CN207353206U - 一种刻蚀机去水气装置的升降机构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种刻蚀机去水气装置的升降机构，包括去水气装置本体、双作用气缸和晶元压头；所述去水气装置本体内部具有竖直设置并可上下移动的滑杆；所述双作用气缸竖向设置，其缸体通过连接件安装在所述水气装置本体的下端，所述双作用气缸内具有与所述滑杆同轴设置的伸缩臂；所述伸缩臂的上端通过高度可调的连接组件与所述滑杆的下端连接；所述晶元压头安装在所述伸缩臂的下端端部，所述晶元压头随所述伸缩臂上下移动。上本实用新型采用双作用气缸使得其伸缩臂两端均可以与外界物体连接，并且同上同下，使得设备结构简单，运行精密度高，便于控制。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种刻蚀机去水气装置的升降机构，晶元加工设备领域。
背景技术
去水气装置是PVD机台镀膜工艺中的一道去除水汽的工序，在晶元传入时，去水气装置升起，在加工过程中，去水气装置降下，浮动接头两端均为螺纹连接，易松动，会造成升降机构在上升和下降过程中的位置发生变化，导致晶元与升降机构相撞，而当浮动接头两端均完全拧紧时，升降机构的位置过低，导致升降机构无法固定晶元，晶元在加工过程中会因固定不牢固而产生偏移。
实用新型内容
为了解决上述技术问题，本实用新型的目的在于提供一种在上升或下降过程中其终点位置始终保持不变，不会因升降机构的原因造成晶元报废，也不用定期对升降机构进行维护保养，提高生产效率。
为实现上述目的，本实用新型的技术方案是：一种刻蚀机去水气装置的升降机构，包括去水气装置本体、双作用气缸和晶元压头；
所述去水气装置本体内部具有竖直设置并可上下移动的滑杆；
所述双作用气缸竖向设置，其缸体通过连接件安装在所述水气装置本体的下端，所述双作用气缸内具有与所述滑杆同轴设置的伸缩臂；
所述伸缩臂的上端通过高度可调的连接组件与所述滑杆的下端连接；
所述晶元压头安装在所述伸缩臂的下端端部，所述晶元压头随所述伸缩臂上下移动。
上述技术方案的有益效果在于：采用双作用气缸使得其伸缩臂两端均可 以与外界物体连接，并且同上同下，使得设备结构简单，运行精密度高，便于控制。
上述技术方案中所述连接件包括多根间隔均匀且环状分布于所述水气装置本体的下端的拉杆，每根所述拉杆下端均与所述缸体上端连接。
上述技术方案的有益效果在于：采用拉杆将双作用气缸固定在水气装置本体的下端，其结构简便，同时方便升降机构的维修保养。
上述技术方案中所述连接组件包括连接头和浮动接头，所述连接头上端与所述滑杆的下端连接，所述连接头的下端与所述浮动接头的上端连接。
上述技术方案的有益效果在于：将滑杆、连接头、浮动接头以及伸缩臂上端依次采用螺纹连接，方便紧固。
上述技术方案中所述浮动接头上端端部沿轴向设有螺孔，所述连接头为圆柱体形，其下端外周上设有与浮动接头上端螺孔相配合的外螺纹,，所述连接头的下端螺纹安装在所述浮动接头上端的螺孔内，所述连接头与所述浮动接头连接处之间还套设有用以调节所述连接头下端与浮动接头上端螺孔连接深度的第一垫圈。
上述技术方案中所述浮动接头与连接头之间设置第一垫圈方便通过更换第一垫圈的厚度来调节滑杆上下运行的距离。
上述技术方案中还包括限位抵接组件，所述限位抵接组件设置于所述缸体下端，
所述晶元压头侧壁中部环设有与所述限位抵接组件相配合的环形的限位块；
所述限位抵接组件包括自上向下依次固定在所述缸体下端端部的抵接块和第二垫圈，所述抵接块中部设有供所述伸缩臂的下端穿过的通孔；
所述伸缩臂向上移动时，带动所述晶元压头上升至所述限位块与所述抵接块抵接。
上述技术方案的有益效果在于，通过设置限位抵接组件使得晶元压头上 下位移的精度更高，同时其上下运行的距离可调整，通过更换第二垫圈的厚度即可调节晶元压头上下运行的距离。
