层，通过三组过滤网可以对清洗后的清洗剂进行过滤回收，避免浪费；干燥层可以提高烘干效果，同时活性炭过滤层可以对烘干产生的气体进行吸附过滤，去除有害物质，保障操作人员身体健康。

2.利用集水仓和水泵，可以通过PLC控制器打开水泵把储水室内的清洗剂通过输水管导入处理室，进行清洗；清洗结束后，可打开止回阀把清洗剂从排水管导入储水室进行回收，同时通过PLC控制器打开电加热管对硅片进行烘干处理，清洗与烘干一体化，效率大大提高。

3.利用换能器和超声波发生器，可以通过PLC控制器控制超声波发生器发出超声波，利用换能器可以把超声波转化为机械震荡传递给集水仓内的清洗剂，便于硅片清洗，清洗效率大大提高。

4.利用数字液压缸和步进电机驱动器，可以通过PLC控制器控制步进电机驱动器打开数字液压缸，推动活塞上下移动，使得放置结构伸出箱体，便于对硅片进行安放。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型箱体内部剖视图；

图3为本实用新型放置结构的结构示意图；

图4为图2中A处放大结构示意图。

图中：箱体1、万向轮2、多孔隔板3、储水室4、处理室5、集水仓6、过滤网7、排水管8、止回阀9、水泵10、输水管11、换能器12、超声波发生器13、数字液压缸14、步进电机驱动器15、放置结构16、底板161、支撑柱162、中间支撑板163、上盖板164、放置槽165、缓冲海绵166、电加热管17、顶盖18、卡扣19、卡头20、通风孔21、挡板22、干燥层23、活性炭过滤层24、PLC控制器25、废水排放管26。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1至4，本实用新型提供一种技术方案：一种硅片烘干装置，包括箱体1，箱体1底面四个拐角均固定连接有万向轮2，箱体1内部通过多孔隔板3分为下方的储水室4和上方的处理室5，多孔隔板3底面密封连接有集水仓6，集水仓6底面中部设置有排水管8，且排水管8上安装有止回阀9，储水室4底面右侧安装有水泵10，水泵10为CSP24120型水泵，且水泵10通过导线与PLC控制器25电性连接，水泵10上表面中部通过输水管11与处理室5连通，集水仓6底面安装有换能器12，换能器12为BJC-25100D-68HMPZT-4型换能器多孔隔板3上表面中部可拆卸连接有数字液压缸14，数字液压缸14正面中部安装有步进电机驱动器15，步进电机驱动器15为TB600型驱动器，且步进电机驱动器15通过导线与PLC控制器25电性连接，数字液压缸14活塞顶端螺纹连接有放置结构16，处理室5左右两侧内壁均安装有电加热管17，箱体1顶端可拆卸连接有顶盖18，顶盖18左右两侧均转动连接有卡扣19，且箱体1左右两侧顶端均固定连接有与卡扣19相对应的卡块20，顶盖18上表面设置有通风孔21，箱体1正面中部上端安装有PLC控制器25，PLC控制器26为S7-200型PLC控制器，且PLC控制器26通过导线与外界电源电性连接，PLC控制器25下方安装有超声波发生器13，超声波发生器13为BJE-1500W型超声波发生器，且超声波发生器13通过导线与PLC控制器25电性连接，箱体1左侧底端设置有废水排放管26。

进一步地，集水仓6内部为漏斗式空腔，集水仓6内壁镶嵌连接有三组过滤网7，且三组过滤网7孔径从上往下依次减小，通过三组过滤网7可以对清洗后的清洗剂进行过滤回收，避免浪费。

进一步地，换能器12安装有五组，且五组换能器12以圆周均匀分部在集水仓6底面，可以通过PLC控制器25控制超声波发生器13发出超声波，利用换能器12可以把超声波转化为机械震荡传递给集水仓6内的清洗剂，便于硅片清洗，清洗效率大大提高。

进一步地，数字液压缸14活塞最大行程为50厘米，数字液压缸14为MSWAY型数字液压缸，且数字液压缸14通过导线与步进电机驱动器15电性连接，可以通过PLC控制器25控制步进电机驱动器15打开数字液压缸14，推动活塞上下移动，使得放置结构16伸出箱体1，便于对硅片进行安放。

进一步地，放置结构16还包括底板161、支撑柱162、中间支撑板163、上盖板164和放置槽165，底板161上表面中心处螺纹连接有支撑柱162，支撑柱162中部可拆卸连接有中间支撑板163，支撑柱162顶端螺纹连接有上盖板164，底板161上表面、中间支撑板163上下两面与上盖板164底面均设置有放置槽165。

