CN208861938U - 一种硅晶片烘干设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种硅晶片烘干设备，包括一烘干箱体，所述烘干箱体的侧端固定连接有气缸，且气缸的上端铰接有与烘干箱体上端配合的顶盖；所述一侧的顶盖的中部对称设有卤素灯，且位于卤素灯的侧部的顶盖上还对称设有连通烘干箱体的氮气源进口，且所述氮气源进口还与氮气源装置连通；所述烘干箱体的内部底端中心设有旋转支撑座，所述旋转支撑座上设有硅晶片放置架，且旋转支撑座通过电机驱动旋转。本实用新型的优点在于：本实用通过卤素灯电加热，进行热辐射，并结合低流量的氮气，氮气均化热辐射，使烘干箱内的硅晶片的受热均匀，并提高了烘干效率；此外，使放置在烘干箱内的硅晶片能够旋转，提高各部分与热源的接触面积，大大保证烘干的均一性。
Description
技术领域
本实用新型涉及晶片加工技术领域，特别涉及一种硅晶片烘干设备。
背景技术
在晶片生产过程中，研磨工序处于前工序。晶片经过研磨和清洗后表面需要快速干燥。干燥的方式常见的有气流干燥、喷雾干燥、旋转干燥、红外干燥、微波干燥等。对于干燥技术，有三项目标是学者公认的，即干燥操作要保证产品质量；干燥作业对环境不造成污染；干燥的节能目的。
第一种现有生产技术使晶片干燥的方法通常采用电动吹风筒对研磨后的晶片进行人工干燥操作，其存在的缺点是：(1) 人员操作时需要一边手持产品，一边手持电动吹风筒，操作起来很不方便，生产效率低；(2) 人工手持电动吹风筒存在安全隐患，人身安全得不到保障；(3) 人工操作具有随机性，容易造成晶片表面干燥区域不全面，易留有水印，干燥效率低下，并对晶片产品质量造成一定影响。
第二种现有生产技术使晶片干燥的方法通常采用SRD 甩干机对研磨后的晶片进行干燥操作，其存在缺点是：(1)SRD 甩干机比较昂贵，加大了生产设备成本；(2)SRD 甩干机在干燥的过程中需要使用去离子水，使得加工成本过高；(3) 应用SRD甩干机对晶片干燥需要10 分钟左右的时间，使得干燥晶片的生产效率低，并且存在破碎晶片的危险。
针对上述现象，专利CN 202083181 U公开了了一种晶片烘干机。该晶片烘干机，包括：箱体，所述箱体内具有箱体内腔，晶片位于箱体内腔中，箱体内腔内壁上设有至少一个吹风口，吹风口与产生热风源的风机连通，吹风口的对面设有排风口。本实用新型提供的晶片烘干机，结构简单，可实现有效、快速地烘干晶片，干燥效果好，并最大程度地节省加工成本；但是其仍存在一定的缺陷：晶片相对静止放置，各部分接触的热源不一致，进而使得晶片烘干不均匀，同时，采用热风源作为热源进行烘干，烘干效率慢。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种能够提高烘干效率且保证硅晶片烘干均匀性的硅晶片烘干设备。
为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案为：一种硅晶片烘干设备，其创新点在于：包括一烘干箱体，所述烘干箱体的侧端固定连接有气缸，且气缸的上端铰接有与烘干箱体上端配合的顶盖；
所述一侧的顶盖的中部对称设有卤素灯，且位于卤素灯的侧部的顶盖上还对称设有连通烘干箱体的氮气源进口，且所述氮气源进口还与氮气源装置连通；
所述烘干箱体的内部底端中心设有旋转支撑座，所述旋转支撑座上设有硅晶片放置架，所述旋转支撑座通过电机驱动旋转，且烘干箱体底端设有一与烘干箱体连通的废气出口。
进一步地，所述硅晶片放置架上设有若干个等间距分布的隔板，相邻隔板之间形成可容硅晶片放置的空腔。
本实用新型的优点在于：
（1）本实用新型硅晶片烘干设备，在顶盖上设置卤素灯，通过卤素灯电加热，进行热辐射，并结合低流量的氮气，氮气均化热辐射，使烘干箱内的硅晶片的受热均匀，同时，大大提高了烘干效率；此外，改固定放置为旋转放置，使放置在烘干箱内的硅晶片能够旋转，提高各部分与热源的接触面积，大大保证烘干的均一性；
（2）本实用新型硅晶片烘干设备，其中，硅晶片放置架上设有若干个等间距分布的隔板，相邻隔板之间形成可容硅晶片放置的空腔，可使硅晶片在放置架上有序排放，避免旋转过程中磕碰，保证硅晶片的质量。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
