CN209281141U - 光源模块与投影装置 - Google Patents

Abstract

一种适用于投影装置的光源模块，该光源模块包括多个激光发光元件以及调光装置。各激光发光元件用以发出激发光束。各激发光束被投影装置的光学系统接收而射出子光束。调光装置包括多个调光元件。这些激发光束穿透调光装置而输出成输出光束被光学系统转换成照明光束。这些调光元件参照这些子光束光强度分布对应于这些激光发光元件的至少部分设置，以使所述照明光束光强度分布符合预设光强度分布。另，一种投影装置亦被提出，该投影装置包括至少一个光源模块、光学系统、至少一个光阀及投影镜头。本实用新型的光源模块与投影装置可使应用该光源模块的投影装置所投射出的影像具有良好的光均匀度且具有良好的光学效率。

Description

光源模块与投影装置

技术领域

本实用新型是有关于一种光源模块与投影装置。

背景技术

在一般的激光投影机中，其所使用的激光光源模块通常设有光学导引元件以将激光元件所发出的激光光束导引至激光投影机后端的光学系统，光学系统再将激光光束转换，而发出照明光束至光阀处，光阀再将照明光束转换成影像光束并借由投影镜头将影像光束投射至屏幕上，以形成影像。

然而，在上述的激光投影机中，若要提升影像的均匀度，一般的做法是在光学系统中设置固定式的光扩散元件，但固定式的光扩散元件会严重影响投影机的光学效率，并且，也难对影像的光强度分布做细部的调整，而难以符合使用者的需求。

“背景技术”段落只是用来帮助了解本实用新型内容，因此在“背景技术”段落所揭露的内容可能包含一些没有构成本领域技术人员所知道的已知技术。在“背景技术”段落所揭露的内容，不代表所述内容或者本实用新型一个或多个实施例所要解决的问题，在本实用新型申请前已被本领域技术人员所知晓或认知。

实用新型内容

本实用新型提供一种光源模块，其可使应用此光源模块的投影装置所投射出的影像具有良好的光均匀度且具有良好的光学效率。

本实用新型提供一种投影装置，其所投射出的影像具有良好的光均匀度且具有良好的光学效率。

本实用新型的其他目的和优点可以从本实用新型所揭露的技术特征中得到进一步的了解。

在本实用新型的一实施例中，提出了一种光源模块，用于投影装置。投影装置包括光学系统。光源模块包括多个激光发光元件以及调光装置。各激光发光元件用以发出激发光束。各激发光束被光学系统接收而射出子光束。各子光束具有子光束光强度分布。调光装置配置于光学系统与多个激光发光元件之间，且调光装置包括多个调光元件。多个激光发光元件所发出的这些激发光束穿透调光装置而输出成输出光束。输出光束被光学系统转换成照明光束。照明光束具有照明光束光强度分布。多个调光元件参照这些子光束光强度分布对应于这些激光发光元件的至少部分设置，以使照明光束光强度分布符合预设光强度分布。

在本实用新型的一实施例中，提出了一种投影装置，其包括至少一个上述的光源模块、光学系统、至少一个光阀及投影镜头。光学系统配置于输出光束的传递路径上，且将输出光束转换成照明光束。至少一个光阀配置于照明光束的传递路径上，且将照明光束转换成影像光束。投影镜头配置于影像光束的传递路径上，以将影像光束投影至投影媒介上。

基于上述，在本实用新型的实施例的光源模块与投影装置中，由于调光装置中的调光元件依据子光束光强度分布并对应多个激光发光元件的至少一部分设置，因此，光学系统接收输出光束后所转换成的照明光束能够符合预设光强度分布，而投影装置所投射的影像画面可以符合使用者的需求，且具有良好的光学效率。

