CN209537604U - 一种复合材料磁控溅射镀膜的前处理设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种复合材料磁控溅射镀膜的前处理设备,包括处理箱体,所述处理箱体上设置有冷泵,所述冷泵与处理箱体内贯通连接,所述冷泵上设置有分子泵,所述处理箱体内设置有轨道架和离子源,所述轨道架上设置有产品固定架,所述轨道架带动产品固定架移动,所述离子源朝向产品固定架设置,所述处理箱体位于产品固定架移动方向的两侧均设置有箱门。本实用新型能够去除镀膜腔体工艺温度降低导致的高湿度和高放气量,脱落空气中游离的杂质并抽离,提高单位腔体抽真空效率和维护真空度稳定,从而保证后续镀膜的良率。
Description
技术领域
本实用新型涉及表面处理技术领域,具体涉及一种复合材料磁控溅射镀膜的前处理设备。
背景技术
手机背盖的是手机后部的外壳体,一般采用金属、玻璃以及复合材质,由于复合材质质感不佳,因此近年来金属材质和玻璃材质使用较为普遍,但是由于5G时代的来临,第五代通信频率对材质要求较高,金属材质和玻璃材质无法满足使用要求,从而复合材质(非导体材质)成为5G主流材料运用。
由于材质本身限制,镀膜制备温度从原来的400摄氏度要下降到最高100 多摄氏度,因此在设备入口环境中就会存在大量的水气并高度影响设备工艺真空度,当进行镀膜时,会极大的影响镀膜质量,良率较低,甚至不能生产,无法采用现有镀膜生产金属材质和玻璃材质的设备直接替代实现。
发明内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种全新复合材料磁控溅射镀膜的前处理设备,能够去除低温镀膜环境内的水气和影响真空的杂质,从而实现低温镀膜工艺和保证后续镀膜的良率。
为了解决上述技术问题,本实用新型提供了一种复合材料磁控溅射镀膜的前处理设备,包括处理箱体,所述处理箱体上设置有冷泵,所述冷泵与处理箱体内贯通连接,所述冷泵上设置有分子泵,所述处理箱体内设置有轨道架和离子源,所述轨道架上设置有产品固定架,所述轨道架带动产品固定架移动,所述离子源朝向产品固定架设置,所述处理箱体位于产品固定架移动方向的两侧均设置有箱门。
进一步的,所述离子源和冷泵分别设置在产品固定架的两个表面两侧。
进一步的,所述产品固定架包括移动框,所述移动框内设置有材料夹持组件,所述材料夹持组件包括从上之下依次设置的第一横梁、第二横梁和第三横梁,所述第一横梁上设置有第一卡件,所述第三横梁上设置有第二卡件,所述第二横梁上设置有压块,所述压块与弹力组件连接,所述弹力组件设置在第二横梁上,所述弹力组件提供压块抵触第二横梁表面的压紧力,所述第一卡件、第二卡件和压块配合限位。
进一步的,所述第一卡件和第二卡件均为n字形结构,所述n字形结构的一侧表面底部设置有弧形导向部。
进一步的,所述材料夹持组件的数量至少为2,相邻的第一横梁和第三横梁配合形成承载梁,所述承载梁上设置有第一卡件和第二卡件。
进一步的,所述第一横梁、第二横梁和第三横梁位于端部一侧的表面上均设置有挂载板,所述挂载板对应的移动框内壁上设置有腰形孔,所述挂载板通过螺钉和腰形孔配合固定。
本实用新型的有益效果:
通过冷泵与分子泵配合进行抽真空,冷泵将通过分子泵的气液体等物质直接降温凝结并顺利抽离,同时配合离子源脱落空气中游离的杂质也从分子泵抽离排出,因此可以保证处理箱体内真空环境满足镀膜需求。
处理箱体两侧采用箱门的方式,可以与入料段和镀膜段密封连接在一起,使用时通过箱门间断打开达到保护真空以及环境中水份杂质等的存在量。
离子源能够有效的对非导体材料表面清洗,去除杂质颗粒,保证后续镀膜的稳定性。
附图说明
图1是本实用新型的箱体结构示意图;
图2是本实用新型的箱体截面示意图;
图3是本实用新型的产品固定架结构示意图;
图4是本实用新型的卡件结构示意图;
图5是本实用新型承载梁结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明,以使本领域的技术人员可以更好地理解本实用新型并能予以实施,但所举实施例不作为对本实用新型的限定。
参照图1和图2所示,本实用新型的复合材料磁控溅射镀膜的前处理设备的一实施例,包括处理箱体1,处理箱体上设置有冷泵2,冷泵与处理箱体内贯通连接,冷泵上设置有分子泵3,冷泵和分子泵配合对处理箱体内进行初步抽真空,在抽真空的同时,冷泵将处理箱体空间中的水份等迅速降温凝结,离子源脱落空气中游离的杂质并从分子泵抽离,从而保证处理箱体内空间达到镀膜要求。