进一步地，相邻放置槽165之间保留1厘米间隔，且放置槽165内壁均粘接有缓冲海绵166，起到很好的减震效果，有效的对硅片进行保护。

进一步地，顶盖18底面左右两侧固定连接有挡板22，挡板22内部镶嵌连接有干燥层23和活性炭过滤层24，活性炭过滤层24设置于干燥层23上方，干燥层23与活性炭过滤层24之间保留2厘米间隔，且干燥层23由氯化钙颗粒组成，干燥层23可以提高烘干效果，同时活性炭过滤层24可以对烘干产生的气体进行吸附过滤，去除有害物质，保障操作人员身体健康。

工作原理：实际操作时，首先操作人员通过万向轮2把该硅片烘干装置推到工作地点，再打开顶盖18往储水室4内注入适量的清洗剂，然后操作人员通过PLC控制器25控制步进电机驱动器15打开数字液压缸14，推动活塞向上移动，使得放置结构16伸出箱体1，把硅片镶嵌于放置槽165内，接着把放置结构16收回处理室5内部，并通过卡扣19与卡头20把顶盖18固定在箱体1上。使用时，操作人员通过PLC控制器25打开水泵10把储水室4内的清洗剂通过输水管11导入处理室5，然后操作人员通过PLC控制器25控制超声波发生器13发出超声波，利用换能器12可以把超声波转化为机械震荡传递给集水仓6内的清洗剂，便于硅片清洗，清洗效率大大提高；清洗结束后，可打开止回阀9把清洗剂从排水管8导入储水室4进行回收，通过三组过滤网7可以对清洗后的清洗剂进行过滤回收，之后操作人员通过PLC控制器25打开电加热管17对硅片进行烘干处理，利用干燥层23可以提高烘干效果，同时活性炭过滤层24可以对烘干产生的气体进行吸附过滤，去除有害物质，保障操作人员身体健康，清洗与烘干一体化，效率大大提高。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (7)

1.一种硅片烘干装置，包括箱体(1)，其特征在于：所述箱体(1)底面四个拐角均固定连接有万向轮(2)，所述箱体(1)内部通过多孔隔板(3)分为下方的储水室(4)和上方的处理室(5)，所述多孔隔板(3)底面密封连接有集水仓(6)，所述集水仓(6)底面中部设置有排水管(8)，且排水管(8)上安装有止回阀(9)，所述储水室(4)底面右侧安装有水泵(10)，所述水泵(10)上表面中部通过输水管(11)与处理室(5)连通，所述集水仓(6)底面安装有换能器(12)，所述多孔隔板(3)上表面中部可拆卸连接有数字液压缸(14)，所述数字液压缸(14)正面中部安装有步进电机驱动器(15)，所述数字液压缸(14)活塞顶端螺纹连接有放置结构(16)，所述处理室(5)左右两侧内壁均安装有电加热管(17)，所述箱体(1)顶端可拆卸连接有顶盖(18)，所述顶盖(18)左右两侧均转动连接有卡扣(19)，且箱体(1)左右两侧顶端均固定连接有与卡扣(19)相对应的卡块(20)，所述顶盖(18)上表面设置有通风孔(21)，所述箱体(1)正面中部上端安装有PLC控制器(25)，所述PLC控制器(25)下方安装有超声波发生器(13)，所述箱体(1)左侧底端设置有废水排放管(26)。

2.根据权利要求1所述的一种硅片烘干装置，其特征在于：所述集水仓(6)内部为漏斗式空腔，所述集水仓(6)内壁镶嵌连接有三组过滤网(7)，且三组所述过滤网(7)孔径从上往下依次减小。

3.根据权利要求1所述的一种硅片烘干装置，其特征在于：所述换能器(12)安装有五组，且五组换能器(12)以圆周均匀分部在集水仓(6)底面。

4.根据权利要求1所述的一种硅片烘干装置，其特征在于：所述数字液压缸(14)活塞最大行程为50厘米，所述数字液压缸(14)为MSWAY型数字液压缸，且数字液压缸(14)通过导线与步进电机驱动器(15)电性连接。

5.根据权利要求1所述的一种硅片烘干装置，其特征在于：所述放置结构(16)还包括底板(161)、支撑柱(162)、中间支撑板(163)、上盖板(164)和放置槽(165)，所述底板(161)上表面中心处螺纹连接有支撑柱(162)，所述支撑柱(162)中部可拆卸连接有中间支撑板(163)，所述支撑柱(162)顶端螺纹连接有上盖板(164)，所述底板(161)上表面、中间支撑板(163)上下两面与上盖板(164)底面均设置有放置槽(165)。

6.根据权利要求5所述的一种硅片烘干装置，其特征在于：相邻所述放置槽(165)之间保留1厘米间隔，且放置槽(165)内壁均粘接有缓冲海绵(166)。

7.根据权利要求1所述的一种硅片烘干装置，其特征在于：所述顶盖(18)底面左右两侧固定连接有挡板(22)，所述挡板(22)内部镶嵌连接有干燥层(23)和活性炭过滤层(24)，所述活性炭过滤层(24)设置于干燥层(23)上方，所述干燥层(23)与活性炭过滤层(24)之间保留2厘米间隔，且干燥层(23)由氯化钙颗粒组成。

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