CN209935371U - 一种单晶硅片清洗装置 - Google Patents

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唐磊
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Abstract

本实用新型公开了一种单晶硅片清洗装置,包括输送架,输送架设有定位调节机构、清洁机构和两个喷洗机构,清洁机构和两个喷洗机构位于定位调节机构的上方,两个喷洗机构沿输送架的输送方向依次设置,清洁机构位于两个喷洗机构之间,定位调节机构包括螺杆、两个导杆和两个定位板,螺杆、两个导杆均平行横跨在输送架上,导杆与输送架固定连接,螺杆位于两个导杆之间且与输送架转动连接,螺杆前后两端螺纹连接有两个定位板,两个定位板与螺杆的螺纹连接方向相反,螺杆其中一端延伸至输送架外侧连接调节盘。本实用新型可满足多种规格尺寸单晶硅片的清洗,不需要对每个单晶硅片进行单独夹持固定且清洗效率高。

Description

一种单晶硅片清洗装置
技术领域
本实用新型属于太阳能电池板生产技术领域,具体涉及一种单晶硅片清洗装置。
背景技术
目前,市场上常见的单晶硅片清洗都是通过人工清洗的,但此类清洗方式的劳动强度较大且工作效率较低,因此,市场上出现了一些清洗装置,此类清洗装置通过夹具将单晶硅片夹持后,先用脱胶剂将单晶硅片进行喷洗,再进行物理清洁,但此类清洗装置在实际运用中存在一定的缺陷:1、单晶硅片夹持部位无法清理,需要手动转换位置再进行清理,操作麻烦;2、每个硅片均需要先夹持固定,再进行清洗,清洗效率低下。
发明内容
本实用新型针对背景技术中的不足,提供了一种单晶硅片清洗装置,通过本实用新型可满足多种规格尺寸单晶硅片的清洗,不需要对每个单晶硅片进行单独夹持固定且清洗效率高。
为实现上述目的,本实用新型技术解决方案如下:
一种单晶硅片清洗装置,包括输送架,其特征在于:所述输送架设有定位调节机构、清洁机构和两个喷洗机构,清洁机构和两个喷洗机构位于定位调节机构的上方,两个所述喷洗机构沿输送架的输送方向依次设置,清洁机构位于两个喷洗机构之间,所述定位调节机构包括螺杆、两个导杆和两个定位板,螺杆、两个导杆均平行横跨在输送架上,导杆与输送架固定连接,螺杆位于两个导杆之间且与输送架转动连接,螺杆前后两端螺纹连接有两个定位板,两个定位板与螺杆的螺纹连接方向相反,所述螺杆其中一端延伸至输送架外侧连接调节盘。
优选的,所述输送架由架体、若干个依次排布在架体上的输送辊和驱动输送辊旋转的第一电机组成,每个输送辊上设有若干个滚轮。
优选的,所述滚轮的环向外端面上均匀设有若干个收纳槽,每个收纳槽内转动连接有滚轴,滚轴的中心轴线与滚轮的中心轴线相互垂直。
优选的,所述输送架下方设有废水槽,废水槽下端设有放水管,放水管上设有阀门。
优选的,所述清洁机构包括驱动箱、第二电机和清洁刷,驱动箱为中空长方体结构并横跨在输送架上,驱动箱内设有转轴、第一锥齿轮、第二锥齿轮和支杆,转轴与驱动箱转动连接并连接第二电机,第一锥齿轮设于转轴上,第二锥齿轮一端连接支杆,另一端与第一锥齿轮啮合,支杆穿过驱动箱并连接清洁刷,支杆与驱动箱底壁转动连接。
优选的,所述支杆由固定杆和套管组成,固定杆上端与第二锥齿轮连接,套管,下端嵌入套管内,并通过设在套管上的螺栓进行紧固连接。
优选的,所述喷洗机构包括储液罐、水泵、水管、分流仓和喷头,分流仓横跨在输送架上方,分流仓通过水管连接水泵和储液罐,分流仓的底端均匀分布有若干个喷头。
优选的,所述分流仓为长方体且其内部设有空腔,空腔的前后两端均设有活塞,活塞与分流仓内壁滑动连接,活塞一侧转动连接有活塞杆,活塞杆为螺纹杆,并与其相应一侧的分流仓侧壁螺纹连接,活塞杆端部外伸连接旋钮。
优选的,所述定位板的内侧设有辅助刷。
相对于现有技术,本实用新型有益效果如下:
本实用新型利用输送辊对单晶硅片进行输送,依次经过喷洗机构、清洗机构和喷洗机构,从而完成整个清洗过程,保证单晶硅片的清洗效果,不需要对每个单晶硅片进行单独夹持固定,提高了清洗效率;本实用新型两个定位板之间的距离可以调节,喷洗机构的分流仓的空腔容积也可以自由调节,而且套管和清洁刷可自由拆卸,从而满足多种规格尺寸的单晶硅片清洗要求,适用范围广,实用性强,适宜推广。
附图说明
通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述,本实用新型的其它特征、目的和优点将会变得更明显。
图1为本实用新型结构示意图;
图2为本实用新型俯视结构示意图;
图3为本实用新型清洗机构结构示意图;
图4为本实用新型喷洗机构结构示意图;
图5为本实用新型定位板的侧视结构示意图;
图6为本实用新型滚轮的侧视结构示意图;
图中:1、输送辊,2、第一电机,3、滚轮,301、收纳槽,302、滚轴,4、清洗机构,401、驱动箱,402、第二电机,403、清洁刷,404、转轴,405、第一锥齿轮,406、第二锥齿轮,407、固定杆,408、套管,5、喷洗机构,501、储液罐,502、水泵,503、水管,504、分流仓,505、喷头,506、活塞,507、活塞杆,508、旋钮,6、螺杆,7、导杆,8、定位板,9、调节盘,10、废水槽,11、放水管,12、阀门,13、辅助刷,14、架体。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中部”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接;可以是机械连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
