CN207502915U - 一种用于生产触摸屏的高精度光刻机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种用于生产触摸屏的高精度光刻机，属于光刻机领域，包括遮蔽罩体；遮蔽罩体内设有工作台、硅片、投影物镜、掩模台、以及紫外线光源；遮蔽罩体一面板的外壁上固定安装有吸尘装置。本实用新型公开的一种用于生产触摸屏的高精度光刻机，通过在光刻机屏蔽罩体的外壁上设置吸尘装置，并且在屏蔽罩体内设有微电脑粉尘仪，可以实现在光刻机工作前进行除尘，而且实时监控光刻机内部微尘颗粒的大小和浓度，从而保证光刻机在高质量的环境中进行工作，避免因环境中的固体颗粒而造成光刻效果不良。
Description
技术领域
本实用新型涉及光刻机领域，更具体的，涉及一种用于生产触摸屏的高精度光刻机。
背景技术
光刻机是将集成电路等电路图型投影到不同基片表面的设备。在半导体集成电路，半导体封装，平板显示器等如LED屏幕、等离子屏幕、以及太阳能电池等生产中，属于核心的必要设备。而且，由于光刻机制作难度高，精度要求严格，因此是密集高端技术的重要设备。
然而，光刻机在使用过程中，对空气中的灰尘和颗粒比较敏感。如果光刻胶中含有固体颗粒，将会影响暴光效果，显影时剥落，腐蚀时产生针孔。因此，在让光刻机工作之前，对光刻机内部环境中的灰尘和颗粒进行清扫和检查，就显得非常有必要。然而，现有的光刻机中都没有清尘和检测颗粒的功能。
综上所述，有必要设计一种光刻机来解决上述问题。
实用新型内容
为了克服现有技术的缺陷，本实用新型所要解决的技术问题在于提出一种用于生产触摸屏的高精度光刻机，本实用新型通过在光刻机屏蔽罩体的外壁上设置吸尘装置，并且在屏蔽罩体内设有微电脑粉尘仪，可以实现在光刻机工作前进行除尘，而且实时监控光刻机内部微尘颗粒的大小和浓度，从而保证光刻机在高质量的环境中进行工作，避免因环境中的固体颗粒而造成光刻效果不良。
为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：
本实用新型提供了一种用于生产触摸屏的高精度光刻机，包括遮蔽罩体；
所述遮蔽罩体内设有工作台、硅片、投影物镜、掩模台、以及紫外线光源；
所述工作台固定连接于所述遮蔽罩体底部上表面；
所述硅片下表面贴合设于所述工作台的上表面；
所述投影物镜位于所述硅片的上方；
所述掩模台固定连接于所述投影物镜的上表面；
所述紫外线光源位于所述掩模台的上方；
所述紫外线光源的一端固定连接于所述遮蔽罩体的一内壁上；
所述遮蔽罩体的一面板的外壁上固定安装有吸尘装置。
可选地，所述吸尘装置包括位于所述遮蔽罩体外部的电机体、穿过所述面板的电机轴、以及位于所述遮蔽罩体内部的风扇；
所述电机轴的一端与所述电机体的动力输出端连接；
所述电机轴的另一端与所述风扇固定连接。
可选地，所述面板对应所述风扇的位置开设有吸尘孔。
可选地，所述吸尘装置还包括集尘箱、以及吸尘管道；
所述集尘箱设于所述遮蔽罩体的外部；
所述集尘箱的顶部开设有集尘口；
所述集尘箱上开设有排气口；
所述吸尘管道的一端与所述吸尘孔密封连接，其另一端与所述集尘口密封连接；
所述吸尘孔、所述电机体、以及所述集尘口均位于所述吸尘管道内。
可选地，还包括微电脑粉尘仪和控制器；
所述微电脑粉尘仪安装于所述遮蔽罩体另一面板的内壁上；
所述控制器设于所述遮蔽罩体的外部；
所述微电脑粉尘仪与所述控制器电连接。
可选地，还包括设于所述遮蔽罩体内的紫外辐射照计模块；
所述紫外辐射照计模块设于所述掩模台与所述紫外线光源之间；
所述紫外辐射照计模块与所述控制器电连接。
可选地，所述吸尘管道为软性PVC材料。
