CN207659518U - 一种用于手机玻璃基板生产的表面镀膜装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种用于手机玻璃基板生产的表面镀膜装置，包括真空室，真空室的外表面上设有小多弧源和电磁控大面积弧源，真空室的竖向中心上设有柱弧源，真空室的底端设有旋转靶台，旋转靶台的左右两端均设有工件架，真空室的底端两侧分别设有真空抽气系统和送气系统，真空室底部设有中空容纳间，中空容纳间内设有伺候旋转电机，旋转靶台底部中心位置处设有柱形孔，绕柱形孔外设有导向套筒，伺候旋转电机连接有旋转杆，旋转杆穿过真空室底端铆接在柱形孔内，导向套筒与旋转杆之间通过卡箍固定，旋转靶台上设有套接孔，工件架通过若干个第一轴承安装在套接孔内，结构简单，镀膜稳定，提高真空室内各点成膜的一致性和镀膜的效率，提升了镀膜的成品率。

Description

一种用于手机玻璃基板生产的表面镀膜装置

技术领域

本实用新型涉及玻璃基板加工技术领域，具体为一种用于手机玻璃基板生产的表面镀膜装置。

背景技术

玻璃基板在进行切割、倒角、加工等工序时会在边缘产生伤痕或裂纹，需要通过对边缘的研磨提高其机械强度。目前传统的研磨工序采用研磨刀轮对玻璃边缘进行研磨，这种研磨方式会对基板边缘产生热效应，导致研磨效果不稳定，容易出现掉片和裂纹等缺陷。传统解决方式是在研磨轮与玻璃基板的接触面喷射冷却水进行冷却，但是单方向的冷却水冲击力会使基板玻璃边缘的上下两侧研磨幅度不均匀，影响玻璃基板在后续加工和应用中的稳定性。此外，传统的研磨方式对研磨轮消耗较大，随着研磨里程增加，研磨刀轮的磨损严重，为了保证研磨效果，需要定期停机更换，影响生产节拍，费时费材料。

目前在玻璃基板加工时，需要对其表面连续镀制各种多层膜及复合化合物膜，以对玻璃基板起到保护的作用，但是在镀膜的过程中，由于旋转力度和转速的因素，导致镀膜的效率低，而且成膜不稳定，导致玻璃基板上的镀膜层不均匀，严重的降低了镀膜的成品率，并且由于只是旋转靶台的旋转，导致对旋转动力的需求大，耗费大量的电能。

发明内容

为了克服现有技术方案的不足，本实用新型提供一种用于手机玻璃基板生产的表面镀膜装置，结构简单，镀膜稳定，提高了真空室内各点成膜的一致性，间接起到玻璃基板加工时稳弧的作用，提高了镀膜的效率，提升了镀膜的成品率，节约成本，可以有效解决背景技术中的问题。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种用于手机玻璃基板生产的表面镀膜装置，包括真空室，所述真空室的内表面上设有小多弧源和电磁控大面积弧源，且在真空室的竖向中心上设有柱弧源，所述真空室的底端设有旋转靶台，所述旋转靶台的左右两端均设有工件架，在真空室的底端两侧还分别设有真空抽气系统和送气系统；

所述真空室底部设有中空容纳间，所述中空容纳间内设有伺候旋转电机，所述旋转靶台底部中心位置处设有柱形孔，绕所述柱形孔外设有导向套筒，所述伺候旋转电机连接有旋转杆，所述旋转杆穿过所述真空室底端，且旋转杆铆接在所述柱形孔内，所述导向套筒与所述旋转杆之间通过卡箍固定，所述旋转靶台上设有套接孔，所述工件架通过若干个第一轴承固定安装在所述套接孔内。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述真空室呈空腔的双层圆柱筒结构，所述真空室由双层不锈钢制作而成，所述小多弧源和电磁控大面积弧源安装在所述真空室内层外表面。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述小多弧源和电磁控大面积弧源均滚阿玉真空室的轴线对称分布，且在小多弧源和电磁控大面积弧源的外侧端部固定安装有弧源反射挡片。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述真空抽气系统和送气系统关于所述旋转靶台呈对称分布在所述旋转靶台的两侧。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述导向套筒与真空室底端连接处设有第二轴承，所述第二轴承的外圈上设有若干间隔均匀分布的C字扣，并且所述第二轴承的外圈上还设有填充防滑橡胶。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型结构简单，镀膜稳定，通过对旋转靶台摩擦和稳定性的改善，提高真空室内各点成膜的一致性，间接起到玻璃基板加工时稳弧的作用，另外工件架在旋转靶台旋转的时候实现自转，从而提高了镀膜的效率，提升了镀膜的成品率，节约能量和加工成本，值得推广。

附图说明

图1为本实用新型的整体正视图结构示意图；

图2为图1中A的放大结构示意图；

图3为本实用新型的第二轴承结构示意图。

图中：1-真空室；2-小多弧源；3-电磁控大面积弧源；4-柱弧源；5-旋转靶台；6-工件架；7-真空抽气系统；8-送气系统；9-中空容纳间；10-伺候旋转电机；11-柱形孔；12-导向套筒；13-旋转杆；14-卡箍；15-套接孔；16-第一轴承；17-第二轴承；18-C字扣；19-填充防滑橡胶；20-弧源反射挡片。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

以下各实施例的说明是参考附图，用以示例本实用新型可以用以实施的特定实施例。本实用新型所提到的方向和位置用语，例如「上」、「中」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向和位置。因此，使用的方向和位置用语是用以说明及理解本实用新型，而非用以限制本实用新型。

