CN208023082U - 一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备,由镀膜设备构成,所述镀膜设备由镀膜箱和加热设备构成,所述加热设备位于镀膜箱的底端且通过固定架与镀膜箱固定连接,所述镀膜箱顶部设有放电箱,所述放电箱内部设有离子发生器,所述镀膜箱侧壁上设有真空泵,所述真空泵内的旋转叶通过轴承于真空泵电机连接,所述镀膜箱内部设有基片夹具和坩埚,所述基片夹具的一端上设有基片,另一端通过导电装置与离子发生器连接,通过控制芯片内的智能模块的设计,使得整个镀膜设备变得智能化和人性化,通过控制芯片上的定时模块、控制模块和解析模块的协调确保了整个镀膜流程无需人力监管,从而解决了人力资源的输出问题。

Description

一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域,具体为一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备。
背景技术
真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术,在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上,真空镀膜设备,主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种,主要思路是分成蒸发和溅射两种。
目前的真空镀膜设备大多以离子蒸发模式为主,通常的离子蒸发设备多为半自动化设备,提供设备自动化镀膜的同时,需要人工进行监督和看管,从而造成人力资源的输出的现象,从而使得整个镀膜设备不具有智能化和人性化。为了解决上述问题,因此,我们提出了一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备,解决了背景技术中所提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备,由镀膜设备构成,所述镀膜设备由镀膜箱和加热设备构成,所述加热设备位于镀膜箱的底端且通过固定架与镀膜箱固定连接,所述镀膜箱顶部设有放电箱,所述放电箱内部设有离子发生器,所述镀膜箱侧壁上设有真空泵,所述真空泵内的旋转叶通过轴承于真空泵电机连接,所述镀膜箱内部设有基片夹具和坩埚,所述基片夹具的一端上设有基片,另一端通过导电装置与离子发生器连接,所述坩埚通过导热装置与加热设备内部的加热器连接,所述加热设备外部设有控制器,所述控制器外部设有显示屏、控制按键,所述控制器内部设有控制芯片、电路控制板和显示解调器,所述控制芯片通过集成线分别与控制按键、真空泵电机、离子发生器、加热器、电路控制板和显示解调器,所述显示解调器通过视频线与显示屏连接。
作为本实用新型的一种优选实施方式,所述控制芯片内部设有定时模块、控制模块和解析模块。
作为本实用新型的一种优选实施方式,所述镀膜箱和加热设备上均设有橡胶绝缘膜套,所述橡胶绝缘膜套均通过螺丝固定于镀膜箱和加热设备外壁上。
作为本实用新型的一种优选实施方式,所述与控制芯片连接的集成线内部由电源连接、信息传输线和信息接收线构成。
作为本实用新型的一种优选实施方式,所述电路控制板内部板体设有电路保护装置。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果如下:
通过控制芯片内的智能模块的设计,使得整个镀膜设备变得智能化和人性化,通过控制芯片上的定时模块、控制模块和解析模块的协调运行,确保了整个镀膜流程无需人力监管,从而解决了人力资源的输出问题。
附图说明
图1为本实用新型一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备整体外观结构示意图;
图2为本实用新型一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备内部装置结构示意图;
图3为本实用新型一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备控制器内部结构示意图;
图4为本实用新型一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备工作原理结构示意图。
图中:1-镀膜设备,2-镀膜箱,3-加热设备,4-放电箱,5-真空泵,6-控制器,7-离子发生器,8-基片夹具,9-基片,10-坩埚,11-加热器,12-控制芯片,13-电路控制板,14-显示解调器。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-4,本实用新型提供一种技术方案:一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备,由镀膜设备1构成,所述镀膜设备1由镀膜箱2和加热设备3构成,所述加热设备3位于镀膜箱2的底端且通过固定架与镀膜箱1固定连接,所述镀膜箱2顶部设有放电箱4,所述放电箱4内部设有离子发生器7,所述镀膜箱2侧壁上设有真空泵5,所述真空泵5内的旋转叶通过轴承于真空泵电机连接,所述镀膜箱2内部设有基片夹具8和坩埚10,所述基片夹具8的一端上设有基片9,另一端通过导电装置与离子发生器7连接,所述坩埚10通过导热装置与加热设备3内部的加热器11连接,所述加热设备3外部设有控制器6,所述控制器6外部设有显示屏、控制按键,所述控制器6内部设有控制芯片12、电路控制板13和显示解调器14,所述控制芯片12通过集成线分别与控制按键、真空泵电机、离子发生器7、加热器11、电路控制板13和显示解调器14,所述显示解调器14通过视频线与显示屏连接。
