CN209974876U - 一种可调节高度的立式双面磁控溅射镀膜设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种可调节高度的立式双面磁控溅射镀膜设备，包括机箱，所述机箱的上端安装有支撑件，所述支撑件的上端一侧安装有真空箱，所述真空箱的上端一侧安装有磁控靶头，所述支撑件上滑动连接有溅射靶台，所述溅射靶台的下端两侧分别焊接有导向轴，所述导向轴滑动连接在支撑件上。本实用新型通过伺服电机的正转和反转，使得转动轴带动两个转动螺纹发生转动，带动两个活动套在转动螺纹上进行相互靠近和远离，从而使得连杆的上端发生高度变化，从而使得溅射靶台的高度进行调节，当磁控溅射的范围固定的话，通过溅射靶台的高度调节，使得基片的溅射范围发生变化，从而更好的适应不同的产品需求。

Description

一种可调节高度的立式双面磁控溅射镀膜设备

技术领域

本实用新型涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种可调节高度的立式双面磁控溅射镀膜设备。

背景技术

磁控溅射镀膜设备是一种利用溅射的方式进行镀膜的设备，可以有效的提高产品的外观质量，同时也可以对不同的产品进行外观保护；

目前的磁控溅射镀膜设备的磁控溅射靶以及蒸发源都是固定安装在真空室内，使用灵活性较差，使得镀膜过程中，镀膜产品与溅射把头的距离不便于调节，使得镀膜的溅射范围不便于调节，不利于满足镀膜产品的各项需求。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的问题，而提出的一种可调节高度的立式双面磁控溅射镀膜设备。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种可调节高度的立式双面磁控溅射镀膜设备，包括机箱，所述机箱的上端安装有支撑件，所述支撑件的上端一侧安装有真空箱，所述真空箱的上端一侧安装有磁控靶头，所述支撑件上滑动连接有溅射靶台，所述溅射靶台的下端两侧分别焊接有导向轴，所述导向轴滑动连接在支撑件上，两个所述导向轴的下端共同焊接有连接座，所述连接座和机箱的侧壁上共同安装有调节装置。

优选地，所述调节装置包括伺服电机,所述机箱的侧壁上焊接有固定块，所述固定块上安装有轴承，所述伺服电机的输出端安装有转动轴，所述转动轴远离伺服电机的一端过盈配合在轴承的内圈上，所述转动轴上一体成型有两个转动螺纹，且两个转动螺纹的螺纹方向相反，两个所述转动螺纹上均螺纹连接有活动套，两个所述活动套上均螺纹连接有连杆，所述连杆远离活动套的一端转动连接在连接座上。

优选地，所述转动轴位于两个转动螺纹之间的位置焊接有中格挡。

优选地，所述转动轴位于两个转动螺纹相互远离的一端均焊接有外格挡。

优选地，所述溅射靶台和支撑件均超出机箱边缘。

优选地，所述连杆转动连接在活动套两端，且两个连杆分别转动连接在连接座下端两侧。

本实用新型与现有技术相比具有以下好处：

1、本实用新型通过伺服电机的正转和反转，使得转动轴带动两个转动螺纹发生转动，带动两个活动套在转动螺纹上进行相互靠近和远离，从而使得连杆的上端发生高度变化，从而使得溅射靶台的高度进行调节，当磁控溅射的范围固定的话，通过溅射靶台的高度调节，使得基片的溅射范围发生变化，从而更好的适应不同的产品需求；

2、通过导向轴对溅射靶台的移动进行限位，提高溅射靶台的移动稳定性，同时通过溅射靶台的高度调节，可以控制对基片的溅射强度，有利于调节基片的溅射稳定点。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种可调节高度的立式双面磁控溅射镀膜设备的结构图；

图2为本实用新型提出的一种可调节高度的立式双面磁控溅射镀膜设备的A部分放大图。

图中：1机箱、2伺服电机、3转动轴、4转动螺纹、5活动套、6固定块、7连杆、8连接座、9导向轴、10支撑件、11真空箱、12溅射靶台、13磁控靶头、14外格挡。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

参照图1-2，一种可调节高度的立式双面磁控溅射镀膜设备，包括机箱1，机箱1的上端安装有支撑件10，支撑件10的上端一侧安装有真空箱11，真空箱11的上端一侧安装有磁控靶头13，支撑件10上滑动连接有溅射靶台12，溅射靶台12的下端两侧分别焊接有导向轴9，导向轴9滑动连接在支撑件10上，两个导向轴9的下端共同焊接有连接座8，连接座8和机箱1的侧壁上共同安装有调节装置，通过调节装置带动连接座8进行移动，从而通过导向轴9带动溅射靶台12发生高度调节。