可选地，所述控制器上设有显示屏幕、暂停按钮、以及启动按钮。
本实用新型的有益效果为：
本实用新型提供的一种用于生产触摸屏的高精度光刻机，本实用新型通过在光刻机屏蔽罩体的外壁上设置吸尘装置，并且在屏蔽罩体内设有微电脑粉尘仪，可以实现在光刻机工作前进行除尘，而且实时监控光刻机内部微尘颗粒的大小和浓度，从而保证光刻机在高质量的环境中进行工作，避免因环境中的固体颗粒而造成光刻效果不良。
附图说明
图1是本实用新型具体实施方式提供的一种用于生产触摸屏的高精度光刻机的结构示意图；
图2是本实用新型具体实施方式提供的一种用于生产触摸屏的高精度光刻机的剖视图；
图3是本实用新型具体实施方式提供的另一种用于生产触摸屏的高精度光刻机的剖视图。
图中：
1、遮蔽罩体；11、面板；111、吸尘孔；12、另一面板；2、工作台；3、 硅片；4、投影物镜；5、掩模台；6、紫外线光源；7、吸尘装置；71、电机体；72、电机轴；73、风扇；74、吸尘箱；741、集尘口；742、排气口；75、吸尘管道；8、微电脑粉尘仪；9、控制器；91、显示屏幕；92、暂停按钮；93、启动按钮；10、紫外辐射照计模块。
具体实施方式
下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。
图1实例性地示出了本实用新型提供的一种用于生产触摸屏的高精度光刻机的结构示意图；图2实例性地示出了本实用新型提供的一种用于生产触摸屏的高精度光刻机的剖视图；图3实例性地示出了本实用新型提供的另一种用于生产触摸屏的高精度光刻机的剖视图；如图所示，一种用于生产触摸屏的高精度光刻机，包括遮蔽罩体1；遮蔽罩体1内设有工作台2、硅片3、投影物镜4、掩模台5、以及紫外线光源6；工作台2固定连接于遮蔽罩体1底部上表面；硅片3下表面贴合设于工作台2的上表面；投影物镜4位于硅片3的上方；掩模台5固定连接于投影物镜4的上表面；紫外线光源6位于掩模台5的上方；紫外线光源6的一端固定连接于遮蔽罩体1的一内壁上；遮蔽罩体1的一面板11的外壁上固定安装有吸尘装置7。吸尘装置7可将遮蔽罩体1内的微尘和颗粒吸走，从而保证光刻机工作环境的高质量。
可选地，吸尘装置7包括位于遮蔽罩体1外部的电机体71、穿过面板11的电机轴72、以及位于遮蔽罩体1内部的风扇73；电机轴72的一端与电机体71的动力输出端连接；电机轴72的另一端与风扇73固定连接。电机体71将遮蔽罩体1内的空气抽走，使遮蔽罩体1内形成负压。从而将遮蔽罩体1内的微尘和颗粒从吸尘孔111吸走。
可选地，吸尘装置7还包括集尘箱74、以及吸尘管道75；集尘箱74设于 遮蔽罩体1的外部；集尘箱74的顶部开设有集尘口741，集尘箱74上开设有排气口742，吸尘管道75的一端与吸尘孔111密封连接，其另一端与集尘口741密封连接；吸尘孔111、电机体71、以及集尘口741均位于吸尘管道75内。由于排气口742与空气相连，使遮蔽罩体1内与集尘箱74内形成气压差，使遮蔽罩体1内的微尘和颗粒自动吸入到集尘箱74内。而集尘箱74可以用来收集吸到的微尘和颗粒。
可选地，还包括微电脑粉尘仪8和控制器9；微电脑粉尘仪8安装于遮蔽罩体1另一面板12的内壁上；控制器9设于遮蔽罩体1的外部；微电脑粉尘仪8与控制器9电连接。微电脑粉尘仪8可以实时地检测遮蔽罩体1内的微尘和颗粒，检测遮蔽罩体1内的空气质量合格时，才能开启光刻机进行工作。
可选地，还包括紫外辐射照计模块10；紫外辐射照计模块10设于掩模台5与紫外线光源6之间；紫外辐射照计模块10与控制器9电连接。紫外辐射照计模块10可实时监控紫外线光源6发射出的紫外线是否合格，保证加工过程中所需紫外线的质量。
