CN209389060U - 一种真空装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种真空装置,包括支架,所述支架上从下至上依次设有下腔体、平台和上腔体,所述下腔体与所述平台底端形成第一腔室,所述平台上端与所述上腔体形成第二腔室,所述第一腔室设有第一通孔,所述第一通孔处设有第一管道,所述第二腔室设有第二通孔,所述第二通孔处设有T型管道,所述T型管道的水平管一端与所述第二通孔连通,所述水平管的另一端设有第二管道,所述T型管道的垂直管与所述第一管道另一端连通,所述第二管道的另一端设有真空泵。实施本实用新型的真空装置,具有以下有益效果:能够使得第一腔室与第二腔室达到等压的目的,结构简单,提高了产品的合格率,降低了生产所需成本。
Description
技术领域
本实用新型属于真空处理技术领域,尤其涉及一种真空装置。
背景技术
随着封装技术及真空技术的快速发展,对产品的性能要求不断提高,产品的尺寸公差直接影响到产品性能。现有产品维修率和报废率极高,产品使用寿命没有保障,大大增加了产品成本;也不利于资源节约和环保。现有的真空箱体结构复杂,所需成本高;LED产品在封装作业时一般由抽真空方式消除产品中的气泡,当进行真空箱体或容器在真空操作时,受真空压力的影响,会使箱体平台变动、错位或者变形,导致封装位置不准确,或者厚度不一致,出现失效率偏高。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种真空装置,旨在解决现有的真空装置结构复杂,其以抽真空方式消除LED产品中的气泡时,出现装置内的平台发生位移,导致封装位置不准确,或者厚度不一致,产品合格率低,增加了产品成本的问题。
本实用新型是这样实现的,一种真空装置,包括支架,所述支架上从下至上依次设有下腔体、平台和上腔体,所述下腔体与所述平台底端形成第一腔室,所述平台上端与所述上腔体形成第二腔室,所述第一腔室设有第一通孔,所述第一通孔处设有第一管道,所述第二腔室设有第二通孔,所述第二通孔处设有T型管道,所述T型管道的水平管一端与所述第二通孔连通,所述水平管的另一端设有第二管道,所述T型管道的垂直管与所述第一管道另一端连通,所述第二管道的另一端设有真空泵。
本实用新型的进一步技术方案是:所述第一管道与所述竖直管的连通处设有压力调节阀。
本实用新型的进一步技术方案是:所述第二通孔与所述水平管通过连接管连通。
本实用新型的进一步技术方案是:所述下腔体与所述平台之间设有第一密封圈。
本实用新型的进一步技术方案是:所述平台与所述上腔体之间设有第二密封圈。
本实用新型的进一步技术方案是:所述第一通孔设置在所述下腔体底端中部,所述第二通孔设置在所述上腔体一侧。
本实用新型的有益效果是:本实用新型通过在支架上从下至上依次设置的下腔体、平台和上腔体,下腔体与平台底端形成第一腔室,平台上端与上腔体形成第二腔室,在通过真空泵抽真空,使得第一腔室和第二腔室的压力相等,从而达到等压的目的,结构简单,提高了产品的合格率,降低了生产所需成本。
附图说明
图1是本实用新型实施例提供的真空装置的拆分结构示意图;
图2是本实用新型实施例提供的真空装置的结构示意图;
图3是图2中A处的放大图。
图中各部件名称如下:
1-支架;2-下腔体;3-平台;4-上腔体;5-第一腔室;6-第二腔室;7-第一通孔;8-第一管道;9-第二通孔;10-T型管道;101-水平管;11-第二管道;102-垂直管;12-真空泵;13-压力调节阀;14-连接管;15-第一密封圈;16-第二密封圈。
具体实施方式
结合上述附图说明本实用新型的具体实施例。
如图1-3所示,本实施例中的一种真空装置,包括支架1,所述支架1上从下至上依次设有下腔体2、平台3和上腔体4,所述下腔体2与所述平台3底端形成第一腔室5,所述平台3上端与所述上腔体4形成第二腔室6,所述第一腔室5设有第一通孔7,所述第一通孔7处设有第一管道8,所述第二腔室6设有第二通孔9,所述第二通孔9处设有T型管道10,所述T型管道10的水平管101一端与所述第二通孔9连通,所述水平管101的另一端设有第二管道11,所述T型管道10的垂直管102与所述第一管道8另一端连通,所述第二管道11的另一端设有真空泵12。也就是说,在本实施例中,所述支架1上从下至上依次安装所述下腔体2和所述平台3,将需消除气泡的产品放到所述平台3上,在安装所述上腔体4,启动所述真空泵12,对所述下腔体2与所述平台3底端形成的第一腔室5以及所述平台3上端与所述上腔体4形成的第二腔室6做抽真空处理,根据所述第一腔室5与第二腔室6的体积比一定,设置所述第一管道8和第二管道11的通孔大小比,使得所述第一腔室5和第二腔室6达到等压或近似压力的目的(可以在所述第一腔室5与第二腔室中设置压力传感器,测出其压力大小,提高其准确性),进而避免了所述平台3因真空负压造成变形或错位而造成的待处理产品的封装位置不准确或者厚度不一致的情况。实施本实用新型的真空装置,具有以下有益效果:能够使得第一腔室与第二腔室达到等压的目的,结构简单,提高了产品的合格率,降低了生产所需成本。
在本实施例中,如图1和图2所示,所述第一管道8与所述竖直管102的连通处设有压力调节阀13。所述第二通孔9与所述水平管101通过连接管14连通。通过所述压力调节阀13来调节所述第一腔室5的抽真空速度。
在本实施例中,如图1和图2所示,所述下腔体2与所述平台3之间设有第一密封圈15。所述平台3与所述上腔体4之间设有第二密封圈16。所述第一通孔7设置在所述下腔体2底端中部,所述第二通孔9设置在所述上腔体4一侧。也就是说,在本实施例中,所述第一密封圈15提高了所述第一腔室5的密封性,所述第二密封圈16提高了所述第二腔室5的密封性。所述下腔体2的四个端点处均设置成缺口,所述平台3的四个端点处均设有与上述口适配的支撑架,便于所述平台3与所述下腔体2的安装,且该结构稳定性强。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种真空装置,其特征在于:包括支架,所述支架上从下至上依次设有下腔体、平台和上腔体,所述下腔体与所述平台底端形成第一腔室,所述平台上端与所述上腔体形成第二腔室,所述第一腔室设有第一通孔,所述第一通孔处设有第一管道,所述第二腔室设有第二通孔,所述第二通孔处设有T型管道,所述T型管道的水平管一端与所述第二通孔连通,所述水平管的另一端设有第二管道,所述T型管道的垂直管与所述第一管道另一端连通,所述第二管道的另一端设有真空泵。
2.根据权利要求1所述的真空装置,其特征在于,所述第一管道与所述竖直管的连通处设有压力调节阀。
3.根据权利要求1所述的真空装置,其特征在于,所述第二通孔与所述水平管通过连接管连通。
4.根据权利要求1所述的真空装置,其特征在于,所述下腔体与所述平台之间设有第一密封圈。
5.根据权利要求1所述的真空装置,其特征在于,所述平台与所述上腔体之间设有第二密封圈。
6.根据权利要求1所述的真空装置,其特征在于,所述第一通孔设置在所述下腔体底端中部,所述第二通孔设置在所述上腔体一侧。
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