CN207633929U - 一种气缸及反应室 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种气缸及反应室，属于半导体制造技术领域，适用于驱动反应室的内门的开闭，所述反应室包括具有内衬的室壁和在硅片传输口设置的反应室门，所述气缸包括气缸本体和一气压调节装置，所述气压调节装置设置于所述气缸本体的进气端口上；所述气缸本体的活塞杆连接所述反应室门。上述技术方案的有益效果是：通过在气缸的进气端口上设置一压力调节装置，调节气缸的进气气压，避免因动作瞬间压力过大导致气缸损坏，从而避免因反应室门打不开造成的产品报废；同延长气缸的使用寿命，降低设备的维护成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种适用于驱动反应室门的开闭的气缸及反应室。
背景技术
半导体制造过程中，许多工艺在机台的反应室内完成，在对晶圆处理的过程中，反应室处于封闭状态，因此反应室上设置有反应室门，于一片晶圆处理完后打开反应室门，以从反应室内取出当前晶圆，同时将另一待处理的晶圆放置到反应室中，然后反应室门关闭，使反应室封闭。
现有技术中，采用气缸驱动反应室门的开闭，每次晶圆进出气缸都会有一次开关动作，当作动次数达到一定程度，气缸的气缸轴和波纹管会出现破损导致气缸无法正常完成开关动作，如果在机台工作时，气缸在完成一反应室门关闭动作后损坏，则反应室内的产品会因为门无法打开而无法取出，破真空取出产品会导致产品直接报废，同时气缸坏后需要更换，除了购买新的气缸需要增加成本之外机台的使用率也会受到影响。现在，随着机台使用时间的增加，出现比较频繁的气缸损坏，导致产品报废以及成本增加。
发明内容
根据现有技术中存在的上述问题，现提供一种旨在避免因动作瞬间压力过大导致气缸损坏，从而避免因反应室门打不开造成的产品报废的气缸及反应室。本实用新型采用如下技术方案：
一种气缸，适用于驱动反应室的反应室门的开闭，所述反应室包括具有内衬的室壁和在硅片传输口设置的反应室门，所述气缸包括气缸本体和一气压调节装置，所述气压调节装置设置于所述气缸本体的进气端口上；
所述气缸本体的活塞杆连接所述反应室门。
较佳的，上述气缸中，所述气压调节装置包括：
壳体，所述壳体上设置有进气口、出气口、进气通道和出气通道，所述进气口连接进气通道，所述出气口连接出气通道；
螺旋手柄，所述螺旋手柄的螺杆从所述壳体的上方伸入至所述壳体内；
膜片，设置于所述壳体内，并于所述膜片和所述螺杆之间连接一第一弹簧，所述膜片与所述壳体的下端构成一腔体，所述出气通道与所述腔体连通；
第一活塞，设置于所述壳体的下端，所述第一活塞通过一压杆连接于所述膜片上，并于所述第一活塞未连接所述压杆的一面连接一第二弹簧，所述第一活塞可控制所述进气通道与所述腔体的导通。
较佳的，上述气缸中，所述气压调节装置还包括泄压腔，设置于所述壳体的侧壁上，所述泄压腔上设置泄压口；
于所述泄压腔内设置一连接有第三弹簧的第二活塞，所述第二活塞设置于所述泄压腔朝向所述壳体的一端内；
所述第一活塞可控制所述泄压腔与所述腔体的导通。
较佳的，上述气缸中，所述气压调节装置的压力调节范围80～110psi。
较佳的，上述气缸中，还包括一气压表，设置于所述压力调节装置的出气口上。
还包括，一种反应室，其中，包括上述任一所述的气缸。
上述技术方案的有益效果是：通过在气缸的进气端口上设置一压力调节装置，调节气缸的进气气压，避免因动作瞬间压力过大导致气缸损坏，从而避免因反应室门打不开造成的产品报废；同延长气缸的使用寿命，降低设备的维护成本。
附图说明
图1是本实用新型的较佳的实施例中，一种气缸的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明，但不作为本实用新型的限定。
本实用新型的较佳的实施例中，如图1所示，提供一种气缸，适用于驱动反应室的反应室门的开闭，反应室包括具有内衬的室壁和在硅片传输口设置的反应室门，气缸包括气缸本体1和一气压调节装置，气压调节装置设置于气缸本体1的进气端口上；
气缸本体1的活塞杆连接反应室门，用于驱动反应室门的开闭，本实施例中，气缸本体1是现有技术中常用驱动气缸，这里不再赘述其结构和工作原理。
上述技术方案中，通过在气缸本体1的进气端口上设置一压力调节装置，调节气缸本体1的进气气压，使进入气缸本体1的气流平稳，避免因动作瞬间压力过大导致气缸损坏，从而避免因反应室门打不开造成的产品报废；同延长气缸的使用寿命，降低设备的维护成本。
本实用新型的较佳的实施例中，气压调节装置包括：
壳体2，壳体2上设置有进气口21、出气口22、进气通道(图中实线箭头所示)和出气通道(图中虚线箭头所示)，进气口21连接进气通道，出气口22连接出气通道；
螺旋手柄3，螺旋手柄3的螺杆31从壳体2的上方伸入至壳体2内；
膜片4，设置于壳体2内，并于膜片4和螺杆31之间连接一第一弹簧41，膜片4与壳体2的下端构成一腔体23，出气通道与腔体23连通；
