CN209260187U

CN209260187U - 一种用于多弧离子镀设备圆形平面多弧靶装置

Info

Publication number: CN209260187U
Application number: CN201821959723.4U
Authority: CN
Inventors: 张俊峰; 赵子东; 许春立; 张大剑
Original assignee: SHANGHAI ZICHUANG COATING TECHNOLOGY Co Ltd
Current assignee: SHANGHAI ZICHUANG COATING TECHNOLOGY Co Ltd
Priority date: 2018-11-26
Filing date: 2018-11-26
Publication date: 2019-08-16
Anticipated expiration: 2028-11-26

Abstract

本实用新型公开了一种用于多弧离子镀设备圆形平面多弧靶装置，靶座焊接在真空腔体上，密封绝缘垫安装在靶座上，靶连接法兰压住密封绝缘垫设置，连接螺丝绝缘套通过内六角螺丝固定安装在靶连接法兰的螺孔中，O型圈安装在靶连接法兰上，靶头绝缘垫安装在O型圈上，靶头装置安装在靶头绝缘垫上，靶头装置内部通过靶连接上压法兰固定有磁钢装置，靶材在真空侧通过螺丝固定在靶头装置上，屏蔽罩通过靶材装配在靶连接法兰上，靶头装置上还连接有外部接线柱，引弧装置安装在靶连接法兰上。本实用新型实现离子镀膜的最佳工艺，极大的提高生产效率，并提供一种气动控制式多弧靶引弧针，结构简单，引狐动作稳定、准确，密封可靠。

Description

一种用于多弧离子镀设备圆形平面多弧靶装置

技术领域

本实用新型涉及的是镀膜技术领域，具体涉及一种用于多弧离子镀设备圆形平面多弧靶装置。

背景技术

在国内外，如今真空镀膜在机械、电子、能源、信息等领域已经得到了广泛应用，而在真空镀膜中，生产效率及质量非常受人关注。真空镀膜技术又称为气相沉积技术，主要包括物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）。物理气相沉积是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子、或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法，物理气相沉积本身分为三种：真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜，近十年来发展相当快，已经成为当今最先进的表面处理方式之一。

本项目主要是关于真空离子镀领域，目前国内各厂家在多弧离子镀方面有如下一些缺点：溅射靶材上存在大颗粒，很难处理，磁场不可调引起功能比较单一，靶材利用率不好，浪费原材料；另外，阴极冷却不好，导致阴极体常常损坏。真空离子镀膜是通过离子镀膜机上的引弧针触碰靶材产生放电来实现，而现有技术中，引弧针触碰靶材的动作主要是由人工驱动，该结构存在触靶和脱离不稳定，触靶时间受人为因素影响很大，从而导致引弧针与靶材烧结等事情发生，影响生产作业。

综上所述，本实用新型设计了一种用于多弧离子镀设备圆形平面多弧靶装置。

发明内容

针对现有技术上存在的不足，本实用新型目的是在于提供一种用于多弧离子镀设备圆形平面多弧靶装置，实现离子镀膜的最佳工艺，极大的提高生产效率，并提供一种气动控制式多弧靶引弧针，结构简单，引狐动作稳定、准确，密封可靠。

为了实现上述目的，本实用新型是通过如下的技术方案来实现：一种用于多弧离子镀设备圆形平面多弧靶装置，包括靶座、密封绝缘垫、连接螺丝绝缘套、靶连接法兰、靶连接上压法兰、靶头绝缘垫、外部接线柱、靶材、屏蔽罩、磁钢装置、引弧装置和靶头装置，靶座焊接在真空腔体上，密封绝缘垫安装在靶座上，靶连接法兰压住密封绝缘垫设置，连接螺丝绝缘套通过内六角螺丝固定安装在靶连接法兰的螺孔中，O型圈安装在靶连接法兰上，靶头绝缘垫安装在O型圈上，靶头装置安装在靶头绝缘垫上，靶头装置内部通过靶连接上压法兰固定有磁钢装置，靶材在真空侧通过螺丝固定在靶头装置上，屏蔽罩通过靶材装配在靶连接法兰上，靶头装置上还连接有外部接线柱，引弧装置安装在靶连接法兰上。

作为优选，所述的靶头装置上设置有通向靶材的靶材冷却水进口和靶材冷却水出口；靶连接法兰上设置有靶连接法兰冷却水进口、靶连接法兰冷却水出口。

作为优选，所述的引弧装置包括汽缸、上连接法兰、支撑杆、绝缘导向板、下连接法兰、密封O型圈、密封骨架油封、导向杆绝缘套、引弧针、导向主杆、引弧连接线、引弧接线柱和支撑杆绝缘套，汽缸上固定有连接法兰，支撑杆通过支撑杆绝缘套固定在上连接法兰上，再连接至下连接法兰，导向主杆通过丝压固定在汽缸活塞杆上，导向主杆和汽缸活塞杆中间安装有绝缘导向板，导向主杆通过密封O型圈、密封骨架油封、导向杆绝缘套装配在一起，引弧针安装在导向主杆上，引弧接线柱连接在弧电源的引弧连接线上。

