CN208774325U - 一种防伪结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及防伪技术，尤其涉及一种防伪结构，该防伪结构包括底层，底层上表面连接表层，表层由二种以上子层拼接连接而成；本实用新型的防伪结构，形式上只有底层和表层，表层由子层拼接，与现有技术相比，成本较低。

Description

一种防伪结构

技术领域

本实用新型涉及防伪技术，尤其涉及一种防伪结构。

背景技术

现有技防伪术中，大多以水印、有色纤维、荧光油墨印刷、微点或微小记号的形体及随机分布等作为防伪手段。

比如，现有技术1，中国专利文献CN102108653A，公开的一种片状防伪材料，所述片状防伪材料采用正四边形以外的异形结构；且所述片状防伪材料由以下层状结构组成：纸质防伪载体层，其中所述纸质防伪载体为由至少两种纤维复配制造得到的纸张；以及防伪层。还公开了所述片状防伪材料的制备方法以及含有该片状防伪材料的防伪纸。本发明的片状防伪材料可以获得同时具备肉眼识别、快速机读、专家分析等多层次的防伪功能的防伪纸。

再比如，现有技术2，中国专利文献CN104610812A，公开的荧光硅纳米颗粒作为防伪标记的应用，由硅源制备荧光硅纳米颗粒，将得到的荧光硅纳米颗粒用做防伪墨水来制备防伪图案。由于硅纳米颗粒具有很好的荧光性质，量子产率高，储存稳定性好，具有良好的激发波长依赖性，制备的防伪图案在不同激发波长的光照下能显示不同颜色的光，能起到很好的防伪效果。

再比如，现有技术3，中国专利文献CN101673341A,公开的本发明涉及防伪技术，尤其涉及一种微点防伪方法。该方法包括以下步骤：(1)提供一种微点；(2)提供一种胶水，将微点混合于胶水之中；(3)向承载物上点混有微点的胶水；(4)固化胶水；(5)拍照胶滴，形成原始对比图片；(6)原始对比图片存入后台数据库；(7)防伪验证拍照胶滴，形成被比图片；(8)读取后台数据库原始对比图片，与被比图片比较，作出真伪判断；其中，第(5)步所述的拍照胶滴，为放大拍照；第(7)步所述的防伪验证拍照胶滴，也是放大拍照。本发明提供一种不可仿制的微点防伪方法。与此相对应，中国专利文献CN102267287A公开了一种类似的一种微点防伪印记的制备方法及及实现该方法的装置。微点防伪印记的制备方法包括以下步骤：S1，提供一种微点标记物，提供一种墨水；S2，混墨，即将微点标记物与墨水混合均匀；S3，提供至少二个喷头，提供目标物；S4，喷射，通过喷头将混有微点标记物的墨水喷向标的物；S5，干燥混有微点标记物的墨水；在喷射过程中，混墨步骤连续地进行，混墨、向喷头供墨、喷射是在全封闭的液路内完成的。本发明提供一种加工过程中不易混入杂质、 实时保持微点在墨水内分布均匀的微点防伪印记的制备方法及实现该方法的装置。

再比如，现有技术4，中国专利文献CN1350274A，公开的一种含有多数微小记号或图案的防伪标记及其形成方法，以含有多数微小图案记号的防伪标记，达成鉴定物品真伪及防止伪造的应用。物件鉴定用方法是根据在物件中所形成的至少一独特标记，它含有多数微小图案或记号，并以随机组合的方式合于标记内，以作为对比、鉴定的方法，而具有防止他人伪造及可以轻易达成识别及鉴定和对比的功效。

再比如，现有技术5，中国专利文献CN105489112A，本发明涉及防伪技术，尤其涉及一种防伪材料及其制备方法，防伪材料包括片状的单晶硅模块，单晶硅模块具有镂空区域，防伪材料还包括金属模块，金属模块镶嵌于所述镂空区域；防伪材料的制备方法，通过在玻璃基底上面镀附着层、镀牺牲层、镀单晶硅层，涂布光固胶、曝光、显影、清洗，刻蚀单晶硅层，二次涂胶、曝光、显影、清洗，镀金属模块，清洗光固胶，刻蚀牺牲层，清洗过滤；本发明提供一种具有多材质、立体感的防伪材料及其制备方法。

