CN209560263U - 一种新型晶圆涂胶显影装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种新型晶圆涂胶显影装置，包括内保护罩，内保护罩表面套接有轴心相同的外保护罩，外保护罩和内保护罩之间采用可拆分连接，外保护罩和内保护罩均适配4寸晶圆，内保护罩顶面开设的透孔内部设置有吸盘，吸盘的表面吸附晶圆，内保护罩的内壁上安装有对晶圆背面进行反冲洗的喷头，喷头朝向吸盘的支撑柱杆。电气机械组件工作正常，实现4寸晶圆涂胶，且涂胶均匀，无故障发生，产能达到涂胶显影机指标要求，能够除了晶圆背面多余的光刻胶，提升涂胶影响的工艺精度，实用性能优，是一种很好的创新方案，很有市场推广前景。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体集成电路制造技术领域，特别涉及一种新型晶圆涂胶显影装置。
背景技术
随着半导体、LED行业的飞速发展，晶圆种类也越来越多，对测试要求也越来越高，对于晶圆的定位精度要求也越来越高。其中，在芯片的制造过程中，需要使用到半导体设备涂胶显影机。
半导体设备涂胶显影机是一种将不同工艺制程的机台整合在一起，半导体设备涂胶显影机主要由载片系统，传送系统和制程系统三部分构成，其主要功能是光刻胶在晶圆表面的涂敷和显影，由于涂胶显影机市面上大部分是按8寸晶圆设计的，在涂胶中晶圆背面会流入多余的光刻胶，而光刻胶又具有腐蚀性，容易对部件造成损伤，不能满足工艺的要求，且不能适配4寸晶圆的涂胶显影，存在着不足，不能满足用户的要求。
综上所述，针对现有技术的缺陷，特别需要一种新型晶圆涂胶显影装置，以解决现有技术的不足。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种新型晶圆涂胶显影装置，设计新颖，电气机械组件工作正常，能够除了晶圆背面多余的光刻胶，提升涂胶影响的工艺精度，实用性能优，已解决现有技术的缺陷。
为了实现上述目的，本实用新型的技术方案如下：
一种新型晶圆涂胶显影装置，包括内保护罩，内保护罩表面套接有轴心相同的外保护罩，外保护罩和内保护罩之间采用可拆分连接，外保护罩和内保护罩均适应4寸晶圆，内保护罩顶面开设的透孔内部设置有吸盘，吸盘的表面吸附晶圆，内保护罩的内壁上安装有对晶圆背面进行反冲洗的喷头，喷头朝向吸盘的支撑柱杆。
进一步，所述外保护罩和内保护罩均采用聚四氟乙烯。
进一步，所述喷头采用广角喷头，喷头采用的材质为不锈钢304材质。
进一步，喷头的底部设置废液槽。
本实用新型的有益效果是：设计新颖，电气机械组件工作正常，实现4寸晶圆涂胶，且涂胶均匀，无故障发生，产能达到涂胶显影机指标要求，能够除了晶圆背面多余的光刻胶，提升涂胶影响的工艺精度，实用性能优，是一种很好的创新方案，很有市场推广前景。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式来详细说明本实用新型：
图1为本实用新型结构图1；
图2为本实用新型结构图2。
图3为本实用新型的剖面结构图；
图中100-外保护罩；110-内保护罩；120-喷嘴；130-吸盘；140-支撑柱杆。
具体实施方式
为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本实用新型。
如图1、图2、图3所示，一种新型晶圆涂胶显影装置，包括内保护罩110，内保护罩110表面套接有轴心相同的外保护罩100，外保护罩100和内保护罩110之间采用可拆分连接，外保护罩100和内保护罩110均适应4寸晶圆，内保护罩110顶面开设的透孔内部设置有吸盘130，吸盘130的表面吸附晶圆，内保护罩110的内壁上安装有对晶圆背面进行反冲洗的喷头130，喷头130朝向吸盘130的支撑柱杆140。
另外，外保护罩100和内保护罩110均采用聚四氟乙烯。喷头130采用广角喷头，喷头130采用的材质为不锈钢304材质。喷头130的底部设置废液槽。
本实用新型在内保护罩表面套接外保护罩，内保护罩的顶面放置吸盘，外保护罩和内保护罩均采用聚四氟乙烯，化学性能稳定，防腐蚀性能好，而且很方便装配，易于清洗，且采用模压成型，一致性好，外保护罩保证晶圆的装载，外保护罩的内孔比晶圆大，且不能过大，防止废液甩出时不能有效遮挡，内盖承接生产中的废液，喷头可以喷清理液，对晶圆背面进行有效的清洁，然后废液落入废液槽，能够有效清理晶圆背面多余光刻胶，提高产品的工艺。
本实用新型的有益效果是：设计新颖，电气机械组件工作正常，实现4寸晶圆涂胶，且涂胶均匀，无故障发生，产能达到涂胶显影机指标要求，能够除了晶圆背面多余的光刻胶，提升涂胶影响的工艺精度，实用性能优，是一种很好的创新方案，很有市场推广前景。
本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定。
Claims (4)
1.一种新型晶圆涂胶显影装置，包括内保护罩，其特征在于：内保护罩表面套接有轴心相同的外保护罩，外保护罩和内保护罩之间采用可拆分连接，外保护罩和内保护罩均适配4寸晶圆，内保护罩顶面开设的透孔内部设置有吸盘，吸盘的表面吸附晶圆，内保护罩的内壁上安装有对晶圆背面进行反冲洗的喷头，喷头朝向吸盘的支撑柱杆。
2.根据权利要求1所述一种新型晶圆涂胶显影装置，其特征在于：所述外保护罩和内保护罩均采用聚四氟乙烯。
3.根据权利要求1所述一种新型晶圆涂胶显影装置，其特征在于：所述喷头采用广角喷头，喷头采用的材质为不锈钢304材质。
4.根据权利要求1所述一种新型晶圆涂胶显影装置，其特征在于：喷头的底部设置废液槽。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN201920354957.4U CN209560263U (zh) | 2019-03-20 | 2019-03-20 | 一种新型晶圆涂胶显影装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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| CN209560263U true CN209560263U (zh) | 2019-10-29 |
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Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN201920354957.4U Active CN209560263U (zh) | 2019-03-20 | 2019-03-20 | 一种新型晶圆涂胶显影装置 |
Country Status (1)
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| CN (1) | CN209560263U (zh) |
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2019
- 2019-03-20 CN CN201920354957.4U patent/CN209560263U/zh active Active
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