如图1和图2所示,一种单晶硅片清洗装置,包括输送架,输送架下方设有废水槽10,废水槽下端设有放水管11,放水管上设有阀门12,废水槽便于单晶硅片清洗后水的收集,统一回收或排放。输送架由架体14、若干个依次排布在架体上的输送辊1和驱动输送辊旋转的第一电机2组成,第一电机驱动依次排布的输送辊旋转,依次排布的输送辊可通过同步带连接,并由第一电机驱动旋转,对输送架上方的单晶硅片进行输送,每个输送辊上设有若干个滚轮3,结合图6所示,滚轮的环向外端面上均匀设有若干个收纳槽301,每个收纳槽内转动连接有滚轴302,滚轴的中心轴线与滚轮的中心轴线相互垂直,滚轮的此种结构设计可便于输送辊上的单晶硅片多方向移动,既便于沿输送方向移动,也便于沿输送方向的垂直方向移动,便于定位调节机构的调节,输送架设有定位调节机构、清洁机构4和两个喷洗机构5,清洁机构和两个喷洗机构位于定位调节机构的上方,两个喷洗机构沿输送架的输送方向依次设置,清洁机构位于两个喷洗机构之间,定位调节机构包括螺杆6、两个导杆7和两个定位板8,螺杆、两个导杆均平行横跨在输送架上,导杆与输送架固定连接,螺杆位于两个导杆之间且与输送架转动连接,螺杆前后两端螺纹连接有两个定位板,两个定位板与螺杆的螺纹连接方向相反,螺杆其中一端延伸至输送架外侧连接调节盘9,通过旋转调节盘,驱动螺杆旋转,从而控制两个定位板同时向螺杆的中部或两端运动,调节两个定位板之间的距离,以满足多种规格尺寸的单晶硅片的清洗要求,结合图5所示,定位板的内侧设有辅助刷13,可进一步加强单晶硅片的清洗效果。
结合图3所示,清洁机构包括驱动箱401、第二电机402和清洁刷403,驱动箱为中空长方体结构并横跨在输送架上,驱动箱内设有转轴404、第一锥齿轮405、第二锥齿轮406和支杆,转轴与驱动箱转动连接并连接第二电机,第一锥齿轮设于转轴上,第二锥齿轮一端连接支杆,另一端与第一锥齿轮啮合,支杆穿过驱动箱并连接清洁刷,支杆与驱动箱底壁转动连接,工作时,第二电机驱动转轴旋转,转轴上依次分布有若干个第一锥齿轮,第一锥齿轮在转轴的驱动下旋转,同时驱动第二锥齿轮旋转,第二锥齿轮驱动清洁刷旋转,对单晶硅片的表面进行清洁,支杆由固定杆407和套管408组成,固定杆上端与第二锥齿轮连接,套管,下端嵌入套管内,并通过设在套管上的螺栓进行紧固连接,清洁刷和套管可与支杆自由拆卸,当单晶硅片的尺寸较小时,可将不需要的清洁刷卸下,减少能源消耗。
结合图4所示,喷洗机构包括储液罐501、水泵502、水管503、分流仓504和喷头505,分流仓横跨在输送架上方,分流仓通过水管连接水泵和储液罐,分流仓的底端均匀分布有若干个喷头,分流仓为长方体且其内部设有空腔,空腔的前后两端均设有活塞506,活塞与分流仓内壁滑动连接,活塞一侧转动连接有活塞杆507,活塞杆为螺纹杆,并与其相应一侧的分流仓侧壁螺纹连接,活塞杆端部外伸连接旋钮508。在实际使用过程中,水泵将储液罐中的清洗液输送至分流仓内,并经喷头喷至单晶硅片的表面。位于输送架输送方向的上游位置的喷洗机构(即第一喷洗机构)的储液罐中可装入清洗液,第一喷洗机构中的清洗液可以为清水或洗涤液或清水、洗涤液的混合液, 另一个喷洗机构(即第二喷洗机构)的储液罐中的清洗液可以为清水,在清洁机构对单晶硅片表面进行物理清洗后,再进行冲刷。此外,分流仓的空腔容积可以通过旋钮,旋转活塞杆,驱动活塞沿分流仓内壁滑动,控制两个活塞之间的距离,从而以满足多种规格尺寸单晶硅片的喷洗要求。
本实用新型的工作原理如下:
如图1至图6所示,使用前,先根据单晶硅片的尺寸,旋转调节盘9,驱动螺杆6旋转,控制两个定位板8相互靠近或分离,调节两个定位板8之间的距离,使之与单晶硅片的尺寸相匹配;然后再根据单晶硅片的尺寸调节旋钮508,改变分流仓504内腔的容积,使分流仓504内部的清洗液只能由两个活塞506之间的喷头505喷出,对单晶硅片进行喷洗;最后,再根据单晶硅片的尺寸,选择性的安装套管408和清洁刷403,以安装好的清洁刷403可将两个定位板8之间的单晶硅片进行完全的刷洗为准。使用时,启动第一电机2,驱动输送辊1旋转,对单晶硅片进行持续输送,两个定位板8可对单晶硅片进行定位,将其限制与两个定位板8之间,当单晶硅片经过第一喷洗机构5时,清洗液喷淋至单晶硅片表面,将其表面进行润湿,然后再经过清洁机构4,第二电机402驱动转轴404旋转,转轴404驱动第一锥齿轮405旋转,第一锥齿轮405驱动第二锥齿轮406旋转,第二锥齿轮406驱动清洁刷403旋转,对单晶硅片表面进行物理清洗,然后,当单晶硅片经过第二喷洗机构5时,再利用清水将污垢冲刷干净,从而完成单晶硅片的清洗工作。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点,对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。

