CN208420705U - 一种拉曼光谱挥发前处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种拉曼光谱挥发前处理装置，包括具有一容置腔的机体，所述容置腔内一侧配置有一处理器、挥发机构、配置于所述机体上侧且与所述处理器电性连接的触摸控制屏、以及与所述处理器电性连接的电源接口。所述挥发机构包括壳体、挥发室、循环室、恒温部。所述恒温部包括导热块、加热棒、隔温层。所述机体进一步包括一用以封闭所述第一开口的上盖，所述循环室包括通过第一排气道与所述挥发室连通的第一循环部、以及与所述第一循环部通过第二开口连通且内部容置有吸附剂的第二循环部，所述容置腔内设置有通过第二开口与所述第二循环部连通且与所述处理器连接的泵体。配置有吸附剂以及与其连接的泵体可以吸附异味。

Description

一种拉曼光谱挥发前处理装置

技术领域

本实用新型涉属于食品安全的检测领域，涉及一种拉曼光谱挥发前处理装置。

背景技术

拉曼光谱独具的分子指纹图谱识别能力，与市面上分光、胶体金产品相比，不受待测物中颜色、基质等干扰，出现假阳性及假阴性率低；一次样品检测，数秒内即可同时得出多种检测项目的检出结果，为基层监管人员现场第一时间提供可靠的检测结果。现在市场上利用拉曼光谱的独特能力设计了针对各类食品中常见的高风险农药残留、兽药残留、违法添加的非食用物质、易滥用的食品添加剂、有毒有害物质、保健品非法添加等风险监控项进行检测的拉曼光谱仪。目前的拉曼光谱挥发前处理装置在使用时由于样品会挥发出气体，生成具有异味或是有刺激性的气体，造成了工作环境充斥有异味或是有刺激性的气体。针对此问题，发明人提出了本申请。

实用新型内容

本实用新型要解决的现有的拉曼光谱挥发前处理装置在使用时生成的具有异味或是有刺激性的气体会影响工作环境的技术问题。

为解决上述技术问题，本实用新型提供的拉曼光谱离心前处理装置，配置有吸附剂以及与其连接的泵体，可以吸附异味。

本实用新型是这样实现的，一种拉曼光谱挥发前处理装置，包括具有一容置腔的机体，所述容置腔内一侧配置有一处理器、与所述处理器电性连接的挥发机构、配置于所述机体上侧且与所述处理器电性连接的触摸控制屏、以及与所述处理器电性连接的电源接口；所述挥发机构包括与所述机体下侧固定连接的壳体、位于所述壳体内上侧的挥发室、位于所述壳体内下侧且通过多个第一排气道连通所述挥发室的循环室、配置于所述挥发室的下侧且将所述挥发室的下侧分隔成上侧具有开口的多个恒温槽的恒温部；所述恒温部包括与样品接触的导热块、容置于所述导热块内且与所述处理器电性连接的加热棒、夹于所述导热块与所述壳体之间的隔温层；所述挥发室上侧具有第一开口，所述挥发室的侧壁的上端与所述机体的上侧连接；所述机体进一步包括一用以封闭所述第一开口的上盖，所述循环室包括通过第一排气道与所述挥发室连通的第一循环部、以及与所述第一循环部通过第二开口连通且内部容置有吸附剂的第二循环部，所述容置腔内设置有通过第二开口与所述第二循环部连通且与所述处理器连接的泵体。

较佳地，所述泵体通过一通气管连通所述挥发室。

较佳地，所述上盖下侧具有一将所述上盖下表面分隔成位于不同高度上的第一平面和第二平面的凸出部，所述凸出部外周与所述挥发室的侧壁贴合，所述第一平面与所述壳体上侧靠破贴合。

较佳地，所述凸出部的外周设有螺纹、挥发室的侧壁配合的螺纹。

较佳地，第一平面配置有与所述壳体上表面贴合用以封闭所述挥发室的密封圈。

较佳地，所述凸出部外周配置有与挥发室的侧壁贴合用以封闭所述挥发室的密封圈。

较佳地，所述上盖上设有连通所述挥发室与机体外侧的第二排气道。

较佳地，所述上盖暴露在机体外侧部分沿周向间隔设有多个止滑凹槽。

通过采用上述技术方案，本实用新型可以取得以下技术效果：

1、本实用新型在机体与导热块设置隔温层，可以避免温度通过机体传导到机体外界造成热量的损失以及造成恒温槽的温度的不稳定，同时，温度不会通过壳体传递至容置腔内，保证了容置于容置腔内的PCB板和处理器等电子设备的正常工作。