作为本实用新型的一种优选实施方式,所述控制芯片12内部设有定时模块、控制模块和解析模块。通过时间模块可以有效的对真空泵电机、离子发生器和加热器进行时间设定,通过控制模块有效的对真空泵电机、离子发生器和加热器进行控制,通过解析模块可以将不同信号进行分类传输。
作为本实用新型的一种优选实施方式,所述镀膜箱2和加热设备3上均设有橡胶绝缘膜套,所述橡胶绝缘膜套均通过螺丝固定于镀膜箱2和加热设备3外壁上。通过橡胶绝缘套膜套的的添加,有效的增强了镀膜安全性,避免了外部出现触电的情况。
作为本实用新型的一种优选实施方式,所述与控制芯片12连接的集成线内部由电源连接、信息传输线和信息接收线构成。通过集成线的设定,有效的解决了线路繁多连接复杂的现象。
作为本实用新型的一种优选实施方式,所述电路控制板13内部板体设有电路保护装置。电路保护装置在出现设备短路情况下,能有效的断开电流的流通,为设备提供保护。
本实用新型所述的一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备,首先将需要镀膜的物品放入镀膜箱2内的坩埚10上,并锁紧密封镀膜箱2,通过控制器6上控制按键启动真空泵电机,使真空泵5运行,将镀膜箱2内的空气抽出,使镀膜箱2内保持真空,在通过控制按键对离子发生器7和加热器11运行时间的设定,并运行,离子发生器7和加热器11会根据具体设定的运行时间进行工作,镀膜完毕后,会自动关闭,取出镀膜物品即可。
本实用新型的镀膜设备1,镀膜箱2,加热设备3,放电箱4,真空泵5,控制器6,离子发生器7,基片夹具8,基片9,坩埚10,加热器11,控制芯片12,电路控制板13,显示解调器14,部件均为通用标准件或本领域技术人员知晓的部件,其结构和原理都为本技术人员均可通过技术手册得知或通过常规实验方法获知,本实用新型解决的问题是通常的离子蒸发设备多为半自动化设备,提供设备自动化镀膜的同时,需要人工进行监督和看管,从而造成人力资源的输出。本实用新型采用通过控制芯片12内的智能模块的设计,使得整个镀膜设备变得智能化和人性化,通过控制芯片12上的定时模块、控制模块和解析模块的协调运行,确保了整个镀膜流程无需人力监管,从而解决了人力资源的输出问题。
最后应说明的是:以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备,由镀膜设备(1)构成,其特征在于:所述镀膜设备(1)由镀膜箱(2)和加热设备(3)构成,所述加热设备(3)位于镀膜箱(2)的底端且通过固定架与镀膜箱(1)固定连接,所述镀膜箱(2)顶部设有放电箱(4),所述放电箱(4)内部设有离子发生器(7),所述镀膜箱(2)侧壁上设有真空泵(5),所述真空泵(5)内的旋转叶通过轴承于真空泵电机连接,所述镀膜箱(2)内部设有基片夹具(8)和坩埚(10),所述基片夹具(8)的一端上设有基片(9),另一端通过导电装置与离子发生器(7)连接,所述坩埚(10)通过导热装置与加热设备(3)内部的加热器(11)连接;
所述加热设备(3)外部设有控制器(6),所述控制器(6)外部设有显示屏、控制按键,所述控制器(6)内部设有控制芯片(12)、电路控制板(13)和显示解调器(14),所述控制芯片(12)通过集成线分别与控制按键、真空泵电机、离子发生器(7)、加热器(11)、电路控制板(13)和显示解调器(14),所述显示解调器(14)通过视频线与显示屏连接。
2.根据权利要求1所述的一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备,其特征在于:所述控制芯片(12)内部设有定时模块、控制模块和解析模块。
3.根据权利要求1所述的一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备,其特征在于:所述镀膜箱(2)和加热设备(3)上均设有橡胶绝缘膜套,所述橡胶绝缘膜套均通过螺丝固定于镀膜箱(2)和加热设备(3)外壁上。
4.根据权利要求1所述的一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备,其特征在于:所述与控制芯片(12)连接的集成线内部由电源连接、信息传输线和信息接收线构成。
5.根据权利要求1所述的一种用于磁芯镀膜的真空镀膜设备,其特征在于:所述电路控制板(13)内部板体设有电路保护装置。
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