为让本实用新型的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合附图作详细说明如下。

附图说明

图1是依照本实用新型的一实施例的投影装置的方块示意图。

图2是依照本实用新型的一实施例的投影装置的具体架构示意图。

图3A是图2中的光源模块的示意图。

图3B是图3A中的这些激光发光元件的俯视示意图。

图3C设有激光发光元件与光学系统的光路简要示意图。

图3D是不同位置的激光发光元件对应的子光束光强度分布。

图3E示出的是总和光束光强度分布。

图3F是设有激光发光元件、调光装置与光学系统的光路简要示意图。

图3G至图3J用以说明调光装置中的调光元件的不同覆盖范围的示意图。

图3K示出的是符合预设光强度分布的照明光束光强度分布。

图4A至图4D是用以说明不同种类的调光元件的光学效果示意图。

图5为输出光束的扩散角度的关系示意图。

图6至图8是不同光源模块在运作时于图2中的投影装置中的光路示意图。

附图标记说明

100、100a～100c：光源模块

110、110a：激光发光元件

120、120a：调光装置

122、122a：调光元件

210：光学系统

212：波长转换装置

214：光扩散元件

216：分光元件

218：合光元件

220、222、224、226：光阀

230：投影镜头

A：阵列

CL、CL1～CL5：聚光透镜

DR：扩散区

DL：集成光束

EB：激发光束

IL：照明光束

IR：集光柱

IB：影像光束

ILD：照明光束光强度分布

L、L1～L3：输出光束

L4：转换光束

PM：投影媒介

PR：投射区域

R：调光区域

SA：转轴

SL：子输出光束

SubL：子光束

SubLD：子光束光强度分布

SumL：总和光束

SumLD：总和光束光强度分布

OA、OA1～OA4：光准直化元件

具体实施方式

图1是依照本实用新型的一实施例的投影装置的方块示意图。图2是依照本实用新型的一实施例的投影装置的具体架构示意图。图3A是图2中的光源模块的示意图。图3B是图3A中的这些激光发光元件的俯视示意图。图3C设有激光发光元件与光学系统的光路简要示意图。图3D是不同位置的激光发光元件对应的子光束光强度分布。图3E示出的是总和光束光强度分布。图3F是设有激光发光元件、调光装置与光学系统的光路简要示意图。图3G至图3J用以说明调光装置中的调光元件的不同覆盖范围的示意图。图3K示出的是符合预设光强度分布的照明光束光强度分布。图4A至图4D是用以说明不同种类的调光元件的光学效果示意图。图5为输出光束的扩散角度的关系示意图。应注意的是，图2的投影装置的光学系统、光阀、投影镜头的具体架构只是示例，其架构并不限于此。

请参照图1，于本实施例中，投影装置200主要包括光源模块100、光学系统210、光阀220与投影镜头230。光源模块100用以提供输出光束L。光学系统210配置于输出光束L的传递路径上。光学系统210接收输出光束L后，而可将输出光束L转换成照明光束IL。光阀220配置于照明光束IL的传递路径上，且将照明光束IL转换成影像光束IB。投影镜头220再将影像光束IB传递至投影媒介PM(例如是屏幕)上，以形成影像。

请参照图2，在本实施例中，投影装置200例如是具有三个光源模块100的投影机，且例如分别为光源模块100a、100b、100c，其中光源模块100a、100c例如是蓝光光源模块，而光源模块100b例如是红光光源模块，但不以此为限。这些光源模块100为激光光源模块。每一光源模块100(100a、100b、100c)包括多个激光发光元件110及调光装置120，然本实用新型不以此为限。于其他实施例中，仅于光源模块100a、100b配置一调光装置120。光学系统210主要包括波长转换装置212、光扩散元件214、分光元件216与合光元件218。于以下的段落中会详细地说明上述的元件。

激光发光元件110用以发出激发光束EB。每一激光发光元件110例如是包括激光二极管晶片以及设置于其光路上的光准直元件(未示出)。以如图2与图3A的光源模块100a为范例，光源模块100a的多个激光发光元件110a(110)所发出的激发光束为蓝色激发光束，具有蓝光光谱。激发光束的峰值波长(Peak Wavelength)介于400纳米至470纳米之间，其中峰值波长被定义为光强度最大处所对应的波长。请参照图3B，这些激光发光元件110a排列成n行m列的阵列A。于本实施例中，这些激光发光元件110a的数量例如是32个，并排列成8行4列的阵列A，其中在阵列A中的横向方向定义为行(row)，在阵列A中的纵向方向定义为列(column)，但本实用新型并不以数量与排列方式为限。在阵列A中的特定位置的激光发光元件110a则被标记为110a(P(x,y))，其中x为行，y为列，以在阵列A中的第3行第2列的激光发光元件110a为范例，则其在图3B中被标记为110a(P(3,2))。