然而,诸如以上列举1至4，现有技术的复合纤维、荧光硅纳米颗粒、微点或微小记号的形体及随机分布等作为防伪手段，并不是向公开文本叙述的那样可以防止他人伪造的效果，随着科学技术的进步，这些技术手段均可以廉价仿制，不能仿制的只有现有技术3所述的后台数据库，但后台数据也不安全，企业的数据库很容易遭受黑客攻击，且需要通讯安全保障，仍然不理想。上述现有技术5，虽然克服了现有技术的缺陷，但金属和单晶硅材料成本都较高，工艺成本也高，尤其是刻蚀单晶硅层，需要昂贵的ICP设备，对于普通用户，实施压力较大。因而，现有技术的防伪材料与防伪手段均有或多或少的安全隐患，无安全隐患的成本高，需要不断推陈出新，不断进步。

实用新型内容

本实用新型的目的还在于克服上述现有技术的不足之处而提供一种成本低的防伪结构。

本实用新型的目的可以通过以下技术方案实现。

一种防伪结构，其特征在于：包括底层，底层上表面连接表层，表层由二种以上子层拼接连接而成。

所述的防伪结构，其特征在于：所述的防伪材料，其特征在于：所述底层是光固胶；所述子层是加有不同颜料的光固胶。

所述的防伪结构，其特征在于：所述底层是加有浅黄色颜料的光固胶；所述子层是加有其它颜料的光固胶，每个子层填加的颜料不同。

所述的防伪结构，其特征在于：所述表层的形状是图案或文字的形状。

所述的防伪结构，其特征在于：所述子层的形状是图案或文字的形状。

所述的防伪结构，其特征在于：所述表层全部位于底层上表面区域内。

所述的防伪结构，其特征在于：所述二种以上子层每个子层厚度一致，均等于表层厚度。

所述的防伪结构，其特征在于：所述底层厚度等于所述表层厚度。

所述的防伪结构，其特征在于：所述底层厚度加上所述表层厚度介于2至10微米之间。

本实用新型的防伪结构，包括底层，底层上表面连接表层，表层由二种以上子层拼接连接而成；形式上只有底层和表层，表层由多个子层拼接连接而成，表层的形状构成防伪信息，而且多个子层可以设置不同颜色，表达形式更加丰富；与现有技术相比，成本底。

附图说明

图1是本实用新型第一个实施例的正面示意图。

图2是本实用新型第一个实施例的剖面示意图，即图1的A-A剖面图。

图3是本实用新型第二个实施例S110至S130步骤的示意图。

图4是本实用新型第二个实施例S140至S170步骤的示意图。

图5是本实用新型第二个实施例S180至S210步骤的示意图。

图6是本实用新型第二个实施例S180至S210步骤的第二次循环示意图。

图7是本实用新型第二个实施例S180至S210步骤的第三次循环示意图。

图8是本实用新型第二个实施例S180至S210步骤的第四次循环形成子层的正面示意图。

图9是本实用新型第二个实施例S230步骤的示意图。

图10是本实用新型第二个实施例的流程图。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型作进一步详述。

参考图1、图2，本实用新型第一个实施例是一种防伪结构，包括底层005，底层上表面连接表层，表层由四个子层001、002、003、004拼接连接而成；所述底层005是光固胶，应当理解，所述底层005也可以是加有浅黄色颜料的光固胶，底层005设置成浅黄色，在设置子层001、002、003、004时就可以直接用底层005对位，虽然没专门对位线准确，在一定范围内可用；所述子层001、002、003、004是加有颜料的光固胶，每个子层001、 002、003、004填加的颜料不同。

所述表层的形状是图案或文字的形状，在本实施例中，四个子层001、002、003、004分别是一种图案，四个子层001、002、003、004组合成狼头的形状，即表层的形状。所述表层全部位于底层005上表面区域内。所述四个子层001、002、003、004的厚度一致，均等于表层厚度；所述底层厚度等于所述表层厚度，所述底层厚度加上所述表层厚度介于2至10微米之间。

