CN208321481U - 石英晶片的清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及石英晶片的清洗装置,包括底座,底座上设置有凹槽,凹槽内活动设置有清洗筒,清洗筒侧面底部设置有排水管,清洗筒底部与凹槽之间设置有若干滚珠,清洗筒连接有位于底座底部的驱动电机,底座上设置有支架,支架底部设置有伸缩杆,伸缩杆底部设置有伸入清洗筒内的固定杆,固定杆上固定有若干层连接杆,连接杆固定有网状清洗盒,支架顶部设置有热风机,热风机连接有若干伸入清洗筒内的出气管,出气管上设置有与清洗盒一一对应的喷气头;本实用新型避免清洗过程中发生磕碰损伤,同时保证晶片清洗彻底,网状的清洗盒利于晶片沥水,清洗盒与喷气头一一对应,使得每个清洗盒内的晶片充分干燥。
Description
技术领域
本实用新型涉及晶片生产设备领域,具体是石英晶片的清洗装置。
背景技术
在晶片加工工厂里,腐蚀工序加工完成后,通常需要清洗,再用无水乙醇脱水,然后烘干。清洗时受到晶片叠放的影响,会造成晶片清洗不彻底,带来水印、脏污等问题,同时影响干燥,造成晶片干燥不彻底等问题。
实用新型内容
针对上述不足,本实用新型的目的在于,提供避免晶片堆叠,清洗过程中发生磕碰损伤,同时保证晶片清洗彻底,晶片充分干燥的石英晶片的清洗装置。
为实现上述目的,本实用新型提供以下技术方案:石英晶片的清洗装置,包括底座,底座上设置有凹槽,凹槽内活动设置有清洗筒,清洗筒侧面底部设置有排水管,清洗筒底部与凹槽之间设置有若干滚珠,清洗筒连接有位于底座底部的驱动电机,底座上设置有支架,支架底部设置有伸缩杆,伸缩杆底部设置有伸入清洗筒内的固定杆,固定杆上固定有若干层连接杆,连接杆固定有网状清洗盒,支架顶部设置有热风机,热风机连接有若干伸入清洗筒内的出气管,出气管上设置有与清洗盒一一对应的喷气头。
进一步优化的方案,所述的伸缩杆为电动伸缩杆。
再进一步优化的方案,若干所述的清洗盒上设置有盒盖。
本实用新型与现有技术相比具有的有益效果是:本实用新型通过单个清洗盒内对应放置一个晶片,避免晶片堆叠,清洗过程中发生磕碰损伤,同时保证晶片清洗彻底,通过驱动电机带动清洗筒旋转,清洗液对清洗盒内的晶片进行冲刷清洗,清洗完毕后,通过排水管排出清洗液,网状的清洗盒利于晶片沥水,热风机产生热风,清洗盒与喷气头一一对应,使得每个清洗盒内的晶片充分干燥。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为清洗盒与固定杆的连接示意图。
图中标号为:1-底座、2-凹槽、3-清洗筒、4-排水管、5-滚珠、6-驱动电机、7-支架、8-伸缩杆、9-固定杆、10-连接杆、11-清洗盒、12-热风机、13-出气管、14-喷气头、15-盒盖。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
参照附图1-2可知,石英晶片的清洗装置,包括底座1,底座1上设置有凹槽2,凹槽2内活动设置有清洗筒3,清洗筒3侧面底部设置有排水管4,清洗筒3底部与凹槽2之间设置有若干滚珠5,清洗筒3连接有位于底座1底部的驱动电机6,底座1上设置有支架7,支架7底部设置有伸缩杆8,伸缩杆8底部设置有伸入清洗筒3内的固定杆9,固定杆9上固定有若干层连接杆10,连接杆10固定有网状清洗盒11,支架7顶部设置有热风机12,热风机12连接有若干伸入清洗筒3内的出气管13,出气管13上设置有与清洗盒11一一对应的喷气头14。
进一步的,所述的伸缩杆8为电动伸缩杆。
进一步的,若干所述的清洗盒11上设置有盒盖15。
本实用新型使用时,单个清洗盒11内对应放置一个晶片,避免晶片堆叠,清洗过程中发生磕碰损伤,同时保证晶片清洗彻底,通过驱动电机6带动清洗筒3旋转,清洗液对清洗盒11内的晶片进行冲刷清洗,清洗完毕后,通过排水管4排出清洗液,网状的清洗盒11利于晶片沥水,热风机12产生热风,清洗盒11与喷气头14一一对应,使得每个清洗盒11内的晶片充分干燥。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (3)
1.石英晶片的清洗装置,包括底座,其特征在于:底座上设置有凹槽,凹槽内活动设置有清洗筒,清洗筒侧面底部设置有排水管,清洗筒底部与凹槽之间设置有若干滚珠,清洗筒连接有位于底座底部的驱动电机,底座上设置有支架,支架底部设置有伸缩杆,伸缩杆底部设置有伸入清洗筒内的固定杆,固定杆上固定有若干层连接杆,连接杆固定有网状清洗盒,支架顶部设置有热风机,热风机连接有若干伸入清洗筒内的出气管,出气管上设置有与清洗盒一一对应的喷气头。
2.根据权利要求1所述的石英晶片的清洗装置,其特征在于:所述的伸缩杆为电动伸缩杆。
3.根据权利要求1所述的石英晶片的清洗装置,其特征在于:若干所述的清洗盒上设置有盒盖。
Priority Applications (1)
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CN201820266187.3U CN208321481U (zh) | 2018-02-23 | 2018-02-23 | 石英晶片的清洗装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN201820266187.3U CN208321481U (zh) | 2018-02-23 | 2018-02-23 | 石英晶片的清洗装置 |
Publications (1)
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Family
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN111632938A (zh) * | 2020-06-01 | 2020-09-08 | 田魏华 | 一种五件加工用零件清洗装置 |
CN113020025A (zh) * | 2021-04-09 | 2021-06-25 | 鹰潭市瑞晟科技有限公司 | —种损坏率低的精密轴件的清洗设备 |
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2018
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Legal Events
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GR01 | Patent grant | ||
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Granted publication date: 20190104 Termination date: 20200223 |
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