CN207693098U - 一种增加珠宝闪亮度的镶嵌结构 - Google Patents

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肖洪安
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Abstract

本实用新型提供的一种增加珠宝闪亮度的镶嵌结构包括珠宝主体和固定珠宝主体的镶嵌件,所述珠宝主体为纺锤状,包括上部锥形的折射面、中部柱状的直身位和下部倒置锥形的底面,所述镶嵌件开有与珠宝主体的中部和下部相对应的直侧壁和反射壁,所述反射壁上开有钝角形凹槽。本实用新型提供的一种增加珠宝闪亮度的镶嵌结构采用合理结构,增加了进入珠宝主体的光通量,进而增加了珠宝闪亮度。

Description

一种增加珠宝闪亮度的镶嵌结构
技术领域
本实用新型涉及镶嵌珠宝领域,具体涉及一种增加珠宝闪亮度的镶嵌结构。
背景技术
珠宝的镶嵌是一个既传统又创新的技术,现有的镶嵌件主要起固定珠宝主体的作用,对珠宝的闪亮度影响不大,难以提高珠宝的闪亮度。
实用新型内容
针对现有技术的上述缺陷和问题,本实用新型所要解决的技术问题是提供一种增加珠宝闪亮度的镶嵌结构,不仅稳固固定珠宝主体而且能大幅提高珠宝主体的闪亮度。
为了达到上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种增加珠宝闪亮度的镶嵌结构,包括珠宝主体和固定珠宝主体的镶嵌件,所述珠宝主体为纺锤状,包括上部锥形的折射面、中部柱状的直身位和下部倒置锥形的底面,所述镶嵌件开有与珠宝主体的中部和下部相对应的直侧壁和反射壁,所述反射壁上开有钝角形凹槽。
上述技术方案中,所述钝角形凹槽的纵向边的长度大于横向边的长度。
上述技术方案中,所述镶嵌件的底端开有上大下小的圆台状的凹槽。
本实用新型提供的一种增加珠宝闪亮度的镶嵌结构采用合理结构,增加了进入珠宝主体的光通量,进而增加了珠宝闪亮度。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本实用新型的镶嵌件结构示意图;
图2是本实用新型的珠宝主体结构示意图;
图3是本实用新型的实施例调整前结构示意图;
图4是本实用新型的实施例调整后结构示意图。
图中,1、镶嵌件;2、反射壁;3、直侧壁;4、折射面;5、直身位;6、底部。
具体实施方式
下面将结合本实用新型的附图,对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
根据图1、图2、图3、图4所示,作为实施例所示的一种增加珠宝闪亮度的镶嵌结构包括珠宝主体和固定珠宝主体的镶嵌件。珠宝主体为纺锤状,包括上部锥形的折射面、中部柱状的直身位和下部倒置锥形的底面;镶嵌件开有与珠宝主体的中部和下部相对应的直侧壁和反射壁,反射壁上开有钝角形凹槽。反射壁和直身位与珠宝主体的底部、直身位共同配合,增加进入珠宝主体的光通量,从而增加珠宝闪亮度。反射壁、直身位、折射面在一起形成一个光线反射、折射机构,使得光线在进入这个反射、折射机构后再折射到人眼,从而使珠宝出现闪亮度,当光通量增加时珠宝主体闪亮度随之增加。
本实施方式中,钝角形凹槽的纵向边的长度大于横向边的长度,镶嵌件的底端开有上大下小的圆台状的凹槽。
增加珠宝闪亮度生产工艺包括如下步骤:
把待加工的珠宝镶嵌工件装入CNC数控机进行反射壁、直身位加工,加工形状由图3向图4调整,调整反射壁角度和数量,减小直身位深度;
完成加工后将工件取出;
将珠宝镶嵌工件进行表面抛光处理,清除毛刺;
将珠宝主体放入镶嵌件并固定好;
将珠宝镶嵌件外发进行表面处理;
表面处理完后,再进行后续加工。
利用本实用新型的技术方案制订的增加珠宝闪亮度的生产工艺,可实现标准化生产,大幅度增加进入珠宝主体的光通量,经过反射壁反射、折射后,从而增加珠宝闪亮度。
以上所述,仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应所述以权利要求的保护范围为。

Claims (3)

1.一种增加珠宝闪亮度的镶嵌结构,包括珠宝主体和固定珠宝主体的镶嵌件,其特征在于:所述珠宝主体为纺锤状,包括上部锥形的折射面、中部柱状的直身位和下部倒置锥形的底面,所述镶嵌件开有与珠宝主体的中部和下部相对应的直侧壁和反射壁,所述反射壁上开有钝角形凹槽。
2.根据权利要求1所述的一种增加珠宝闪亮度的镶嵌结构,其特征在于:所述钝角形凹槽的纵向边的长度大于横向边的长度。
3.根据权利要求1所述的一种增加珠宝闪亮度的镶嵌结构,其特征在于:所述镶嵌件的底端开有上大下小的圆台状的凹槽。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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