CN209379037U - 一种化学反应过程控制仿真实训装置 - Google Patents

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刘群
陈波
矫桂鹅
鲁家浩
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周艳华
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Abstract

本实用新型公开了一种化学反应过程控制仿真实训装置,包括控制柜底座、操作柜底座和单拼台工作台,所述控制柜底座的上侧端面安装有综合显示屏控制器,所述控制柜底座的上侧端面接近综合显示屏控制器的一侧安装有DCS控制器,所述DCS控制器的一侧安装有PLC综合控制器。在整体的结构与控制系统中,采用PLC控制柜与DCS控制柜进行结合,通过PLC综合控制器的控制,可进行切换不同的控制系统,并且可以根据完整的化学反应过程的流程进行控制,通过灵活构建DCS控制系统与PLC综合控制器的结合使得教学的范围更加广泛,并且能够通过相应的控制效果进行重复性的对比,提高整个化学反应的流程的可控制性。整体实用强,使用的效果相对于传统方式更好。

Description

一种化学反应过程控制仿真实训装置
技术领域
本实用新型涉及仿真实训技术领域,尤其涉及一种化学反应过程控制仿真实训装置。
背景技术
在现代技术快速发展的同时,在教育类行业也需要通过高新技术来展现相应的操作步骤,从而能够提高学生在课堂中从理论到实践中过度的过程,能够让学生自行安全简单的操作,从而提高一定的教学质量水平,然学生在学习的过程中更加的深刻。但是目前,这些技术仍然处于传统的PLC控制技术以及DCS离线仿真和变频器单机接线教程中,导致在实际的课堂教学中,理论与实践的差距太大,并且存在严重的滞后问题,实际实验的过程中针对性不足,并且整体设备在实际使用的过程中化学反应过程难以控制,整体设备缺乏严重的技术问题。因此,针对上述问题提出了一种化学反应过程控制仿真实训装置,实用性更好。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种化学反应过程控制仿真实训装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种化学反应过程控制仿真实训装置,包括控制柜底座、操作柜底座和单拼台工作台,所述控制柜底座的上侧端面安装有综合显示屏控制器,所述控制柜底座的上侧端面接近综合显示屏控制器的一侧安装有DCS控制器,所述DCS控制器的一侧安装有PLC综合控制器,所述PLC综合控制器的一侧设置有排热扇孔,所述控制柜底座通过线缆走线槽与操作柜底座的一侧相连,所述单拼台工作台的上侧端面设置有试剂瓶放置工作台,所述试剂瓶放置工作台的上侧端面放置有仿真用试剂瓶,所述单拼台工作台通过相互拼接组成仿真立体框架组,所述仿真立体框架组的一侧安装有滞后水箱温度框架,所述滞后水箱温度框架的一侧安装有锅炉温度框架,所述锅炉温度框架的一次安装有缓冲罐压力框架,所述单拼台工作台的安装有单向滑动导轮,所述单拼台工作台的一侧安装有平台卡件,所述单拼台工作台的一侧安装有试剂瓶衔接板,所述单拼台工作台活动安装在操作柜底座的上端面工作台上。
优选的,所述滞后水箱温度框架与锅炉温度框架和缓冲罐压力框架均由 PLC综合控制器和DCS控制器通过线缆走线槽内部的信号线控制。
优选的,所述试剂瓶放置工作台下端连接的地脚均固定连接有吸盘。
优选的,所述试剂瓶衔接板设置有四组且固定安装在单拼台工作台的一侧,所述单拼台工作台为L型。
优选的,所述上端面工作台的上侧外表面固定安装有导轨与单拼台工作台底部的单向滑动导轮相配合。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:在整体的操作柜底座的上端通过多组单拼台工作台进行结合,并且通过平台卡件进行固定,方便在实际的仿真操作中根据实际反应情况进行安装拼接单拼台工作台,从而控制仿真化学的反应过程或者进行相应的化学反应调节,从而能够提高学生在课堂中从理论到实践的过渡,提高教育的质量。在整体的结构与控制系统中,采用PLC控制柜与DCS控制柜进行结合,通过PLC综合控制器的控制,可进行切换不同的控制系统,并且可以根据完整的化学反应过程的流程进行控制,通过灵活构建DCS控制系统与PLC综合控制器的结合使得教学的范围更加广泛,并且能够通过相应的控制效果进行重复性的对比,提高整个化学反应的流程的可控制性。装置整体实用性强,操作简单,使用的效果相对于传统方式更好。
附图说明
图1为本实用新型一种化学反应过程控制仿真实训装置的整体结构示意图。
图2为本实用新型一种化学反应过程控制仿真实训装置的部分结构示意图。
图中:1、控制柜底座;2、操作柜底座;3、单拼台工作台;4、综合显示屏控制器;5、DCS控制器;6、PLC综合控制器;7、排热扇孔;8、线缆走线槽;9、试剂瓶放置工作台;10、仿真用试剂瓶;11、仿真立体框架组;12、滞后水箱温度框架;13、锅炉温度框架;14、缓冲罐压力框架;15、单向滑动导轮;16、平台卡件;17、试剂瓶衔接板;18、上端面工作台。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参照图1-2,本实用新型提供一种技术方案:
一种化学反应过程控制仿真实训装置,包括控制柜底座1、操作柜底座2 和单拼台工作台3,所述控制柜底座1的上侧端面安装有综合显示屏控制器4,所述控制柜底座1的上侧端面接近综合显示屏控制器4的一侧安装有DCS控制器5,所述DCS控制器5的一侧安装有PLC综合控制器6,所述PLC综合控制器6的一侧设置有排热扇孔7,所述控制柜底座1通过线缆走线槽8与操作柜底座2的一侧相连,所述单拼台工作台3的上侧端面设置有试剂瓶放置工作台9,所述试剂瓶放置工作台9的上侧端面放置有仿真用试剂瓶10,所述单拼台工作台3通过相互拼接组成仿真立体框架组11,所述仿真立体框架组 11的一侧安装有滞后水箱温度框架12,所述滞后水箱温度框架12的一侧安装有锅炉温度框架13,所述锅炉温度框架13的一次安装有缓冲罐压力框架14,所述单拼台工作台3的安装有单向滑动导轮15,所述单拼台工作台3的一侧安装有平台卡件16,所述单拼台工作台3的一侧安装有试剂瓶衔接板17,所述单拼台工作台3活动安装在操作柜底座2的上端面工作台18上。
进一步的,所述滞后水箱温度框架12与锅炉温度框架13和缓冲罐压力框架14均由PLC综合控制器6和DCS控制器5通过线缆走线槽8内部的信号线控制。
进一步的,所述试剂瓶放置工作台9下端连接的地脚均固定连接有吸盘。
进一步的,所述试剂瓶衔接板17设置有四组且固定安装在单拼台工作台 3的一侧,所述单拼台工作台3为L型。
进一步的,所述上端面工作台18的上侧外表面固定安装有导轨与单拼台工作台3底部的单向滑动导轮15相配合。
需要说明的是,本实用新型为一种化学反应过程控制仿真实训装置。
如图1-2所示,在使用时,首先通过将具体的化学反应式通过综合显示屏控制器4输入到装置内部,然后根据实际的化学反应需要,通过PLC综合控制器6与DCS控制器5的结合,进行控制操作柜底座2上侧端面的仿真立体框架11中的滞后水箱温度框架12,以及锅炉温度框架13和缓冲罐压力框架14中的参数,此时通过连接在控制柜底座1与操作柜底座2中间位置处的线缆走线槽8中的相应的信号线进行控制,从而能够通过相应的信号线控制相应的部件进行控制化学反应的过程。在实际的操作过程中,可以通过拼接单拼台工作台3进行增加化学反应的流程,具体操作时只需将单拼台工作台3一侧固定连接的平台卡件16进行相应的对接即可,此时单向滑动导轮15 便于推动单拼台工作台3,对接完毕后通过单向滑动导轮15一侧的锁紧件进行锁紧。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (5)

