CN207309737U - 一种真空系统抛光液回流装置 - Google Patents

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钟超阳
周孝行
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Abstract

本实用新型公开一种真空系统抛光液回流装置,包括缓冲罐,缓冲罐的上端设有通气管道,缓冲罐的下端设有回流管道,缓冲罐的侧面距离缓冲罐上端三分之二的高度位置设有与机台连通的抽真空管道,回流管道的一侧设有磨粉回流管道,磨粉回流管道与磨粉储存桶连通,磨粉储存桶通过磨粉供给管道与机台连通,通气管道上设有真空管道、大气管道和用于控制真空管道、大气管道交换打开或关闭的控制阀。磨液缓冲桶设计真空连接口,破真空口,磨液回流口。旋转式阀门:在关闭主真空阀门的同时,启动大气连接及排水阀。机台启动后,同时关闭大气连接及排水阀,启动主真空。

Description

一种真空系统抛光液回流装置
技术领域
本实用新型涉及玻璃抛光也回收装置,特别涉及一种真空系统抛光液回流装置。
背景技术
现有2.5D玻璃在抛光过程,玻璃由真空固定在底座上,因基座间隙,抛光液会大量被真空抽走。造成磨液损失,生产良率低。
实用新型内容
本实用新型的目的是针对现有技术的上述缺陷,提供一种真空系统抛光液回流装置。
为解决现有技术的上述缺陷,本实用新型提供的技术方案是:一种真空系统抛光液回流装置,包括缓冲罐,所述缓冲罐的上端设有通气管道,所述缓冲罐的下端设有回流管道,所述缓冲罐的侧面距离缓冲罐上端三分之二的高度位置设有与机台连通的抽真空管道,所述回流管道的一侧设有磨粉回流管道,所述磨粉回流管道与磨粉储存桶连通,所述磨粉储存桶通过磨粉供给管道与所述机台连通,所述通气管道上设有真空管道、大气管道和用于控制真空管道、大气管道交换打开或关闭的控制阀。
作为本实用新型真空系统抛光液回流装置的一种改进,所述控制阀由PLC控制设备控制其旋转,当机台处于抛光工作状态时,所述真空管道开启,所述大气管道和所述磨粉回流管道关闭,所述缓冲罐被抽真空的同时,磨粉会通过抽真空管道流入至缓冲罐内储存;当机台处于关闭状态时,所述真空管道和所述抽真空管道关闭,所述大气管道和所述磨粉回流管道开启。
作为本实用新型真空系统抛光液回流装置的一种改进,所述机台处于关闭状态时,所述磨粉回流管道开启,所述缓冲罐内的磨粉通过磨粉回流管道流入磨粉储存桶内。
作为本实用新型真空系统抛光液回流装置的一种改进,所述控制阀的上端设有上缺口,所述控制阀的下端设有下缺口,所述机台处于关闭状态时,所述控制阀旋转同时控制大气管道和所述磨粉回流管道开启。
作为本实用新型真空系统抛光液回流装置的一种改进,所述控制阀成柱形,所述控制阀的下端穿设在所述回流管道内,所述控制阀的上端穿设在所述通气管道上。
与现有技术相比,本实用新型的优点是:本实用新型采用采用新的设计,在真空与机台之间增加特殊的缓冲罐设计,此缓冲罐设计有真空连接孔,大气连接孔和磨粉回流口,且设计特殊联动开关,由PLC控制,一次完成三个阀门的开关作业。磨液缓冲桶设计真空连接口,破真空口,磨液回流口。旋转式阀门:在关闭主真空阀门的同时,启动大气连接及排水阀。机台启动后,同时关闭大气连接及排水阀,启动主真空。PLC控制,与生产参数搭配,生产停止时,启动排液阀,生产启动时启动真空。
附图说明
下面就根据附图和具体实施方式对本实用新型及其有益的技术效果作进一步详细的描述,其中:
图1是本实用新型生产状态结构示意图。
图2是本实用新型生产停止状态结构示意图。
附图标记名称:1、缓冲罐 2、通气管道 3、回流管道 4、机台 5、抽真空管道 6、磨粉回流管道 7、磨粉储存桶 8、磨粉供给管道 9、真空管道 10、大气管道 11、控制阀 12、上缺口 13、下缺口 14、磨粉。
具体实施方式
下面就根据附图和具体实施例对本实用新型作进一步描述,但本实用新型的实施方式不局限于此。
如图1和图2所示,一种真空系统抛光液回流装置,包括缓冲罐1,缓冲罐1的上端设有通气管道2,缓冲罐1的下端设有回流管道3,缓冲罐1的侧面距离缓冲罐1上端三分之二的高度位置设有与机台4连通的抽真空管道5,回流管道3的一侧设有磨粉回流管道6,磨粉回流管道6与磨粉储存桶7连通,磨粉储存桶7通过磨粉供给管道8与机台4连通,通气管道2上设有真空管道9、大气管道10和用于控制真空管道9、大气管道10交换打开或关闭的控制阀11。控制阀11同时控制大气管道10、真空管道9和磨粉回流管道6打开或关闭。
优选的,控制阀11由PLC控制设备控制其旋转,如图1所示,当机台4处于抛光工作状态时,真空管道9开启,大气管道10和磨粉回流管道6关闭,缓冲罐1被抽真空的同时,磨粉14会通过抽真空管道5流入至缓冲罐1内储存;如图2所示,当机台4处于关闭状态时,真空管道9和抽真空管道5关闭,大气管道10和磨粉回流管道6开启。
优选的,机台4处于关闭状态时,磨粉回流管道6开启,缓冲罐1内的磨粉通过磨粉回流管道6流入磨粉储存桶7内。
优选的,控制阀11的上端设有上缺口12,控制阀11的下端设有下缺口13,机台4处于关闭状态时,控制阀11旋转同时控制大气管道10和磨粉回流管道6开启。
优选的,控制阀11成柱形,控制阀11的下端穿设在回流管道3内,控制阀11的上端穿设在通气管道2上。
本实用新型采用采用新的设计,在真空与机台4之间增加特殊的缓冲罐1设计,此缓冲罐1设计有真空连接孔,大气连接孔和磨粉回流口,且设计特殊联动开关,由PLC控制,一次完成三个阀门的开关作业。磨液缓冲桶设计真空连接口、破真空口、磨液回流口。旋转式阀门:在关闭主真空阀门的同时,启动大气连接及排水阀。机台启动后,同时关闭大气连接及排水阀,启动主真空。PLC控制,与生产参数搭配,生产停止时,启动排液阀,生产启动时启动真空。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和结构的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同范围限定。

