CN208976387U - 一种阴极罩清洗装置 - Google Patents

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王炳
唐天权
颜加润
凌任园
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Eyck Sri Vacuum Technology (suzhou) Co Ltd
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Eyck Sri Vacuum Technology (suzhou) Co Ltd
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Abstract

本实用新型公开了一种阴极罩清洗装置,包括有底板,所述底板上设有若干立柱组件,所述立柱组件由若干个立柱组成,所述立柱组件中间设有穿孔一。立柱组件用于支撑阴极罩的凹槽,穿孔一便于清洗液体进入阴极罩内部。本实用新型提供的阴极罩清洗装置,在保证阴极罩外观品质的前提下可以同时清洗多个阴极罩,提高了工作效率,清洗质量高。通过立柱实现阴极罩的固定,稳定方便,而且便于拆卸。

Description

一种阴极罩清洗装置
技术领域
本实用新型属于设备的清洗领域,尤其涉及一种阴极罩清洗装置。
背景技术
阴极罩主要用于X射线的聚焦作用,电子经过阴极罩聚焦后形成平行光束,如图1所示,阴极罩内部设有凹槽。在把阴极罩安装进真空玻管之前,需要进行清洗机械加工和抛光留下的油污和残渣。为了保证阴极罩的表面质量,产品表面不允许划痕、碰伤等缺陷,不能将多个阴极罩同时清洗,只能一次利用超声波清洗装置清洗单个阴极罩,由于阴极罩本身体积较小,清洗时间长,导致工作效率低下。目前存在一种可以同时清洗多个外观件的载具,其对外观的固定方式是通过螺母和螺丝,使用该载具清洗阴极罩时螺丝的压迫会使阴极罩的表面磨损。
实用新型内容
为解决上述技术问题,本实用新型提出一种阴极罩清洗装置,其可在保证外观品质的前提下可同时清洗多个阴极罩,解决了工作效率低下的问题,保证了外观品质。
为了达到上述目的,本实用新型的技术方案如下:一种阴极罩清洗装置,包括有底板,所述底板上设有若干立柱组件,所述立柱组件由若干个立柱组成,所述立柱组件中间设有穿孔一。立柱组件用于支撑阴极罩的凹槽,穿孔一便于清洗液体进入阴极罩内部。
作为优选,所述立柱组件由三个立柱组成,所述立柱分布在穿孔一周围。三个立柱在保证阴极罩稳固的情况下的最优选择,减轻了重量,降低了成本。
作为优选,所述立柱组件沿底板的长度方向和宽度方向等距分布形成若干排立柱组件。这种排布方式节约了体积。
作为优选,所述底板上设有若干排穿孔二,每排穿孔二位于两排立柱组件中间。穿孔二可以减轻重量,便于提携,同时便于清洗液体的流动。由于每个立柱组件周围均分布有穿孔二,所以保证超声波清洗时液体可以在每个立柱组件周围流通。
作为优选,所述底板两侧设置有把手。把手便于取放。
本实用新型的有益效果:本实用新型提供的阴极罩清洗装置,在保证阴极罩外观品质的前提下可以同时清洗多个阴极罩,提高了工作效率,清洗质量高。通过立柱实现阴极罩的固定,稳定方便,而且便于拆卸。本实用新型提供的阴极罩清洗装置,由于设有把手且重量较轻,使用方便。
附图说明
图1为阴极罩的剖面图;
图2为本实用新型的阴极罩清洗装置的俯视图;
图3为本实用新型的阴极罩清洗装置的结构示意图;
其中:1.底板,2.立柱组件,3.立柱,4.穿孔一,5.穿孔二,6.把手。
具体实施方式
下面结合具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
如图2和图3所示,本实施例提供了一种阴极罩清洗装置,包括有底板1,底板1两侧设置有把手6。
底板1上设有若干立柱组件2,每个立柱组件2由三个立柱3组成,三个立柱3构成三角形,每个立柱3分别位于三角形的端点。三个立柱3中设有穿孔一4
立柱组件2沿底板1的长度方向和宽度方向等距分布,形成若干排立柱组件2。
底板1上设有若干排穿孔二5,每排穿孔二5位于两排立柱组件2中间。
清洗阴极罩时,将阴极罩的凹槽放在立柱组件2三个立柱3上,立柱3在凹槽内部,支撑住阴极罩。每个立柱组件2上放置一个阴极罩。通过把手6将该阴极罩清洗装置放入超声波清洗装置中,进行清洗。

Claims (5)

1.一种阴极罩清洗装置,其特征在于,包括有底板(1),所述底板(1)上设有若干立柱组件(2),所述立柱组件(2)由若干个立柱(3)组成,所述立柱组件(2)中间设有穿孔一(4)。
2.根据权利要求1所述的阴极罩清洗装置,其特征在于,所述立柱组件(2)由三个立柱(3)组成,所述立柱(3)分布在穿孔一(4)周围。
3.根据权利要求1所述的阴极罩清洗装置,其特征在于,所述立柱组件(2)沿底板(1)的长度方向和宽度方向等距分布,形成若干排立柱组件(2)。
4.根据权利要求3所述的阴极罩清洗装置,其特征在于,所述底板(1)上设有若干排穿孔二(5),每排穿孔二(5)位于两排立柱组件(2)中间。
5.根据权利要求1所述的阴极罩清洗装置,其特征在于,所述底板(1)两侧设置有把手(6)。
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