请参照图2与图3A，调光装置120包括多个调光元件122，且配置于光学系统210与这些激光发光元件110之间。调光元件122为泛指各种用以调整光束的光学性质的光学元件。调光装置120可视为这些调光元件122的所组合的光学元件总成(assembly)。光学性质可例如是包括光强度大小、光强度分布、光形或光学路径，但不以此为限。调光元件122的种类可以是楔形元件、扩散元件(扩散片)、菲涅耳透镜(Fresnel lens)或滤光片，但不以此为限。请参照图4A至图4D以说明上述不同种类的调光元件的光学效果，实线示意为尚未被调光元件调整的光束，例如为从激光发光元件出射的激发光束于其所对应的调光元件的入光面上所形成的光斑，虚线示意为被调光元件调整后的光束，例如为从调光元件出射的激发光束于其出光面上所形成的光斑，圈选处中的斜线密度示意为是光强度的密集程度。请参照图4A，若调光元件122的种类选用为楔形元件(wedge)，则其可利用光路偏折的方式将原先光束的位置调整至他处。请参照图4B，若调光元件122的种类选用为具有聚焦功能的菲涅耳透镜或发散功能的菲涅耳透镜，则可对应会聚光束(图4B右下方)或发散光束(图4B左下方)。请参照图4C，若调光元件122的种类选用为扩散元件(扩散片)，则可将原本较为集中的光束的光强度扩散。请参照图4D，若调光元件122的种类选用为滤光片，则可调降光束的整体照射区域的光强度。请参照图3A，每一个调光元件122a所设置的区域可被视为是一个调光区域R。因此，在光源模块100中，这些激发光束EB穿透调光装置120后，被调光装置120调整其光学性质后而输出成输出光束L。光源模块100a、100b、100c分别提供三道输出光束L1、L2、L3。

于本实施例中，光源模块100c类似于光源模块100a，于此不再赘述。光源模块100b类似于光源模块100a，其主要差异在于：光源模块100b中的激光发光元件(未示出)所发出的激发光束为红色激发光束，其具有红光光谱，且其峰值波长介于625纳米至740纳米之间，但不以此为限。光源模块100a、100c所提供的输出光束L1、L3为蓝光输出光束，而光源模块100b所提供的输出光束L2为红光输出光束，其中输出光束L1及输出光束L3可为具有不同或相同峰值波长的蓝光激发光束。此外，于不同的实施例中，本领域技术人员可依据其需求对应于光源模块100中设置不同数量的激光发光元件110，也就是说，光源模块100a、100b、100c中所设有的激光发光元件110的数量可互为不同，本实用新型并不以此为限。

波长转换装置212其主要用以使通过此波长转换装置212的短波长光束转换成相对于短波长光束的长波长转换光束的光学元件。在本实施例中，波长转换装置212为荧光粉轮(Phosphor Wheel)，但不以此为限。在本实施例中，荧光粉轮上设置有光致发光材料，其可以接收短波长光束并借由光致发光现象产生相对应的转换光束。光致发光材料例如是荧光粉，而荧光粉的种类例如是可激发出黄光的荧光粉或可激发出绿光的荧光粉，而当荧光粉被激发光束激发而发出的转换光束则对应为黄光光束或绿光光束。于本实施例中，波长转换装置212位于输出光束L3(蓝光激发光束)的传递路径上，则荧光粉可被输出光束L3激发而产生转换光束，本实用新型并不以此为限。