Claims (5)

1.一种真空系统抛光液回流装置,包括缓冲罐,其特征在于,所述缓冲罐的上端设有通气管道,所述缓冲罐的下端设有回流管道,所述缓冲罐的侧面距离缓冲罐上端三分之二的高度位置设有与机台连通的抽真空管道,所述回流管道的一侧设有磨粉回流管道,所述磨粉回流管道与磨粉储存桶连通,所述磨粉储存桶通过磨粉供给管道与所述机台连通,所述通气管道上设有真空管道、大气管道和用于控制真空管道、大气管道交换打开或关闭的控制阀。
2.根据权利要求1所述的真空系统抛光液回流装置,其特征在于,所述控制阀由PLC控制设备控制其旋转,当机台处于抛光工作状态时,所述真空管道开启,所述大气管道和所述磨粉回流管道关闭,所述缓冲罐被抽真空的同时,磨粉会通过抽真空管道流入至缓冲罐内储存;当机台处于关闭状态时,所述真空管道和所述抽真空管道关闭,所述大气管道和所述磨粉回流管道开启。
3.根据权利要求2所述的真空系统抛光液回流装置,其特征在于,所述机台处于关闭状态时,所述磨粉回流管道开启,所述缓冲罐内的磨粉通过磨粉回流管道流入磨粉储存桶内。
4.根据权利要求3所述的真空系统抛光液回流装置,其特征在于,所述控制阀的上端设有上缺口,所述控制阀的下端设有下缺口,所述机台处于关闭状态时,所述控制阀旋转同时控制大气管道和所述磨粉回流管道开启。
5.根据权利要求4所述的真空系统抛光液回流装置,其特征在于,所述控制阀成柱形,所述控制阀的下端穿设在所述回流管道内,所述控制阀的上端穿设在所述通气管道上。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112621559A (zh) * 2020-12-09 2021-04-09 蚌埠中光电科技有限公司 一种用于研磨机真空管道的研磨液清洁装置

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