CN207831905U - 一种双室真空炉的上下腔压力平衡系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种双室真空炉的上下腔压力平衡系统，与双室真空炉相对应，双室真空炉上设置上腔和下腔，其特征在于：包括安装在上腔内的真空室且真空室连接下腔；所述上腔和下腔分别连通有抽真空管路；所述两个抽真空管路的外侧端部连通有真空机组；所述抽真空管路上设置有压力传感器。本实用新型设计合理，将上下腔同时抽真空，真空度达到低真空时，关闭上腔与真空机组连接的腔阀，下腔继续抽真空到工艺真空度，此时上腔也为负压环境，使得反应室内外压力的压差很小，大大减小了真空室的漏气率，保证材料在高温烧结时工艺腔内的温度，同时，因为真空室内外压差变小，在高温状态下变形量更小，使用寿命更长，实用性强，适于推广。
Description
技术领域
本实用新型属于双室真空炉领域，更具体地说，涉及一种双室真空炉的上下腔压力平衡系统。
背景技术
常见的立式双室真空烧结炉抽真空时只抽下腔和与下腔相连的真空室，真空室外的上腔不抽真空，维持真空室在高真空状态下对材料进行真空烧结。鉴于此系统真空室内外压差巨大，造成真空室漏率较高，很难提供稳定的工艺环境，且真空室长期处于高温、高压状态易变形，影响真空室寿命，增加生产成本。
实用新型内容
针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种双室真空炉的上下腔压力平衡系统，设计合理，将上下腔同时抽真空，真空度达到低真空时，关闭上腔与真空机组连接的腔阀，下腔继续抽真空到工艺真空度，此时上腔也为负压环境，使得反应室内外压力的压差很小，大大减小了真空室的漏气率，保证材料在高温烧结时工艺腔内的温度，同时，因为真空室内外压差变小，在高温状态下变形量更小，使用寿命更长，实用性强，适于推广。
为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：
一种双室真空炉的上下腔压力平衡系统，与双室真空炉相对应，双室真空炉上设置上腔和下腔，其特征在于：包括安装在上腔内的真空室且真空室连接下腔；所述上腔和下腔分别连通有抽真空管路；所述两个抽真空管路的外侧端部连通有真空机组；所述抽真空管路上设置有压力传感器。
作为一种优化的技术方案，所述真空室通过法兰连接在下腔上，真空室与法兰通过密封圈密封。
作为一种优化的技术方案，所述两个抽真空管路通过真空阀门连接到同一套真空机组，真空机组可以分别对两个抽真空管路进行抽真空。
作为一种优化的技术方案，所述两个抽真空管路上分别安装有压力传感器，通过传感器反馈的压力值，进行比较调节压力平衡。
作为一种优化的技术方案，所述压力平衡是通过控制真空阀门进行上腔和下腔抽真空动作。
由于采用了上述技术方案，与现有技术相比，本实用新型设计合理，将上下腔同时抽真空，真空度达到低真空时，关闭上腔与真空机组连接的腔阀，下腔继续抽真空到工艺真空度，此时上腔也为负压环境，使得反应室内外压力的压差很小，大大减小了真空室的漏气率，保证材料在高温烧结时工艺腔内的温度，同时，因为真空室内外压差变小，在高温状态下变形量更小，使用寿命更长，实用性强，适于推广。
参照附图和实施例对本实用新型做进一步说明。
附图说明
图1为本实用新型一种实施例的结构示意图。
具体实施方式
实施例
如图1所示，一种双室真空炉的上下腔压力平衡系统，与双室真空炉相对应，双室真空炉上设置上腔6和下腔7，包括安装在上腔6内的真空室5且真空室5连接下腔7。所述上腔6和下腔7分别连通有抽真空管路，所述两个抽真空管路的外侧端部连通有真空机组3。所述抽真空管路上设置有压力传感器1和压力传感器8。
所述真空室5通过法兰4连接在下腔7上，真空室5与法兰4通过密封圈2密封。
所述两个抽真空管路通过真空阀门9连接到同一套真空机组3，真空机组3可以分别对两个抽真空管路进行抽真空。
所述两个抽真空管路上分别安装有压力传感器1和压力传感器8，通过传感器反馈的压力值，进行比较调节压力平衡。
所述压力平衡是通过控制真空阀门9进行上腔6和下腔7抽真空动作。
本实用新型设计合理，将上下腔同时抽真空，真空度达到低真空时，关闭上腔与真空机组连接的腔阀，下腔继续抽真空到工艺真空度，此时上腔也为负压环境，使得反应室内外压力的压差很小，大大减小了真空室的漏气率，保证材料在高温烧结时工艺腔内的温度，同时，因为真空室内外压差变小，在高温状态下变形量更小，使用寿命更长，实用性强，适于推广。
本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (5)
1.一种双室真空炉的上下腔压力平衡系统，与双室真空炉相对应，双室真空炉上设置上腔和下腔，其特征在于：包括安装在上腔内的真空室且真空室连接下腔；所述上腔和下腔分别连通有抽真空管路；所述两个抽真空管路的外侧端部连通有真空机组；所述抽真空管路上设置有压力传感器。
2.根据权利要求1所述的一种双室真空炉的上下腔压力平衡系统，其特征在于：所述真空室通过法兰连接在下腔上，真空室与法兰通过密封圈密封。
3.根据权利要求1所述的一种双室真空炉的上下腔压力平衡系统，其特征在于：所述两个抽真空管路通过真空阀门连接到同一套真空机组，真空机组可以分别对两个抽真空管路进行抽真空。
4.根据权利要求3所述的一种双室真空炉的上下腔压力平衡系统，其特征在于：所述两个抽真空管路上分别安装有压力传感器，通过传感器反馈的压力值，进行比较调节压力平衡。
5.根据权利要求4所述的一种双室真空炉的上下腔压力平衡系统，其特征在于：所述压力平衡是通过控制真空阀门进行上腔和下腔抽真空动作。
Priority Applications (1)
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| CN201820095756.2U CN207831905U (zh) | 2018-01-21 | 2018-01-21 | 一种双室真空炉的上下腔压力平衡系统 |
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Publications (1)
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2018
- 2018-01-21 CN CN201820095756.2U patent/CN207831905U/zh not_active Expired - Fee Related
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Legal Events
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Granted publication date: 20180907 Termination date: 20220121 |
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