CN207415085U - 一种回转体抛光机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开的一种回转体抛光机构,包括转轴，转轴的端部连接有旋转架；旋转架连接有抛光球。通过驱动转轴，旋转架在转轴的离心力的作用下展开，旋转架上设有的抛光球与回转体表面接触，对回转体表面进行打磨抛光。本实用新型回转体抛光机构，易对回转体表面进行高精度打磨，省时省力，工作效率高。

Description

一种回转体抛光机构

技术领域

本实用新型属于抛光设备技术领域，具体涉及一种回转体抛光机构。

背景技术

生活常用器具大都是回转体；回转体工具被加工出来后，其表面通常都很粗糙，因此需对其表面进行抛光作业。

目前有以下几种方法：1、采用气动砂轮进行手动抛光，抛光后的零件表面加工痕迹不规整，表面粗糙，且劳动强度高、功效低；2、对于大型回转体，采用抛光设备的抛光轮直接对表面进行打磨、切屑，其加工后表面精度低。对于颈类回转体内外表面进行抛光时，采用以上两种方法均存在抛光难度大，表面粗糙，且费时费力的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种回转体抛光机构，能对回转体内外表面进行高精度抛光，且省时省力、效率高。

本实用新型所采用的技术方案是，包括转轴，转轴的端部连接有旋转架；旋转架连接有抛光球。

本实用新型的特点还在于：

转轴的一端铰接有旋转架。

旋转架数量不少于两个。

旋转架上设有第一安装孔和第二安装孔，第一安装孔内设有配重块，第二安装孔内设有电机。

抛光球包括抛光球体，抛光球体上设有安装端。

抛光球的表面均匀设有抛光颗粒。

本实用新型的有益效果在于：

本实用新型的回转体抛光机构，通过驱动转轴，旋转架在转轴的离心力的作用下展开，旋转架上设有的抛光球与回转体表面接触，对回转体表面进行打磨抛光。本实用新型回转体抛光机构，易对回转体表面进行高精度打磨，省时省力，工作效率高。

附图说明

图1是本实用新型一种回转体抛光机构的结构示意图；

图2是本实用新型一种回转体抛光机构的旋转架结构示意图；

图3是本实用新型一种回转体抛光机构的工作状态示意图。

图中，1.转轴，2.旋转架，3.抛光球，4.同心轴，201.铰接孔，202.第一安装孔，203.第二安装孔，204.配重块，205.电机，301.抛光球体，302.安装端。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型进行详细说明。

本实用新型一种回转体抛光机构，如图1所示，包括转轴1，转轴1的端部连接有旋转架2，旋转架2连接有抛光球3。

转轴1与旋转架2铰接。旋转架2的数量不少于两个，根据抛光打磨的需要能安装多个旋转架2，缩短打磨时间。

转轴1的另一端部设有同心轴4，该同心轴4的直径小于转轴1；同心轴4通过联轴器与外部驱动装置连接。

抛光球3的表面均匀设有抛光颗粒，该抛光颗粒用于增加抛光球与回转体内外表面打磨时的摩擦力，提高抛光精度。

如图2所示，旋转架2靠近转轴1的一端设有铰接孔201，铰接轴穿过铰接孔201与转轴1连接。旋转架2上设有第一安装孔202和第二安装孔203，第一安装孔202内设有配重块204，该配重块204能提高抛光过程中抛光机构的稳定性；第二安装孔203内设有电机205。

抛光球3包括抛光球体301，抛光球体301上设有安装端302，该安装端302与电机205连接。

旋转架2采用的材料为永磁铁。配重块204采用的材料为永磁铁。旋转架2与配重块204通过永磁铁的磁性增加之间的吸力，方便安装。

如图3a所示，旋转架2的数量为两个，当抛光机构在静止时，每个旋转架2处于相互紧挨并拢的状态，且每个旋转架2并拢的直径不大于转轴1的直径；此时，旋转架2伸入颈类回转体内部。如图3b所示，，旋转架2伸入颈类回转体内部且对回转体内部进行抛光打磨，每个旋转架2会绕各自的铰接轴展开，每个旋转架2上设置的抛光体3与回转体的内表面的接触，对颈类回转体内部进行抛光打磨。

本实用新型一种回转体抛光机构，通过驱动转轴1，旋转架2在转轴1的离心力的作用下展开，旋转架2上的抛光球3与回转体表面接触，对回转体表面进行打磨抛光。抛光球3上均匀设置抛光颗粒，增大抛光球3与回转体之间的摩擦力，提高抛光精度。转轴1上增设多个旋转架2，缩短抛光时间，提高工作效率。

Claims (2)

1.一种回转体抛光机构，其特征在于，包括转轴(1)，所述转轴(1)的端部连接有旋转架(2)；所述旋转架(2)连接有抛光球(3)，所述转轴(1)与所述旋转架(2)铰接；所述旋转架(2)上设有第一安装孔(202)和第二安装孔(203)，所述第一安装孔(202)内设有配重块(204)，所述第二安装孔(203)内设有电机(205)；所述抛光球(3)的表面均匀设有抛光颗粒。

2.根据权利要求1所述的一种回转体抛光机构，其特征在于，所述旋转架(2)数量不少于两个。