作为优选，所述的磁钢装置包括调节旋钮、调节拉杆、磁钢座上绝缘板、磁钢骨架、磁钢座和永磁钢，永磁钢安装在磁钢槽中，调节拉杆和磁钢骨架通过胶水固定在磁钢座上，磁钢座上绝缘板通过调节拉杆的丝压装配在一起，调节旋钮固定在调节拉杆上。

本实用新型具有以下有益效果：

1、本实用新型的引弧装置是通过汽缸放气使汽缸活塞杆回拉，实现导向主杆移动时带动引弧针向靶材移动，达到引弧针的针尖和靶材接触而产生放电，满足离子镀膜工作要求，并在针尖和靶材接触的瞬间，汽缸冲气，使活塞缸伸出带动导向主杆迅速移动，引使弧针的针尖与靶材脱离，避免了引弧针与靶材的烧结，确保工作及提升使用寿命。克服了现有的引弧针的技术缺陷，提供一种气动控制式多弧靶引弧针，结构简单，引狐动作稳定、准确，密封可靠；

2、提供一种直接将冷却水引到弧靶材位置，冷却均匀、迅速、密封可靠；

3、提供一种可调节的永磁体磁场，获得最佳的磁场约束效果，使弧斑均匀、细化，以达到阴极靶面的均匀烧蚀，延长靶的使用寿命，更有利于涂层的均匀性和提高附着力，实现离子镀膜的最佳工艺，极大的提高生产效率；

4、在磁钢座上提供一种均匀安装磁钢的定位孔，使磁钢安装均匀，操作方面、简单。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式来详细说明本实用新型；

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型的冷却水进出口示意图；

图3为本实用新型的引弧装置的结构示意图；

图4为图3的俯视图；

图5为本实用新型的磁钢装置的结构示意图；

图6为本实用新型的磁钢座的结构示意图；

图7为图6的侧剖图。

具体实施方式

为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本实用新型。

参照图1-图7，本具体实施方式采用以下技术方案：一种用于多弧离子镀设备圆形平面多弧靶装置，包括靶座1、密封绝缘垫2、连接螺丝绝缘套3、靶连接法兰4、靶连接上压法兰5、靶头绝缘垫6、外部接线柱7、靶材8、屏蔽罩9、磁钢装置10、引弧装置11和靶头装置16，靶座1焊接在真空腔体上，密封绝缘垫2安装在靶座1上，起到密封和绝缘的作用；靶连接法兰4压住密封绝缘垫2设置，连接螺丝绝缘套3通过内六角螺丝固定安装在靶连接法兰4的螺孔中，将螺丝与靶连接法兰隔开起到绝缘的作用；O型圈安装在靶连接法兰4上，靶头绝缘垫6安装在O型圈上，靶头装置16安装在靶头绝缘垫6上，靶头绝缘垫起到靶头装置与靶连接法兰的密封和绝缘作用；靶头装置16内部通过靶连接上压法兰5固定有磁钢装置10，靶材8在真空侧通过螺丝固定在靶头装置16上，屏蔽罩9通过靶材8装配在靶连接法兰4上，屏蔽罩起到防止溅射物溅射到靶头上引起短路；靶头装置16上还连接有外部接线柱7，引弧装置11安装在靶连接法兰4上。

值得注意的是，所述的靶头装置16上设置有通向靶材8的靶材冷却水进口12和靶材冷却水出口13；靶连接法兰4上设置有靶连接法兰冷却水进口14、靶连接法兰冷却水出口15。

值得注意的是，所述的引弧装置11包括汽缸110、上连接法兰111、支撑杆112、绝缘导向板113、下连接法兰114、密封O型圈115、密封骨架油封116、导向杆绝缘套117、引弧针118、导向主杆119、引弧连接线1110、引弧接线柱1111和支撑杆绝缘套1120，汽缸110上固定有连接法兰111，支撑杆112通过支撑杆绝缘套1120固定在上连接法兰111上，再连接至下连接法兰114，导向主杆119通过丝压固定在汽缸活塞杆上，通过汽缸活塞杆来带动导向杆往复运动；导向主杆119和汽缸活塞杆中间安装有绝缘导向板113，起到引弧针与弧靶绝缘和导向的作用；导向主杆119通过密封O型圈115、密封骨架油封116、导向杆绝缘套117装配在一起，防止真空漏气和引弧针与弧靶导通；引弧针118安装在导向主杆119上，引弧接线柱1111连接在弧电源的引弧连接线1110上。