上述技术方案中还包括限位抵接组件，所述限位抵接组件包括旋钮和螺帽组成，所述旋钮为上端开口的中空圆柱体，其底端同轴设有与所述晶元压头相配合的通孔，所述晶元压头为圆柱形，其外周上设置有外螺纹，所述通孔内壁设有与所述晶元压头外螺纹相配合的内螺纹，所述旋钮螺纹安装在所述晶元压头外周上，所述螺帽螺纹安装在所述晶元压头的下端外周上，并与所述旋钮的下端抵接。
上述技术方案的有益效果在于，通过设置限位抵接组件使得晶元压头上下位移的精度更高，同时其上下运行的距离可调整，通过调节旋钮和螺帽在晶元压头外壁的高度即可调节晶元压头上下运行的距离。
上述技术方案中所述浮动接头的侧壁的中部环设有凸块，所述浮动接头随伸缩臂向下运动过程中所述凸块的下端面与缸体上端抵接。
上述技术方案的有益效果在于，使浮动接头中部横向向外凸出，使得浮动接头能对伸缩臂向下运行的位置的进行限位，进一步提高伸缩臂运行的精密度。
上述技术方案中所述伸缩臂的伸缩长度为8-12mm。
上述技术方案的有益效果在于：方便对晶元进行加工，且尽可能多的缩减升降机构的行程，提高生产效率。
附图说明
图1为本实用新型实施例1所述的升降机构的结构简图；
图2为本实用新型实施例2所述的升降机构的结构简图。
图中：1去水气装置本体,11滑杆，2连接组件，21连接头，22浮动接头，23第一垫圈，3连接件，4双作用气缸，41缸体，42伸缩臂，5晶元压头，51限位块，6，限位抵接组件，61抵接块，62第二垫圈，63旋钮，64螺帽。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本实用新型，并非用于限定本实用新型的范围。
实施例1
如图1所示，本实施例提供了一种刻蚀机去水气装置的升降机构，包括去水气装置本体1、双作用气缸4和晶元压头5；
所述去水气装置本体1内部具有竖直设置并可上下移动的滑杆11；
所述双作用气缸4竖向设置，其缸体41通过连接件3安装在所述水气装置本体1的下端，所述双作用气缸4内具有与所述滑杆11同轴设置的伸缩臂42；
所述伸缩臂42的上端通过高度可调的连接组件2与所述滑杆11的下端连接；
所述晶元压头5安装在所述伸缩臂42的下端端部，所述晶元压头5随所述伸缩臂42上下移动。
上述实施例中所述连接件3包括多根间隔均匀且环状分布于所述水气装置本体1的下端的拉杆，每根所述拉杆下端均与所述缸体41的上端连接。
上述实施例中所述连接组件包括连接头21和浮动接头22，所述连接头21上端与所述滑杆11的下端连接，所述连接头21的下端与所述浮动接头22的上端连接。
上述实施例中还包括限位抵接组件，所述限位抵接组件6包括旋钮63和螺帽64组成，所述旋钮63为上端开口的中空圆柱体，其底端同轴设有与所述晶元压头5相配合的通孔，所述晶元压头5为圆柱形，其外周上设置有外螺纹，所述通孔内壁设有与所述晶元压头5外螺纹相配合的内螺纹，所述旋钮63螺纹安装在所述晶元压头5外周上，所述螺帽64螺纹安装在所述晶元压头5的下端外周上，并与所述旋钮63的下端抵接。
上述实施例中所述浮动接头22的侧壁的中部环设有凸块，所述浮动接头22随伸缩臂42向下运动过程中所述凸块的下端面与缸体41上端抵接。
上述实施例中所述伸缩臂42的伸缩长度为8-12mm。
实施例2
同实施例1，其区别在于，所述浮动接头22上端端部沿轴向设有螺孔，所述连接头21为圆柱体形，其下端外周上设有与浮动接头22上端螺孔相配合的外螺纹,，所述连接头21的下端螺纹安装在所述浮动接头22上端的螺孔内，所述连接头21与所述浮动接头22连接处之间还套设有用以调节所述连接头21下端与浮动接头22上端螺孔连接深度的第一垫圈23。
上述实施例中所述限位抵接组件设置于所述缸体下端；
所述晶元压头5侧壁中部环设有与所述限位抵接组件6相配合的环形的限位块51；
所述限位抵接组件6包括自上向下依次固定在所述缸体41下端端部的抵接块61和第二垫圈62，所述抵接块61中部设有供所述伸缩臂42的下端穿过的通孔；