在处理箱体内设置有轨道架4和离子源5,轨道架上设置有产品固定架6,轨道架带动产品固定架移动,离子源朝向产品固定架设置,通过离子的冲击能够对产品固定架上的产品进行清洁;
在处理箱体位于产品固定架移动方向的两侧均设置有箱门7,通过间隔开闭保证入料环境与镀膜环境有效分隔。
其中,上述的离子源和冷泵分别设置在产品固定架的两个表面两侧,有效保证清洁效果。
参照图3和图4所示,产品固定架包括移动框11,移动框内设置有材料夹持组件12,材料夹持组件包括从上之下依次设置的第一横梁13、第二横梁14 和第三横梁15,第一横梁上设置有第一卡件16,第三横梁上设置有第二卡件 17,第二横梁上设置有压块18,压块与弹力组件连接,弹力组件设置在第二横梁上,弹力组件提供压块抵触第二横梁表面的压紧力,第一卡件、第二卡件和压块配合限位。第一横梁通过第一卡件的安装对原材料顶边进行限位,第三横梁通过第二卡件的安装对原材料底边进行限位,在安装时,稍许弯曲原材料即可插接卡设固定,第二横梁则通过压块对原材料的左右侧边进行压紧定位,在镀膜过程中,由于原材料四边均被定位并且有两边夹紧,因此稳定性好,不易掉落,达到良好的连续生产效果。
具体的,第一卡件和第二卡件均为n字形结构1011,n字形结构的一侧表面底部设置有弧形导向部110。当然也可以为倒V字形等结构,主要用于限位。弧形导向部在原材料安装时,侧边可以先直接抵在弧形导向部上,通过弧形导向部将原材料侧边顺利导向进行n字形结构内,提高操作便捷度。
为了合理的提高加工产能,将压块中部与连接端部连接,形成T型结构,压块的两端均能够用于压紧原材料侧边。
上述的第一横梁、第二横梁和第三横梁位于端部一侧的表面上均设置有挂载板115,挂载板对应的移动框内壁上设置有腰形孔116,挂载板通过螺钉和腰形孔配合固定,根据不同尺寸的原材料可以调节第一横梁、第二横梁和第三横梁之间的间距,调节速度快,操作简单方便;并且挂载板位于移动框内部,加工简单,连接强度高。
参照图5所示,在一实施例中,材料夹持组件的数量至少为2,并且为从上之下排布结构,在相邻的第一横梁和第三横梁配合形成承载梁117,即为一体结构,即原先设置在第一横梁和第三横上的第一卡件和第二卡件均一体设置在承载梁上,从而减少横梁的使用,结构紧凑,降低重量。
以上实施例仅是为充分说明本实用新型而所举的较佳的实施例,本实用新型的保护范围不限于此。本技术领域的技术人员在本实用新型基础上所作的等同替代或变换,均在本实用新型的保护范围之内。本实用新型的保护范围以权利要求书为准。
Claims (6)
1.一种复合材料磁控溅射镀膜的前处理设备,其特征在于,包括安装在离入口较近的处理箱体,所述处理箱体上设置有冷泵,所述冷泵与处理箱体内贯通连接,所述冷泵上设置有分子泵,所述处理箱体内设置有轨道架和离子源,所述轨道架上设置有产品固定架,所述轨道架带动产品固定架移动,所述离子源朝向产品固定架设置,所述处理箱体位于产品固定架移动方向的两侧均设置有箱门。
2.如权利要求1所述的复合材料磁控溅射镀膜的前处理设备,其特征在于,所述离子源和冷泵分别设置在产品固定架的两个表面两侧。
3.如权利要求1所述的复合材料磁控溅射镀膜的前处理设备,其特征在于,所述产品固定架包括移动框,所述移动框内设置有材料夹持组件,所述材料夹持组件包括从上之下依次设置的第一横梁、第二横梁和第三横梁,所述第一横梁上设置有第一卡件,所述第三横梁上设置有第二卡件,所述第二横梁上设置有压块,所述压块与弹力组件连接,所述弹力组件设置在第二横梁上,所述弹力组件提供压块抵触第二横梁表面的压紧力,所述第一卡件、第二卡件和压块配合限位。
4.如权利要求3所述的复合材料磁控溅射镀膜的前处理设备,其特征在于,所述第一卡件和第二卡件均为n字形结构,所述n字形结构的一侧表面底部设置有弧形导向部。
5.如权利要求3所述的复合材料磁控溅射镀膜的前处理设备,其特征在于,所述材料夹持组件的数量至少为2,相邻的第一横梁和第三横梁配合形成承载梁,所述承载梁上设置有第一卡件和第二卡件。
6.如权利要求3所述的复合材料磁控溅射镀膜的前处理设备,其特征在于,所述第一横梁、第二横梁和第三横梁位于端部一侧的表面上均设置有挂载板,所述挂载板对应的移动框内壁上设置有腰形孔,所述挂载板通过螺钉和腰形孔配合固定。
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CN112593200A (zh) * | 2020-12-28 | 2021-04-02 | 芯思杰技术(深圳)股份有限公司 | 镀膜治具、镀膜装置及镀膜方法 |
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