此外，所述的磁钢装置10包括调节旋钮101、调节拉杆102、磁钢座上绝缘板103、磁钢骨架104、磁钢座105和永磁钢106，永磁钢106安装在磁钢槽中，调节拉杆102和磁钢骨架104通过胶水固定在磁钢座105上，磁钢座上绝缘板103通过调节拉杆102的丝压装配在一起，调节旋钮101固定在调节拉杆102上。本具体实施方式首先将永磁钢安装在均匀设定特殊的磁钢槽中，在将调节拉杆和磁钢骨架通过特殊胶水固定在磁钢座上，将磁钢上绝缘板通过调节拉杆的丝压装配在一起，最后将将调节旋钮固定在调节拉杆上；通过调节拉杆的丝压旋动调节旋钮，是磁钢装置上下移动，起到调节磁场的作用；

本具体实施方式冷却水分靶材冷却和靶连接法兰冷却；靶材冷却是在靶头上加工一个特殊的进、出孔引到靶材表面，形成一个循环水道，通过靶材冷却水进口进水，然后从靶材冷却水出口出去；靶连接法兰冷却是在靶连接法兰上刻出循环水到，通过靶连接法兰冷却水进口进水，然后通过靶连接法兰冷却水出口出水。

本具体实施方式提供一种可调节的永磁体磁场，获得最佳的磁场约束效果，使弧斑均匀、细化，以达到阴极靶面的均匀烧蚀，延长靶的使用寿命，更有利于涂层的均匀性和提高附着力，实现离子镀膜的最佳工艺，极大的提高生产效率，提供一种气动控制式多弧靶引弧针，结构简单，引狐动作稳定、准确，密封可靠。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims

1.一种用于多弧离子镀设备圆形平面多弧靶装置，其特征在于，包括靶座(1)、密封绝缘垫(2)、连接螺丝绝缘套(3)、靶连接法兰(4)、靶连接上压法兰(5)、靶头绝缘垫(6)、外部接线柱(7)、靶材(8)、屏蔽罩(9)、磁钢装置(10)、引弧装置(11)和靶头装置(16)，靶座(1)焊接在真空腔体上，密封绝缘垫(2)安装在靶座(1)上，靶连接法兰(4)压住密封绝缘垫(2)设置，连接螺丝绝缘套(3)通过内六角螺丝固定安装在靶连接法兰(4)的螺孔中，O型圈安装在靶连接法兰(4)上，靶头绝缘垫(6)安装在O型圈上，靶头装置(16)安装在靶头绝缘垫(6)上，靶头装置(16)内部通过靶连接上压法兰(5)固定有磁钢装置(10)，靶材(8)在真空侧通过螺丝固定在靶头装置(16)上，屏蔽罩(9)通过靶材(8)装配在靶连接法兰(4)上，靶头装置(16)上还连接有外部接线柱(7)，引弧装置(11)安装在靶连接法兰(4)上。

2.根据权利要求1所述的一种用于多弧离子镀设备圆形平面多弧靶装置，其特征在于，所述的靶头装置(16)上设置有通向靶材(8)的靶材冷却水进口(12)和靶材冷却水出口(13)；靶连接法兰(4)上设置有靶连接法兰冷却水进口(14)、靶连接法兰冷却水出口(15)。

3.根据权利要求1所述的一种用于多弧离子镀设备圆形平面多弧靶装置，其特征在于，所述的引弧装置(11)包括汽缸(110)、上连接法兰(111)、支撑杆(112)、绝缘导向板(113)、下连接法兰(114)、密封O型圈(115)、密封骨架油封(116)、导向杆绝缘套(117)、引弧针(118)、导向主杆(119)、引弧连接线(1110)、引弧接线柱(1111)和支撑杆绝缘套(1120)，汽缸(110)上固定有连接法兰(111)，支撑杆(112)通过支撑杆绝缘套(1120)固定在上连接法兰(111)上，再连接至下连接法兰(114)，导向主杆(119)通过丝压固定在汽缸活塞杆上，导向主杆(119)和汽缸活塞杆中间安装有绝缘导向板(113)，导向主杆(119)通过密封O型圈(115)、密封骨架油封(116)、导向杆绝缘套(117)装配在一起，引弧针(118)安装在导向主杆(119)上，引弧接线柱(1111)连接在弧电源的引弧连接线(1110)上。

4.根据权利要求1所述的一种用于多弧离子镀设备圆形平面多弧靶装置，其特征在于，所述的磁钢装置(10)包括调节旋钮(101)、调节拉杆(102)、磁钢座上绝缘板(103)、磁钢骨架(104)、磁钢座(105)和永磁钢(106)，永磁钢(106)安装在磁钢槽中，调节拉杆(102)和磁钢骨架(104)通过胶水固定在磁钢座(105)上，磁钢座上绝缘板(103)通过调节拉杆(102)的丝压装配在一起，调节旋钮(101)固定在调节拉杆(102)上。