光扩散元件214系为用以使通过此光扩散元件的光束扩散/散射的光学元件，例如是扩散轮(Diffusor Wheel)、振动扩散器、扩散板(Diffusion Plate)或者是其他动件的扩散器，但不以此为限制。在本实施例中，光扩散元件214为可动的扩散轮，其具有转轴SA及扩散区DR。扩散区DR设有光扩散结构(未示出)。转轴SA是由马达(未示出)所带动，以使光扩散元件214以转轴SA为旋转中心进行旋转，进而使扩散区DR内的光扩散结构旋转。

分光元件216为具有分光功能的光学元件。分光元件216为分光镜(DichroicMirror,DM)，其具有波长选择性，为利用波长(颜色)进行分光的分色片，但不以此为限制。在本实施例中，分光元件216用以使输出光束L1、L2、L3穿透，且反射转换光束L4。

合光元件218为具有合光功能的光学元件，且亦为分光镜，但不以此为限制。在本实施例中，分光元件218用以使输出光束L1穿透，且反射输出光束L2。

光阀220是指数字微镜元件(Digital Micro-mirror Device,DMD)、硅基液晶面板(Liquid-crystal-on-silicon Panel,LCOS Panel)或是液晶面板(Liquid CrystalPanel,LCD)等空间光调变器的任一者，于本实施例中，光阀220为数字微镜元件，且光阀220的数量例如是三个光阀222、224、226，但不以此为限。光阀220配置于照明光束IL的传递路径上，且将照明光束IL转换成影像光束IB。

投影镜头230例如包括具有屈光度的一个或多个光学镜片的组合，例如包括双凹透镜、双凸透镜、凹凸透镜、凸凹透镜、平凸透镜以及平凹透镜等非平面镜片的各种组合。在一实施例中，投影镜头230也可以包括平面光学镜片。本实用新型对投影镜头230的型态及其种类并不加以限制。投影镜头220配置于上述影像光束IB的传递路径上。在本实施例中，投影镜头230是用以将这些影像光束IB投射至投影媒介PM上。投影媒介PM例如是投影布幕或者是投影墙，本实用新型并不以此为限制。

此外，在本实施例中，光学系统210内部可以选择性地增设一至多个聚光透镜CL(CL1～CL5)或一至多个光准直化元件OA(OA1～OA4)。详言之，聚光透镜CL为具有聚光功能的透镜，且例如是凸透镜。光准直化元件OA是用以将发散/会聚光束转换成平行于光准直化元件OA的光轴的平行光束。通过增设聚光透镜CL以及光准直化元件OA可以更进一步提升光学系统210输出的光束品质，本实用新型并不以此为限制。并且，在本实施例中，投影装置200的内部还可选择性地增设集光柱(Integration Rod)IR以及光学镜片组LA。集光柱(Integration Rod)IR用以将进入的照明光束IL均匀化。光学镜片组LA内具有一至多枚的聚光透镜或者是一至多个分光棱镜组，其主要用以将不同颜色的照明光束IL导引至不同位置的光阀222、224、226。

于以下的段落中，会搭配图3B至图3G以说明如图3A的光源模块100a内的激发发光元件110a与调光装置120a的配置关系。

请先参照图3C，首先，令光源模块的各激光发光元件110a所发出的激发光束EBa在没有经过调光装置120的情况下，(但可以经由玻璃(未示出))而被光学系统210接收后所投射出的光束为子光束SubL，且对应的子光束SubL于投射区域PR上具有子光束光强度分布SubLD。图3A中位于阵列A中不同位置的这些激光发光元件110a于投射区域PR分别形成对应的子光束光强度分布SubLD如图3D所示。接着，这些激发光束EBa在没有经过调光装置120的情况下(但可以经由玻璃(未示出))而被光学系统210接收后所投射出的多个子光束SubL的总和为总和光束SumL，且对应的总和光束SumL于此投射区域PR上具有总和光束光强度分布SumLD，如图3E所示。总和光束光强度分布SumLD可视为这些子光束光强度分布SubLD的加总。上述的投射区域PR可以是在：集光柱IR的出光面、光阀220的成像面或投影媒介PM等，并不以此为限。