参考图3至图10，本实用新型第二个实施例是一种防伪结构的制备方法，即本实用新型第一个实施例所述之防伪结构的制备方法，包括以下步骤：再次参考图3，S110，提供玻璃基底211；S120，在玻璃基底211上面镀附着层212；S130，在附着层212上面镀牺牲层213；形成第一半成品210。再次参考图4，S140，在第一半成品210的牺牲层213上面涂布光固胶；S150，提供紫外线光源999，提供第一次淹模板302，将S140步骤涂布的光固胶层301曝光；S160，提供显影液，显影；S170，提供纯净水，清洗；形成第二半成品310，第二半成品310的牺牲层213上已经设置完成底层005。再次参考图5，S180，在第二半成品310表面涂布光固胶与第一种颜料的混合物；S190，提供第二次淹模板402，将S180步骤制备混合物层401曝光；S200，显影；S210，清洗；形成第三半成品410，第三半成品410牺牲层213上设置底层005，底层005上设置子层001。S220，是否涂布完成所有子层？否，设定N＝1+1＝2，转S180步骤；再次参考图6，S180，在第三半成品410表面涂布光固胶与第二种颜料的混合物；S190，提供第三次淹模板502，将S180步骤制备混合物层501曝光；S200，显影；S210，清洗；形成第四半成品510，第四半成品510牺牲层213上设置底层005，底层005上设置子层001、002。S220，是否涂布完成所有子层？否，设定N＝2+1＝3，转S180步骤；再次参考图7，S180，在第四半成品510表面涂布光固胶与第三种颜料的混合物；S190，提供第四次淹模板602，将S180步骤制备混合物层601曝光；S200，显影；S210，清洗；形成第五半成品610，第五半成品610牺牲层213上设置底层005，底层005上设置子层001、002、003。S220，是否涂布完成所有子层？否，设定N＝3+1＝4，转S180步骤；再次参考图8，示出了第四次循环形成子层004的正面位置，因图1的A-A剖面没有剖切到子层004，无法用图5、图6、图7的方式表达涂布和曝光、清洗的效果。再次参考图9，S230，提供牺牲层蚀刻液，刻蚀牺牲层；S240，提供清洗过滤装备及纯净水，清洗，过滤。其中，S160步骤，所述显影，用显影液固化部分光固胶层；S170步骤，清洗，用清纯净水清洗掉S160显影步骤未固化部分光固胶层。

在本实施例中，所述S140步骤，还包括提供悬涂装备步骤，用悬涂方法涂布。所述光固胶可以选择正光固胶和负光固胶其中的一种，S160步骤提到的固化部分光固胶层是指，曝光或未曝光的部分光固胶层，具体地，对于正光固胶曝光的部分光固胶层不固化，未曝光的部分光固胶层固化；对应地，对于负光固胶曝光的部分光固胶层固化，未曝光的部分光固胶层不固化；所述S200步骤提到的显影，是指固化部分混合物涂层，即曝光或未曝光的部分混合物涂层，具体地，对于正光固胶曝光的部分混合物涂层不固化，未曝光的部分混合物涂层固化；对应地，对于负光固胶曝光的部分混合物涂层固化，未曝光的部分混合物涂层不固化。在本实施例中，所述S110提供玻璃基底，还包括把玻璃片切成方形或长方形，以及倒角、抛光、清洗、干燥步骤，供玻璃基底的厚度介于0.3至0.5毫米之间。

在本实施例中，所述S160步骤所述提供显影液，显影液是四甲基加水；所述S200步骤显影，显影液也是四甲基加水。所述S230步骤，提供牺牲层蚀刻液，对于S130步骤所镀的牺牲层是Al的话，提供蚀刻液是盐酸、氢氧化钠中的一种；对于S130步骤所镀的牺牲层是Cu的话，提供蚀刻液是双氧水。

Claims (5)

1.一种防伪结构，其特征在于：包括底层，底层上表面连接表层，表层由二种以上子层拼接连接而成。

2.根据权利要求1所述的防伪结构，其特征在于：所述表层全部位于底层上表面区域内。

3.根据权利要求1所述的防伪结构，其特征在于：所述二种以上子层每个子层厚度一致，均等于表层厚度。

4.根据权利要求1所述的防伪结构，其特征在于：所述底层厚度等于所述表层厚度。

5.根据权利要求1所述的防伪结构，其特征在于：所述底层厚度加上所述表层厚度介于2至10微米之间。