所述伸缩臂42向上移动时，带动所述晶元压头5上升至所述限位块51与所述抵接块61抵接。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种刻蚀机去水气装置的升降机构，其特征在于，包括去水气装置本体(1)、双作用气缸(4)和晶元压头(5)；
所述去水气装置本体(1)内部具有竖直设置并可上下移动的滑杆(11)；
所述双作用气缸(4)竖向设置，其缸体(41)通过连接件(3)安装在所述水气装置本体(1)的下端，所述双作用气缸(4)内具有与所述滑杆(11)同轴设置的伸缩臂(42)；
所述伸缩臂(42)的上端通过高度可调的连接组件(2)与所述滑杆(11)的下端连接；
所述晶元压头(5)安装在所述伸缩臂(42)的下端端部，所述晶元压头(5)随所述伸缩臂(42)上下移动。
2.根据权利要求1所述的刻蚀机去水气装置的升降机构，其特征在于，所述连接件(3)包括多根间隔均匀且环状分布于所述水气装置本体(1)的下端的拉杆，每根所述拉杆下端均与所述缸体(41)的上端连接。
3.根据权利要求1所述的刻蚀机去水气装置的升降机构，其特征在于，所述连接组件包括连接头(21)和浮动接头(22)，所述连接头(21)上端与所述滑杆(11)的下端连接，所述连接头(21)的下端与所述浮动接头(22)的上端连接。
4.根据权利要求3所述的刻蚀机去水气装置的升降机构，其特征在于，所述浮动接头(22)上端端部沿轴向设有螺孔，所述连接头(21)为圆柱体形，其下端外周上设有与浮动接头(22)上端螺孔相配合的外螺纹，所述连接头(21)的下端螺纹安装在所述浮动接头(22)上端的螺孔内，所述连接头(21)与所述浮动接头(22)连接处之间还套设有用以调节所述连接头(21)下端与浮动接头(22)上端螺孔连接深度的第一垫圈(23)。
5.根据权利要求4所述的刻蚀机去水气装置的升降机构，其特征在于， 还包括限位抵接组件，所述限位抵接组件设置于所述缸体下端，
所述晶元压头(5)侧壁中部环设有与所述限位抵接组件(6)相配合的环形的限位块(51)；
所述限位抵接组件(6)包括自上向下依次固定在所述缸体(41)下端端部的抵接块(61)和第二垫圈(62)，所述抵接块(61)中部设有供所述伸缩臂(42)的下端穿过的通孔；
所述伸缩臂(42)向上移动时，带动所述晶元压头(5)上升至所述限位块(51)与所述抵接块(61)抵接。
6.根据权利要求4所述的刻蚀机去水气装置的升降机构，其特征在于，还包括限位抵接组件，所述限位抵接组件(6)包括旋钮(63)和螺帽(64)组成，所述旋钮(63)为上端开口的中空圆柱体，其底端同轴设有与所述晶元压头(5)相配合的通孔，所述晶元压头(5)为圆柱形，其外周上设置有外螺纹，所述通孔内壁设有与所述晶元压头(5)外螺纹相配合的内螺纹，所述旋钮(63)螺纹安装在所述晶元压头(5)外周上，所述螺帽(64)螺纹安装在所述晶元压头(5)的下端外周上，并与所述旋钮(63)的下端抵接。
7.根据权利要求5或6中任一项所述的刻蚀机去水气装置的升降机构，其特征在于，所述浮动接头(22)的侧壁的中部环设有凸块，所述浮动接头(22)随伸缩臂(42)向下运动过程中所述凸块的下端面与缸体(41)上端抵接。
8.根据权利要求7所述的刻蚀机去水气装置的升降机构，其特征在于，所述伸缩臂(42)的伸缩长度为8-12mm。
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| CN201720968082.8U CN207353206U (zh) | 2017-08-04 | 2017-08-04 | 一种刻蚀机去水气装置的升降机构 |
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