实施例：

如图1至图3所示，本实用新型提供了一种用于手机玻璃基板生产的表面镀膜装置，包括真空室1，所述真空室1的表面上设有小多弧源2和电磁控大面积弧源3，所述真空室1呈空腔圆柱筒结构，所述真空室1由双层不锈钢制作而成，所述真空室1的夹层之间设有水冷夹层，所述水冷夹层绕所述真空室1内层分布，所述小多弧源2和电磁控大面积弧源3安装在所述真空室1内层外表面，所述小多弧源2和电磁控大面积弧源3均滚阿玉真空室1的轴线对称分布，且在小多弧源2和电磁控大面积弧源3的外侧端部固定安装有弧源反射挡片20，所述真空室1上端的竖向中心位置设有柱弧源4，所述真空室1的底端设有旋转靶台5，所述旋转靶台5的左右两端均设有工件架6，所述真空室1的底端两侧还分别设有真空抽气系统7和送气系统8，所述真空抽气系统7和送气系统8以所述旋转靶台5的中心点对称分布在所述旋转靶台5的两侧。

所述真空室1底部设有中空容纳间9，所述中空容纳间9内设有伺候旋转电机10，所述旋转靶台5底部中心位置处设有柱形孔11，绕所述柱形孔11外设有导向套筒12，所述伺候旋转电机10连接有旋转杆13，所述旋转杆13穿过所述真空室1底端铆接在所述柱形孔11内，所述导向套筒12与所述旋转杆13之间通过卡箍14固定，所述卡箍14用以将导向套筒12与旋转杆13固定在一起，使得旋转靶台5在旋转的时候结构稳定，旋转力度均匀，所述旋转靶台5上设有套接孔15，所述工件架6通过若干个第一轴承16安装在所述套接孔15内，所述第一轴承16分别安装在工件架6的底端，以及工件架6与旋转靶台5上表面交接处。

优选的是，所述导向套筒12与真空室1底端连接处设有第二轴承17，所述第二轴承17的外圈上设有若干间隔均匀分布的C字扣18，并且所述第二轴承17的外圈上还设有填充防滑橡胶19，所述C字扣18可以与真空室1底端的上下表面之间固定，填充防滑橡胶19用以增大与真空室1之间的摩擦，防止发生滑动，增加第二轴承17的稳定性，从而增加旋转靶台5的旋转稳定性，而且减少导向套筒12旋转时的摩擦力，有效实现节能的效果。

综上所述，本实用新型的主要特点在于：本实用新型结构简单，镀膜稳定，通过对旋转靶台摩擦和稳定性的改善，使用第二轴承，减少旋转杆与真空室底部的摩擦系数，从而实现节能，另外旋转杆与旋转靶台之间稳固连接，使得旋转稳定，并且旋转各表面力度大小相同，提高真空室内各点成膜的一致性，间接起到玻璃基板加工时稳弧的作用，另外工件架通过第一轴承的时候，工件架在旋转靶台旋转的时候实现自转，从而提高了镀膜的效率，提升了镀膜的成品率，值得推广。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

Claims (5)

1.一种用于手机玻璃基板生产的表面镀膜装置，包括真空室(1)，其特征在于：所述真空室(1)的内表面上设有小多弧源(2)和电磁控大面积弧源(3)，且在真空室(1)的竖向中心上设有柱弧源(4)，所述真空室(1)的底端设有旋转靶台(5)，所述旋转靶台(5)的左右两端均设有工件架(6)，在真空室(1)的底端两侧还分别设有真空抽气系统(7)和送气系统(8)；

所述真空室(1)底部设有中空容纳间(9)，所述中空容纳间(9)内设有伺候旋转电机(10)，所述旋转靶台(5)底部中心位置处设有柱形孔(11)，绕所述柱形孔(11)外设有导向套筒(12)，所述伺候旋转电机(10)连接有旋转杆(13)，所述旋转杆(13)穿过所述真空室(1)底端，且旋转杆(13)铆接在所述柱形孔(11)内，所述导向套筒(12)与所述旋转杆(13)之间通过卡箍(14)固定，所述旋转靶台(5)上设有套接孔(15)，所述工件架(6)通过若干个第一轴承(16)固定安装在所述套接孔(15)内。

2.根据权利要求1所述的一种用于手机玻璃基板生产的表面镀膜装置，其特征在于：所述真空室(1)呈空腔的双层圆柱筒结构，所述真空室(1)由双层不锈钢制作而成，所述小多弧源(2)和电磁控大面积弧源(3)安装在所述真空室(1)内层外表面。

3.根据权利要求1所述的一种用于手机玻璃基板生产的表面镀膜装置，其特征在于：所述小多弧源(2)和电磁控大面积弧源(3)均滚阿玉真空室(1)的轴线对称分布，且在小多弧源(2)和电磁控大面积弧源(3)的外侧端部固定安装有弧源反射挡片(20)。

4.根据权利要求1所述的一种用于手机玻璃基板生产的表面镀膜装置，其特征在于：所述真空抽气系统(7)和送气系统(8)关于所述旋转靶台(5)呈对称分布在所述旋转靶台(5)的两侧。

5.根据权利要求1所述的一种用于手机玻璃基板生产的表面镀膜装置，其特征在于：所述导向套筒(12)与真空室(1)底端连接处设有第二轴承(17)，所述第二轴承(17)的外圈上设有若干间隔均匀分布的C字扣(18)，并且所述第二轴承(17)的外圈上还设有填充防滑橡胶(19)。