请同时对照图3B与图3D，图3D的这些子光束光强度分布SubLD的位置分别与图3B的这些激光发光元件110a的位置对应。举例来说，在图3D中的第3行第2列的子光束光强度分布SubLD(3,2)是由在图3B中的第3行第2列的激光发光元件110a(P(3,2))发出的激发光束EB经由光学系统210而形成子光束SubL的光强度分布SubLD，其他以此类推。应注意的是，在图3D中的每一个子光束光强度分布SubLD所代表的是同一个投射区域PR的光强度分布。每一子光束光强度分布SubLD可被视为是对应的激光发光元件110a在尚未被调光装置120a调整前对出光画面的光强度的影响度。总和光束光强度分布SumLD则代表的是没有被调光装置120调整的这些子光束光强度分布SubLD的加总。

接着，于本实施例中，调光装置120a的多个调光元件122a参照上述这些子光束光强度分布SubLD(如图3D)而对应于这些激光发光元件110a的至少部分设置，以使由光学系统210转换的照明光束光强度分布ILD符合预设光强度分布(如图3F)。以下会针对不同的预设光强度分布来对调光装置120a的调光元件122a的设置方式来做说明。

于一实施例中，预设光强度分布例如是要满足使照明光束光强度分布ILD在任两位置的光强度差异小于10％，而可使后端影像的光强度分布均匀化。因此，为了要满足上述的光强度差异条件，一种可能的光学设计方式如下。

首先，参照图3E中的总和光束光强度分布SumLD，从中可发现整个投射区域PR的光强度分布，具体而言，位于投射区域PR的左右两侧处的光强度较弱，而位于投射区域PR的上侧处并延伸至下侧处的光强度较强。

接着，则参照图3D中的这些子光束光强度分布SubLD，找出对于位于投射区域PR的左右两侧处的光强度较有影响度的子光束光强度分布SubLD(即光强度集中于投影区域PR的左右两侧处的意思)，而可在对应的激光发光元件110a的前方的调光区域R设有光扩散效果较弱的扩散片(调光元件)，即在对应的激光发光元件110a所出射的激发光束EBa的传递路径上配置具有光扩散效果较弱的扩散片(调光元件)，因此对应的激光发光元件110a于投射区域PR的左右两侧处的光强度分布的范围扩散的程度较小。

另一方面，再参照图3D，找出对于位于投射区域PR的上侧处并延伸至下侧处的光强度较有影响度的子光束光强度分布SubLD(即光强度集中于投影区域PR的上下两侧处的意思)，而可在对应的激光发光元件110a的前方的调光区域R设有光扩散效果较强的扩散片(调光元件)，即在对应的激光发光元件110a所出射的激发光束EBa的传递路径上配置具有光扩散效果较强的扩散片(调光元件)，因此对应的激光发光元件110a于投射区域的上侧处并延伸至下侧处的光强度分布的范围扩散的程度较大。

承上述，请参照图3A、图3F与图3G，图3G中的实线代表的是激光发光元件110a的覆盖范围，而虚线代表的是调光元件122a的覆盖范围。于上述的光学设计方式中，这些调光元件122a例如是一对一地对应设置于这些激光发光元件110a所发出的这些激发光束EBa的传递路径上，且这些调光元件122a例如是彼此具有不同光扩散能力的扩散片。每一激发光束EBa会被对应的调光元件122a调整后而对应输出子输出光束SL(如图3F所示)。这些子输出光束SL的加总可被视为调光装置120a的输出光束L。输出光束L被光学系统210转换的照明光束IL的照明光束光强度分布ILD则符合上述的预设光强度分布的条件。据此，调光装置120a所输出的输出光束L能使光学系统210所转换的照明光束IL的照明光束光强度分布ILD均匀化。

此外，请参照图5，于本实施例中，输出光束L的扩散角度被定义为其光强度分布的半高宽(Full width at half maximum,FWHM)的角度范围的一半，而扩散角度的范围小于等于2度。Imax代表的是输出光束的光强度分布中的最大值。Imax2代表的是输出光束的光强度分布中的最大值的一半。