图1为本实用新型硅晶片烘干设备的结构示意图。
图2为图1硅晶片烘干设备的侧视图。
具体实施方式
下面的实施例可以使本专业的技术人员更全面地理解本实用新型，但并不因此将本实用新型限制在所述的实施例范围之中。
实施例
本实施例硅晶片烘干设备，如图1和2所示，包括一烘干箱体1，烘干箱体1的侧端固定连接有气缸2，且气缸2的上端铰接有与烘干箱体1上端配合的顶盖3。
一侧的顶盖3的中部对称设有卤素灯4，且位于卤素灯4的侧部的顶盖2上还对称设有连通烘干箱体1的氮气源进口5，且氮气源进口5还与氮气源装置6连通。
烘干箱体1的内部底端中心设有旋转支撑座7，旋转支撑座7上设有硅晶片放置架8，旋转支撑座7通过电机9驱动旋转，且烘干箱体1底端设有一与烘干箱体1连通的废气出口10。
本实施例中，为了使硅晶片在放置架8上有序排放，避免旋转过程中磕碰，保证硅晶片的质量，硅晶片放置架上设有若干个等间距分布的隔板，相邻隔板之间形成可容硅晶片放置的空腔。
本实施例硅晶片烘干设备，在顶盖3上设置卤素灯4，通过卤素灯4电加热，进行热辐射，并结合低流量的氮气，氮气均化热辐射，使烘干箱内的硅晶片的受热均匀，同时，大大提高了烘干效率；此外，改固定放置为旋转放置，使放置在烘干箱内的硅晶片能够旋转，提高各部分与热源的接触面积，大大保证烘干的均一性。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征以及本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (2)
1.一种硅晶片烘干设备，其特征在于：包括一烘干箱体，所述烘干箱体的侧端固定连接有气缸，且气缸的上端铰接有与烘干箱体上端配合的顶盖；
所述一侧的顶盖的中部对称设有卤素灯，且位于卤素灯的侧部的顶盖上还对称设有连通烘干箱体的氮气源进口，且所述氮气源进口还与氮气源装置连通；
所述烘干箱体的内部底端中心设有旋转支撑座，所述旋转支撑座上设有硅晶片放置架，所述旋转支撑座通过电机驱动旋转，且烘干箱体底端设有一与烘干箱体连通的废气出口。
2.根据权利要求1所述的硅晶片烘干设备，其特征在于：所述硅晶片放置架上设有若干个等间距分布的隔板，相邻隔板之间形成可容硅晶片放置的空腔。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201821218214.6U CN208861938U (zh) | 2018-07-31 | 2018-07-31 | 一种硅晶片烘干设备 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201821218214.6U CN208861938U (zh) | 2018-07-31 | 2018-07-31 | 一种硅晶片烘干设备 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN208861938U true CN208861938U (zh) | 2019-05-14 |
Family
ID=66413587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201821218214.6U Active CN208861938U (zh) | 2018-07-31 | 2018-07-31 | 一种硅晶片烘干设备 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN208861938U (zh) |
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2018
- 2018-07-31 CN CN201821218214.6U patent/CN208861938U/zh active Active
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Legal Events
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