可选地，吸尘管道75为软性PVC材料。软的吸尘管道更加容易收纳和拆装。
可选地，控制器9上设有显示屏幕91、暂停按钮92、以及启动按钮93。当微电脑粉尘仪8检测到遮蔽罩体1内的微尘和颗粒超标时，则可以人工地按暂停按钮92。然后控制器9发出指令给吸尘装置7进行除尘，一直到遮蔽罩体1内的微尘和颗粒达标时再开启启动按钮93进行加工。
本实用新型是通过优选实施例进行描述的，本领域技术人员知悉，在不脱离本实用新型的精神和范围的情况下，可以对这些特征和实施例进行各种改变或等效替换。本实用新型不受此处所公开的具体实施例的限制，其他落入本申请的权利要求内的实施例都属于本实用新型保护的范围。
Claims (8)
1.一种用于生产触摸屏的高精度光刻机，其特征在于：
包括遮蔽罩体(1)；
所述遮蔽罩体(1)内设有工作台(2)、硅片(3)、投影物镜(4)、掩模台(5)、以及紫外线光源(6)；
所述工作台(2)固定连接于所述遮蔽罩体(1)底部上表面；
所述硅片(3)下表面贴合设于所述工作台(2)的上表面；
所述投影物镜(4)位于所述硅片(3)的上方；所述掩模台(5)固定连接于所述投影物镜(4)的上表面；
所述紫外线光源(6)位于所述掩模台(5)的上方；
所述紫外线光源(6)的一端固定连接于所述遮蔽罩体(1)的一内壁上；
所述遮蔽罩体(1)的一面板(11)的外壁上固定安装有吸尘装置(7)。
2.如权利要求1所述的一种用于生产触摸屏的高精度光刻机，其特征在于：
所述吸尘装置(7)包括位于所述遮蔽罩体(1)外部的电机体(71)、穿过所述面板(11)的电机轴(72)、以及位于所述遮蔽罩体(1)内部的风扇(73)；
所述电机轴(72)的一端与所述电机体(71)的动力输出端连接；
所述电机轴(72)的另一端与所述风扇(73)固定连接。
3.如权利要求2所述的一种用于生产触摸屏的高精度光刻机，其特征在于：
所述面板(11)对应所述风扇(73)的位置开设有吸尘孔(111)。
4.如权利要求3所述的一种用于生产触摸屏的高精度光刻机，其特征在于：
所述吸尘装置(7)还包括集尘箱(74)、以及吸尘管道(75)；
所述集尘箱(74)设于所述遮蔽罩体(1)的外部；
所述集尘箱(74)的顶部开设有集尘口(741)；
所述集尘箱(74)上开设有排气口(742)；
所述吸尘管道(75)的一端与所述吸尘孔(111)密封连接，其另一端与所述集尘口(741)密封连接；
所述吸尘孔(111)、所述电机体(71)、以及所述集尘口(741)均位于所述吸尘管道(75)内。
5.如权利要求1所述的一种用于生产触摸屏的高精度光刻机，其特征在于：
还包括微电脑粉尘仪(8)和控制器(9)；
所述微电脑粉尘仪(8)安装于所述遮蔽罩体(1)另一面板(12)的内壁上；
所述控制器(9)设于所述遮蔽罩体(1)的外部；
所述微电脑粉尘仪(8)与所述控制器(9)电连接。
6.如权利要求5所述的一种用于生产触摸屏的高精度光刻机，其特征在于：
还包括设于所述遮蔽罩体(1)内的紫外辐射照计模块(10)；
所述紫外辐射照计模块(10)设于所述掩模台(5)与所述紫外线光源(6)之间；
所述紫外辐射照计模块(10)与所述控制器(9)电连接。
7.如权利要求4所述的一种用于生产触摸屏的高精度光刻机，其特征在于：
所述吸尘管道(75)为软性PVC材料。
8.如权利要求5所述的一种用于生产触摸屏的高精度光刻机，其特征在于：
所述控制器(9)上设有显示屏幕(91)、暂停按钮(92)、以及启动按钮(93)。
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