Claims (9)

1.一种单晶硅片清洗装置,包括输送架,其特征在于:所述输送架设有定位调节机构、清洁机构和两个喷洗机构,清洁机构和两个喷洗机构位于定位调节机构的上方,两个所述喷洗机构沿输送架的输送方向依次设置,清洁机构位于两个喷洗机构之间,所述定位调节机构包括螺杆、两个导杆和两个定位板,螺杆、两个导杆均平行横跨在输送架上,导杆与输送架固定连接,螺杆位于两个导杆之间且与输送架转动连接,螺杆前后两端螺纹连接有两个定位板,两个定位板与螺杆的螺纹连接方向相反,所述螺杆其中一端延伸至输送架外侧连接调节盘。
2.如权利要求1所述的一种单晶硅片清洗装置,其特征在于:所述输送架由架体、若干个依次排布在架体上的输送辊和驱动输送辊旋转的第一电机组成,每个输送辊上设有若干个滚轮。
3.如权利要求2所述的一种单晶硅片清洗装置,其特征在于:所述滚轮的环向外端面上均匀设有若干个收纳槽,每个收纳槽内转动连接有滚轴,滚轴的中心轴线与滚轮的中心轴线相互垂直。
4.如权利要求1所述的一种单晶硅片清洗装置,其特征在于:所述输送架下方设有废水槽,废水槽下端设有放水管,放水管上设有阀门。
5.如权利要求1所述的一种单晶硅片清洗装置,其特征在于:所述清洁机构包括驱动箱、第二电机和清洁刷,驱动箱为中空长方体结构并横跨在输送架上,驱动箱内设有转轴、第一锥齿轮、第二锥齿轮和支杆,转轴与驱动箱转动连接并连接第二电机,第一锥齿轮设于转轴上,第二锥齿轮一端连接支杆,另一端与第一锥齿轮啮合,支杆穿过驱动箱并连接清洁刷,支杆与驱动箱底壁转动连接。
6.如权利要求5所述的一种单晶硅片清洗装置,其特征在于:所述支杆由固定杆和套管组成,固定杆上端与第二锥齿轮连接,套管,下端嵌入套管内,并通过设在套管上的螺栓进行紧固连接。
7.如权利要求1所述的一种单晶硅片清洗装置,其特征在于:所述喷洗机构包括储液罐、水泵、水管、分流仓和喷头,分流仓横跨在输送架上方,分流仓通过水管连接水泵和储液罐,分流仓的底端均匀分布有若干个喷头。
8.如权利要求7所述的一种单晶硅片清洗装置,其特征在于:所述分流仓为长方体且其内部设有空腔,空腔的前后两端均设有活塞,活塞与分流仓内壁滑动连接,活塞一侧转动连接有活塞杆,活塞杆为螺纹杆,并与其相应一侧的分流仓侧壁螺纹连接,活塞杆端部外伸连接旋钮。
9.如权利要求1所述的一种单晶硅片清洗装置,其特征在于:所述定位板的内侧设有辅助刷。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN113451440A (zh) * 2021-06-10 2021-09-28 浙江艾能聚光伏科技股份有限公司 一种黑硅电池片的生产方法

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