2、本实用新型在容置腔内配置有泵体以及与泵体连接的容置有吸附剂的第二循环部，可以吸收掉挥发机构内样品挥发出的刺激性气体，不会造成工作环境的恶化。

附图说明

图1和图2为本实用新型一种拉曼光谱挥发前处理装置的结构示意图。

图3为本实用新型第一实施例的挥发机构的结构示意图。

图4为本实用新型第一实施例的机体内部的俯视的结构示意图。

图5为本实用新型第二实施例的挥发机构的的结构示意图。

图6为本实用新型第二实施例的机体内部的俯视的结构示意图。

图7为本实用新型第三实施例的机体内部的俯视的结构示意图。

附图标识

11-机体、第三排气道111、12-触摸控制屏、121-第一PCB板、13-上盖、131-第一密封圈、132-第二密封圈、133-外螺纹、134-第二排气道、135-止滑凹槽、14-处理器、15-电源接口、16-蓄电池、17-恒温部、171-第二PCB板、18-挥发机构、19-壳体、20-泵体、201-第三PCB板、21-挥发室、211-内螺纹、22-压块、23-恒温槽、24-第一排气道、25-隔温层、26-导热块、27-加热棒、28-通气管、29-第一循环部、30-第二循环部、31-第二开口、32-第三开口。

具体实施方式

为使本实用新型实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施方式中的附图，对本实用新型实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式是本实用新型一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本实用新型中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本实用新型保护的范围。因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施方式的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施方式。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

请结合图1、图2以及图3，一种拉曼光谱挥发前处理装置，包括具有一容置腔的机体11，容置腔内的一边侧配置有一处理器14，在容置腔内与处理器14对置的位置配置有与处理器14电性连接的挥发机构18，配置于机体11上侧且与处理器14电性连接的触摸控制屏12，以及与处理器14电性连接的暴露于机体11外侧的电源接口15。挥发机构18包括配置于容置腔内且与机体11下侧固定连接的壳体19，位于壳体19内上侧的挥发室21、位于壳体19内下侧且通过多个第一排气道24连通挥发室21的循环室、配置于挥发室21的下侧且将挥发室21的下侧分隔成上侧具有开口的多个恒温槽23的恒温部17。恒温部17包括与样品接触的导热块26、容置于导热块26内且与处理器14电性连接的加热棒27、夹于导热块26与壳体19之间的隔温层25。挥发室21上侧具有第一开口，挥发室21的侧壁的上端与机体11的上侧连接并向机体11外侧暴露出挥发室21。机体进一步包括一用以封闭第一开口的上盖13。循环室包括通过第一排气道24与挥发室21连通的第一循环部29、以及与第一循环部29通过第二开口31连通且内部容置有吸附剂的第二循环部30，容置腔内设置有通过第三开口32与第二循环部30连通且与处理器14连接的泵体20。

在本实施例中，在机体11与导热块26设置隔温层25，可以避免温度通过机体11传导到机体11外界造成热量的损失以及造成恒温槽23的温度的不稳定。同时，也不会将温度传递至容置腔内，影响配置于容置腔内的其它部件的工作。在容置腔内配置有泵体20，该泵体20与容置有吸附剂的第二循环部30连通，可以通过泵体20将第一循环部29内也就是挥发室21内流至第一循环部29内样品挥发出的气体吸至第二循环部30，该挥发出的气体经过容置于第二循环部30内的吸附剂时有异味以及有刺激性的气体会被吸附剂吸收，并通过第三排气道111排至机体外侧。在气体被排出机体外侧时，挥发室21通过第二排气道134从机体11外侧吸入气体。可以理解，加入泵体20和吸附剂可以使工作环境不会充斥着难闻的各种刺激性气体。该吸附剂可以为常规的碳颗粒、硅胶颗粒等。当然，不仅仅是用于吸附气体，仍可以吸附气体中夹带的蒸汽。隔温层25的材料可为普通的导温性低的材料，如泡沫或是石棉等。同时，导热块26可以是普通的可导热的金属，也可以是石墨烯、导热硅脂等。同时，在导热块26的上侧也是铺设有隔温层25，在隔温层25的上侧设有一压块22将隔温层25压紧固定在导热块26上。

结合图4，在本实施例中，泵体20连接有第三PCB板201，第三PCB板201与处理器14电性连接。触摸控制屏12连接有第一PCB板121，第一PCB板121与处理器14电性连接。该第一PCB板121与第三PCB板201可为现有的常规的电路板。通过触摸控制屏12可以控制电热棒进行工作或停止工作。处理器14可以通过电源接口15接通电源并把电能合理地分配给各工作部件。

结合图3，上盖13下侧具有一将上盖13下表面分隔成位于不同高度上的第一平面和第二平面的凸出部，凸出部外周与挥发室21的侧壁贴合，第一平面与壳体11上侧靠破贴合。凸出部的外周设有外螺纹133、挥发室21的侧壁设有与外螺纹133配合的内螺纹211。第一平面配置有与壳体11上表面贴合用以封闭挥发室21的第一密封圈131。凸出部外周配置有与挥发室21的侧壁贴合用以封闭挥发室的第二密封圈132。上盖暴露在机体外侧部分沿周向间隔设有多个止滑凹槽135。使用外螺纹133与内螺纹211内螺纹配合的方式可以是上盖13紧固在机体11上，不会在有压力的情况下上盖13脱离机体11。设有的第一密封圈131可以在上盖13旋紧在机体11上时与机体11的上表面紧密贴合防止气体从上盖13与机体11的连接缝隙中溢出，同样地，设有的第二密封圈132可以在上盖13旋紧在机体11上时与挥发室21的侧壁紧密贴合防止气体从上盖13与机体11的连接缝隙中溢出。