应注意的是，为了满足上述光强度差异的条件，设置具有不同光扩散效果的扩散片只是一种示例性的光学设计方式。于下方的段落中会说明其他的光学设计方式。

于其他的光学设计方式中，则可在每一个激光发光元件110a的前方设置同一种类但具有不同光学效果的调光元件。举例来说，在一种光学设计方式中，可参照如图3D与图3E的子光束光强度分布SubLD与总和光束光强度分布SumLD后，分别在激光发光元件110a的前方设置能使光束偏折能力不同的楔形元件、分别设置不同的菲涅耳透镜或分别设置不同滤光能力的滤光片，而组成调光装置120a，而亦可达到使照明光束IL的照明光束光强度分布ILD均匀化的效果，本实用新型并不以此为限。

于另一种光学设计方式中，亦可在每一个激光发光元件110a的前方设置不同种类的调光元件，举例来说，调光装置120a可为楔形元件、菲涅耳透镜、扩散片或滤光片等不同种类调光元件的总成，而亦可达到使照明光束IL的照明光束光强度分布ILD均匀化的效果，本实用新型并不以此为限。

于上述的光学设计方式中，调光元件122a的覆盖范围是覆盖单个激光发光元件110a。于其他的实施例中，调光元件122a的覆盖范围亦可覆盖这些激光发光元件110a中的至少一部分。请参照图3H至图3I，于此光学设计方式中，亦可在虚线处设置不同覆盖范围的调光元件122a’。即一个调光元件122a的覆盖范围可覆盖多个数量的激光发光元件110a。因此，被调光元件122a覆盖到的部分激光发光元件110a所发出的激发光束EB则会被调光元件122a调光。本领域技术人员可依据子光束光强度分布SubLD与总和光束光强度分布SumLD来对应在不同的范围内设置具有不同光学参数或种类的调光元件，本实用新型并不以此为限制。

此外，调光装置120a并不一定只能满足上述的预设光强度分布。于另一种预设光强度分布中，亦可以是要使照明光束光强度分布ILD的区域性的光强度减弱。举例而言，参照图3E中的总和光束光强度分布SumLD，则可发现某些特定区域的光强度相对于其他区域的光强度过强，而需要被减弱。那么，则可参照图3D中的这些子光束光强度分布SubLD，而得知是哪一些激光发光元件110a对此特定区域的光强度的影响度较大，然后在对应的激光发光元件110a的前方设置对应的调光元件122a。举例来说，若认为对图3E的总和光束光强度分布SumLD的四个角落处的光强度过强，则参照图3D中的这些子光束光强度分布SubLD可发现子光束光强度分布SubLD(4,3)、SubLD(4,4)、SubLD(5,1)、SubLD(5,2)、SubLD(5,3)对于这四个角落处的光强度的影响度较大，因此可在如图3B的对应的激光发光元件110a(P(4,3))、110a(P(4,4))、110a(P(5,1))、110a(P(5,2))、110a(P(5,3))的前方处设置调光元件122a，以使这些激光发光元件110a对光强度的影响度减弱，而调光元件122a的覆盖范围可如图3J所示(其他未被虚线框选的区域则没有设置调光元件)，以使光学系统210所投射的照明光束IL的照明光束光强度分布ILD能够达到如图3K的光强度分布。

因此，借由上述的设置方式，本实施例的光源模块100可依据子光束光强度分布SubLD设计调光装置120与激光发光元件110之间的配置方式，而可满足使用者不同的需求。

承上述，在本实用新型的实施例的光源模块100中，调光装置120中的调光元件122依据子光束光强度分布SubLD并对应多个激光发光元件110的至少一部分设置，因此，当位于光源模块100的光路下游处的光学系统210接收被调光装置120调整的输出光束L后所转换成的照明光束IL能够符合预设光强度分布。据此，投影装置200能更进一步地对影像画面的光强度做出细部的调整，以符合使用者的需求，且投影装置200具有良好的光学效率。