进一步的，调节装置包括伺服电机2,机箱1的侧壁上焊接有固定块6，固定块6上安装有轴承，伺服电机2的输出端安装有转动轴3，转动轴3远离伺服电机2的一端过盈配合在轴承的内圈上，转动轴3上一体成型有两个转动螺纹4，且两个转动螺纹4的螺纹方向相反，两个转动螺纹4上均螺纹连接有活动套5，两个活动套5上均螺纹连接有连杆7，连杆7远离活动套5的一端转动连接在连接座8上，通过伺服电机2的正转和反转，使得转动轴3带动两个转动螺纹4发生转动，带动两个活动套5在转动螺纹4上进行相互靠近和远离，从而使得连杆7的上端发生高度变化，带动溅射靶台12发生移动。

更进一步的，转动轴3位于两个转动螺纹4之间的位置焊接有中格挡。转动轴3位于两个转动螺纹4相互远离的一端均焊接有外格挡14，限制活动套5的活动范围，防止活动套5脱离转动螺纹4。溅射靶台12和支撑件10均超出机箱1边缘，使得导向轴9和转动轴3等处于同一侧，可推动溅射靶台12进行移动。连杆7转动连接在活动套5两端，且两个连杆7分别转动连接在连接座8下端两侧，两个连杆7的上端运动互不干涉。

本实用新型使用时，通过伺服电机2带动转动轴3进行转动，从而使得转动轴3带动两个转动螺纹4转动，由于活动套5与转动螺纹4啮合，且两个转动螺纹4的斜纹方向相反，使得两个活动套5可同时做相互远离或靠近的运动，当两个活动套5通过转动螺纹4带动，使得活动套5相互靠近，通过连杆7向上推动连接座8，同时使得两个导向轴9带动溅射靶台12向上移动，通过两个导向轴9限位，可提高溅射靶台12的移动稳定性，当两个活动套5在转动螺纹4上相互远离时，使得两个连杆7的上端高度下降，从而使连接座8的高度下降，连接座8的高度调节可通过伺服电机2的正转和翻转完成。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种可调节高度的立式双面磁控溅射镀膜设备，包括机箱(1)，其特征在于，所述机箱(1)的上端安装有支撑件(10)，所述支撑件(10)的上端一侧安装有真空箱(11)，所述真空箱(11)的上端一侧安装有磁控靶头(13)，所述支撑件(10)上滑动连接有溅射靶台(12)，所述溅射靶台(12)的下端两侧分别焊接有导向轴(9)，所述导向轴(9)滑动连接在支撑件(10)上，两个所述导向轴(9)的下端共同焊接有连接座(8)，所述连接座(8)和机箱(1)的侧壁上共同安装有调节装置。

2.根据权利要求1所述的一种可调节高度的立式双面磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述调节装置包括伺服电机(2),所述机箱(1)的侧壁上焊接有固定块(6)，所述固定块(6)上安装有轴承，所述伺服电机(2)的输出端安装有转动轴(3)，所述转动轴(3)远离伺服电机(2)的一端过盈配合在轴承的内圈上，所述转动轴(3)上一体成型有两个转动螺纹(4)，且两个转动螺纹(4)的螺纹方向相反，两个所述转动螺纹(4)上均螺纹连接有活动套(5)，两个所述活动套(5)上均螺纹连接有连杆(7)，所述连杆(7)远离活动套(5)的一端转动连接在连接座(8)上。

3.根据权利要求2所述的一种可调节高度的立式双面磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述转动轴(3)位于两个转动螺纹(4)之间的位置焊接有中格挡。

4.根据权利要求2所述的一种可调节高度的立式双面磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述转动轴(3)位于两个转动螺纹(4)相互远离的一端均焊接有外格挡(14)。

5.根据权利要求1所述的一种可调节高度的立式双面磁控溅射镀膜设备，其特征在于,所述溅射靶台(12)和支撑件(10)均超出机箱(1)边缘。

6.根据权利要求2所述的一种可调节高度的立式双面磁控溅射镀膜设备，其特征在于,所述连杆(7)转动连接在活动套(5)两端，且两个连杆(7)分别转动连接在连接座(8)下端两侧。

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