第一活塞5，设置于壳体2的下端，第一活塞5通过一压杆51连接于膜片上4，并于第一活塞5未连接压杆51的一面连接一第二弹簧52，第一活塞1可控制进气通道与腔体23的导通。
本实用新弄的较佳的实施例中，气压调节装置还包括泄压腔，设置于壳体2的侧壁上，泄压腔上设置泄压口61；
于泄压腔内设置一连接有第三弹簧62的第二活塞63，第二活塞63设置于泄压腔朝向壳体2的一端内；
第一活塞63可控制泄压腔与腔体23的导通。
本实施例中，气压调节装置的进气口21与一外部气源连通，出气口22连通气缸本体1的进气端口，使用时通过旋转螺旋手柄3，使膜片4向下移动，使腔体23内具有一预设的压力值，此时第一活塞5向下移动，使得进气通道通过腔体23与出气通道导通，当外部气源的气压浮动时，由第二弹簧52带动第一活塞5平衡气压浮动，使气压调节装置的输出气压稳定。进一步地，当外部气源的气压过大时，则气体推动第三活塞63背向壳体2移动，使得腔体23与泄压口61导通，通过泄压口61排气平衡气压。
本实用新型的较佳的实施例中，调压阀的压力调节范围80～110psi。
本实施例中，气压调节装置上的螺旋手柄3提供给工作人员调节输出气压，即调节气缸本体1的进气气压，气缸本体1的进气气压可在80～110psi，进一步地，本实施例中，气缸本体1的进气气压为90psi。当调压阀2的输入气压大于110psi时，泄气口61进行排气减压。
本实用新型的较佳的实施例中，还包括一气压表7，设置于压力调节装置的出气口22上，即气压调节装置和气缸本体1之间。
本实用新型的实施例中，还包括，一种反应室，该反应室使用上述的气缸。
以上所述仅为本实用新型较佳的实施例，并非因此限制本实用新型的实施方式及保护范围，对于本领域技术人员而言，应当能够意识到凡运用本实用新型说明书及图示内容所作出的等同替换和显而易见的变化所得到的方案，均应当包含在本实用新型的保护范围内。
Claims (6)
1.一种气缸，适用于驱动反应室的反应室门的开闭，所述反应室包括具有内衬的室壁和在硅片传输口设置的反应室门，其特征在于，所述气缸包括气缸本体和一气压调节装置，所述气压调节装置设置于所述气缸本体的进气端口上；
所述气缸本体的活塞杆连接所述反应室门。
2.如权利要求1所述的气缸，基特征在于，所述气压调节装置包括：
壳体，所述壳体上设置有进气口、出气口、进气通道和出气通道，所述进气口连接进气通道，所述出气口连接出气通道；
螺旋手柄，所述螺旋手柄的螺杆从所述壳体的上方伸入至所述壳体内；
膜片，设置于所述壳体内，并于所述膜片和所述螺杆之间连接一第一弹簧，所述膜片与所述壳体的下端构成一腔体，所述出气通道与所述腔体连通；
第一活塞，设置于所述壳体的下端，所述第一活塞通过一压杆连接于所述膜片上，并于所述第一活塞未连接所述压杆的一面连接一第二弹簧，所述第一活塞可控制所述进气通道与所述腔体的导通。
3.如权利要求2所述的气缸，其特征在于，所述气压调节装置还包括泄压腔，设置于所述壳体的侧壁上，所述泄压腔上设置泄压口；
于所述泄压腔内设置一连接有第三弹簧的第二活塞，所述第二活塞设置于所述泄压腔朝向所述壳体的一端内；
所述第一活塞可控制所述泄压腔与所述腔体的导通。
4.如权利要求1所述的气缸，其特征在于，所述气压调节装置的压力调节范围80～110psi。
5.如权利要求2所述的气缸，其特征在于，还包括一气压表，设置于所述气压调节装置的出气口上。
6.一种反应室，其特征在于，包括如权利要求1-5中任一所述的气缸。
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|---|---|---|---|
| CN201721149970.3U CN207633929U (zh) | 2017-09-08 | 2017-09-08 | 一种气缸及反应室 |
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| CN207633929U true CN207633929U (zh) | 2018-07-20 |
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| CN (1) | CN207633929U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109223516A (zh) * | 2018-08-23 | 2019-01-18 | 佛山铮荣科技有限公司 | 一种高效美容仪 |
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- 2017-09-08 CN CN201721149970.3U patent/CN207633929U/zh active Active
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