图6至图8是不同光源模块在运作时于图2中的投影装置中的光路示意图。

于以下的段落中，会详细地说明在投影装置200中各光束的传递方式。

请参照图6，当光源模块100c提供输出光束L3时，输出光束L3依序经过聚光透镜CL2、光准直化元件OA4、分光元件216、聚光透镜CL5、光准直化元件OA3并传递至波长转换装置212。接着，波长转换装置212被输出光束L3激发而激发出转换光束L4。转换光束L4再依序经过光准直化元件OA3、聚光透镜CL5并传递至分光元件216，并被分光元件216反射后传递至聚光透镜CL4，并出光于出光处EP。即光学系统210将输出光束L3转换成转换光束L4后，并将此转换光束L4出光而作为照明光束IL3。在本实施例中，出光处EP可为光束离开光学系统210的位置。

请参照图7，当光源模块100b提供输出光束L2时，输出光束L2依序经过合光元件218、聚光透镜CL1、光准直化元件OA1、光扩散元件130的扩散区DR、光准直化元件OA2、聚光透镜CL3、并穿透分光元件216后传递至聚光透镜CL4，并出光于出光处EP。即光学系统210将输出光束L2导引后，并将此输出光束L2出光而作为照明光束IL2。

请参照图8，当光源模块100a提供输出光束L1时，输出光束L1依序经过合光元件218、聚光透镜CL1、光准直化元件OA1、光扩散元件214的扩散区DR、光准直化元件OA2、聚光透镜CL3、并传递至分光元件216后传递至聚光透镜CL4，并出光于出光处EP。即光学系统210将输出光束L1导引后，并将此输出光束L1出光而作为照明光束IL1。

请参照图7与图8，值得一提的是，当输出光束L1、L2经过扩散区DR时，会被扩散区DR内的光扩散结构扩散/散射，以降低激发光束的能量密度。并且，光扩散元件214可以借由转动的方式来减少激光散斑(Speckle)的现象。

请再参照图2，当照明光束IL1、IL2、IL3出光于光学系统210后共同形成集成光束DL。集成光束DL依序通过集光柱IR以及光学镜片组LA。光学镜片组LA将使集成光束IL中的照明光束IL1传递至光阀222，将集成光束IL中的照明光束IL2传递至光阀224，且将集成光束IL中的照明光束IL3传递至光阀226。光阀222、224、226分别将照明光束IL1、IL2、IL3转换成影像光束IB1、IB2、IB3。接着，影像光束IB1～IB3再借由光学镜片组LA以及投影镜头220传递至投影媒介PM上以形成投影画面。

承上述，在本实用新型实施例的投影装置200中，由于采用了上述光源模块100a、100b、100c的设计，因此其可以针对不同颜色的影像光束IB1～IB3做细部的调整，而可符合使用者需求，且具有良好的光学效率。举例来说，投影装置200可以使影像光束IB1～IB3的均匀度更佳，或者是，投影装置200可以对任一影像光束IB1～IB3的光强度分布做区域性地调整，本实用新型并不以此为限。

综上所述，在本实用新型的实施例的光源模块与投影装置中，由于调光装置中的调光元件依据子光束光强度分布并对应多个激光发光元件的至少一部分设置，因此，光学系统接收输出光束后所转换成的照明光束能够符合预设光强度分布，而投影装置所投射的影像画面可以符合使用者的需求，且具有良好的光学效率。

虽然本实用新型已以实施例揭露如上，然其并非用以限定本实用新型，任何本领域技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围内，当可作些许的更动与修改，故本实用新型的保护范围当视后附的权利要求书所界定者为准。

Claims (16)

1.一种光源模块，用于投影装置，所述投影装置包括光学系统，所述光源模块包括：多个激光发光元件以及调光装置；其特征在于，

各所述多个激光发光元件用以发出激发光束，其中，

各所述多个激发光束被所述光学系统接收而射出子光束，各所述多个子光束具有子光束光强度分布；以及

所述调光装置配置于所述光学系统与所述多个激光发光元件之间，且所述调光装置包括多个调光元件，所述多个激光发光元件所发出的所述多个激发光束穿透所述调光装置而输出成输出光束，所述输出光束被所述光学系统转换成照明光束，所述照明光束具有照明光束光强度分布，