1.一种化学反应过程控制仿真实训装置,包括控制柜底座(1)、操作柜底座(2)和单拼台工作台(3),其特征在于:所述控制柜底座(1)的上侧端面安装有综合显示屏控制器(4),所述控制柜底座(1)的上侧端面接近综合显示屏控制器(4)的一侧安装有DCS控制器(5),所述DCS控制器(5)的一侧安装有PLC综合控制器(6),所述PLC综合控制器(6)的一侧设置有排热扇孔(7),所述控制柜底座(1)通过线缆走线槽(8)与操作柜底座(2)的一侧相连,所述单拼台工作台(3)的上侧端面设置有试剂瓶放置工作台(9),所述试剂瓶放置工作台(9)的上侧端面放置有仿真用试剂瓶(10),所述单拼台工作台(3)通过相互拼接组成仿真立体框架组(11),所述仿真立体框架组(11)的一侧安装有滞后水箱温度框架(12),所述滞后水箱温度框架(12)的一侧安装有锅炉温度框架(13),所述锅炉温度框架(13)的一次安装有缓冲罐压力框架(14),所述单拼台工作台(3)的安装有单向滑动导轮(15),所述单拼台工作台(3)的一侧安装有平台卡件(16),所述单拼台工作台(3)的一侧安装有试剂瓶衔接板(17),所述单拼台工作台(3)活动安装在操作柜底座(2)的上端面工作台(18)上。
2.根据权利要求1所述的一种化学反应过程控制仿真实训装置,其特征在于:所述滞后水箱温度框架(12)与锅炉温度框架(13)和缓冲罐压力框架(14)均由PLC综合控制器(6)和DCS控制器(5)通过线缆走线槽(8)内部的信号线控制。
3.根据权利要求1所述的一种化学反应过程控制仿真实训装置,其特征在于:所述试剂瓶放置工作台(9)下端连接的地脚均固定连接有吸盘。
4.根据权利要求1所述的一种化学反应过程控制仿真实训装置,其特征在于:所述试剂瓶衔接板(17)设置有四组且固定安装在单拼台工作台(3)的一侧,所述单拼台工作台(3)为L型。
5.根据权利要求1所述的一种化学反应过程控制仿真实训装置,其特征在于:所述上端面工作台(18)的上侧外表面固定安装有导轨与单拼台工作台(3)底部的单向滑动导轮(15)相配合。
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