在本实施例中，壳体19的上端与机体11的上侧连接，壳体19的上端与机体11的下端连接，壳体19将挥发室21与容置腔隔离开来，也就是说，将挥发机构的内部腔体与容置腔隔离开来，使他们之间不连通。可以理解的是，挥发室21内样品挥发出的气体无法流入容置腔内，也就是说不会影响配置于容置腔内的PCB板、处理器得等部件的工作和寿命。

请结合图5和图6，本申请另提供一实施例，不同于第一实施例，在第二实施例中，泵体20通过通气管28连通挥发室21，泵体20与壳体11外侧不连通，且上盖13上没有设置第二排气道134。泵体20通过将挥发室21内的气体经由第一循环部29与第二循环部30吸入，并进一步经由通气管28输出至挥发室21。也就是说，将有刺激性及异味的气体经由容置于第二循环部30内的吸附剂吸收后重新导入挥发室21，达成气体在挥发机构内部的循环。可以理解的是，本实施例的拉曼光谱挥发前处理装置在工作时，不会有气体外溢，气体直接在挥发机构内部循环，且在刺激性气味的气体会被吸附剂吸收，在该装置完成工作后，打开上盖13不会有异味及刺激性的气体。第二实施例未提及的其它特性可与第一实施例相同，且可采用的变形实施方式亦可与第一实施例相同，故不再赘述。

请结合图7，不同于同于第一、第二实施例，在第三实施例中，在处理器14与电源接口15之间连接有蓄电池16，该蓄电池16可通过电源接口15连接电源，同时，该蓄电池16可储蓄电能，方便携带外出使用并适用于无电源插口的环境。第三实施例未提及的其它特性可与第一或第二实施例相同，且可采用的变形实施方式亦可与第一或第二实施例相同，故不再赘述。

以上所述仅为本实用新型的优选实施方式，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种拉曼光谱挥发前处理装置，包括具有一容置腔的机体，所述容置腔内一侧配置有一处理器、与所述处理器电性连接的挥发机构、配置于所述机体上侧且与所述处理器电性连接的触摸控制屏、以及与所述处理器电性连接的电源接口；所述挥发机构包括与所述机体下侧固定连接的壳体、位于所述壳体内上侧的挥发室、位于所述壳体内下侧且通过多个第一排气道连通所述挥发室的循环室、配置于所述挥发室的下侧且将所述挥发室的下侧分隔成上侧具有开口的多个恒温槽的恒温部；所述恒温部包括与样品接触的导热块、容置于所述导热块内且与所述处理器电性连接的加热棒、夹于所述导热块与所述壳体之间的隔温层；所述挥发室上侧具有第一开口，所述壳体的上端与所述机体的上侧连接；所述机体进一步包括用以封闭所述第一开口的上盖；所述循环室包括通过第一排气道与所述挥发室连通的第一循环部、以及与所述第一循环部通过第二开口连通且内部容置有吸附剂的第二循环部，所述容置腔内设置有通过第三开口与所述第二循环部连通且与所述处理器连接的泵体。

2.根据权利要求1所述的一种拉曼光谱挥发前处理装置，其特征在于，所述泵体通过一通气管连通所述挥发室。

3.根据权利要求1所述的一种拉曼光谱挥发前处理装置，其特征在于，所述上盖下侧具有一将所述上盖下表面分隔成位于不同高度上的第一平面和第二平面的凸出部，所述凸出部外周与所述挥发室的侧壁贴合，所述第一平面与所述壳体上侧靠破贴合。

4.根据权利要求3所述的一种拉曼光谱挥发前处理装置，其特征在于，所述凸出部的外周设有外螺纹、挥发室的侧壁设有与所述外螺纹配合的内螺纹。

5.根据权利要求3所述的一种拉曼光谱挥发前处理装置，其特征在于，第一平面配置有与所述壳体上表面贴合用以封闭所述挥发室的第一密封圈。

6.根据权利要求3所述的一种拉曼光谱挥发前处理装置，其特征在于，所述凸出部外周配置有与挥发室的侧壁贴合用以封闭所述挥发室的第二密封圈。

7.根据权利要求1所述的一种拉曼光谱挥发前处理装置，其特征在于，所述上盖上设有连通所述挥发室与机体外侧的第二排气道。

8.根据权利要求1所述的一种拉曼光谱挥发前处理装置，其特征在于，所述上盖暴露在机体外侧部分沿周向间隔设有多个止滑凹槽。