其中，所述多个调光元件参照所述多个子光束光强度分布对应于所述多个激光发光元件的至少部分设置，以使所述照明光束光强度分布符合预设光强度分布。

2.根据权利要求1所述的光源模块，其特征在于，所述多个激发光束被所述光学系统接收而射出总和光束，所述总和光束具有总和光束光强度分布，所述多个调光元件依据所述总和光束光强度分布的均匀度并参照各所述多个子光束光强度分布的均匀度而对应于所述多个激光发光元件的至少部分设置。

3.根据权利要求1所述的光源模块，其中所述预设光强度分布为所述照明光束光强度分布符合在任两个不同位置的光强度差异值小于10％的条件。

4.根据权利要求1所述的光源模块，其特征在于，所述多个调光元件一对一地对应设置于所述多个激光发光元件所发出的所述多个激发光束的传递路径上，且所述多个调光元件彼此不同。

5.根据权利要求1所述的光源模块，其特征在于，所述多个调光元件中的至少一个对应设置于所述多个激光发光元件的至少一部分所发出的激发光束的传递路径上，所述多个激光发光元件的至少一部分的数量大于一，且所述多个调光元件彼此不同。

6.根据权利要求1所述的光源模块，其特征在于，所述多个调光元件的种类包括楔形元件、菲涅耳透镜、扩散片或滤光片。

7.根据权利要求1所述的光源模块，其特征在于，所述多个激光发光元件排列成一阵列。

8.根据权利要求1所述的光源模块，其特征在于，所述输出光束的扩散角度小于等于2度。

9.一投影装置，其包括至少一个光源模块、光学系统、至少一个光阀及投影镜头，其特征在于，

所述至少一个光源模块包括：多个激光发光元件以及调光装置；其中，各所述多个激光发光元件用以发出激发光束，各所述多个激发光束被所述光学系统接收而射出子光束，各所述多个子光束具有子光束光强度分布；以及所述调光装置配置于所述光学系统与所述多个激光发光元件之间，且所述调光装置包括多个调光元件，所述多个激光发光元件所发出的所述多个激发光束穿透所述调光装置而输出成输出光束，所述输出光束被所述光学系统转换成照明光束，所述照明光束具有照明光束光强度分布，所述多个调光元件参照所述多个子光束光强度分布对应于所述多个激光发光元件的至少部分设置，以使所述照明光束光强度分布符合预设光强度分布；

所述光学系统配置于所述输出光束的传递路径上，且将所述输出光束转换成照明光束；

所述至少一个光阀配置于所述照明光束的传递路径上，且将所述照明光束转换成影像光束；以及

所述投影镜头配置于所述影像光束的传递路径上，以将所述影像光束投影至一个投影媒介上。

10.根据权利要求9所述的投影装置，其特征在于，所述多个激发光束被所述光学系统接收而射出总和光束，所述总和光束具有总和光束光强度分布，所述多个调光元件依据所述总和光束光强度分布的均匀度并参照各所述多个子光束光强度分布的均匀度而对应于所述多个激光发光元件的至少部分设置。

11.根据权利要求9所述的投影装置，其特征在于，所述预设光强度分布为所述照明光束光强度分布符合在任两个不同位置的光强度差异值小于10％的条件。

12.根据权利要求9所述的投影装置，其特征在于，所述多个调光元件一对一地对应设置于所述多个激光发光元件所发出的所述多个激发光束的传递路径上，且所述多个调光元件彼此不同。

13.根据权利要求9所述的投影装置，其特征在于，所述多个调光元件中的至少一个对应设置于所述多个激光发光元件的至少一部分所发出的激发光束的传递路径上，所述多个激光发光元件的至少一部分的数量大于一，且所述多个调光元件彼此不同。

14.根据权利要求9所述的投影装置，其特征在于，所述多个调光元件的种类包括楔形元件、菲涅耳透镜、扩散片或滤光片。

15.根据权利要求9所述的投影装置，其特征在于，所述多个激光发光元件排列成阵列。

16.根据权利要求9所述的投影装置，其特征在于，所述输出光束的扩散角度小于等于2度。