CN207281464U - 一种掩模板边角残留铬的清除装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种掩模板边角残留铬的清除装置，包括支架、宽度调整组件、密封活塞和渗透棉；支架设置有与掩模板侧面相接触的侧定位面，支架中设置有盛装药液的容腔，渗透棉位于容腔底部，用于被药液浸泡，宽度调整组件设置在支架上，密封活塞连接在宽度调整组件上，用于调整渗透棉的宽度；由于在支架上采用了与掩模板侧面相接触的侧定位面，结合浸泡有药液的渗透棉以及可调整其宽度的密封活塞，不仅实现了对待清除的残留铬层宽度的精确调整，而且只需将该清除装置沿掩模板侧面进行前后匀速移动，即可快速精确地清除掩模板边角残留铬层，大大提升了工作时效；同时，即使光刻胶上的有效图形与无效边沿距离过近，也不会对有效图形造成任何影响。

Description

一种掩模板边角残留铬的清除装置

技术领域

本实用新型涉掩模板的制作辅助设备领域，尤其涉及的是一种掩模板边角残留铬的清除装置。

背景技术

在光学掩模板制版行业，通常都需要对掩模板周边残留的多余的金属铬层进行清除，以免影响到掩模板的实际应用。所谓的掩模板指的是一种由表面金属薄膜记载图形、文字等信息的介质载板(例如玻璃载板)。而本文中的残留的多余的金属铬层指的是掩模板在生产制造过程中受材料、环境、工艺等诸多因素的影响，在其四边角所形成无意义但会影响到掩模板实际应用的多余金属铬层残留。

传统的清除方法或者采用棉签沾溶剂和药水手工逐边去除，或者采用无尘布沾溶剂和药水手工逐边去除。但是，这些传统的清除方法不仅处理速度慢，而且当光刻胶上的有效(或有用)图形与无效边沿距离过近时，手工去除都会影响到有效图形区域；同时，在手工清除的过程中，因部分溶剂和药水的挥发或不小心溅射到光刻胶上，还会造成产品的报废。

因此，现有技术尚有待改进和发展。

实用新型内容

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种掩模板边角残留铬的清除装置，可快速精确地清除掩模板边角残留铬层，提升工作时效。

本实用新型的技术方案如下：一种掩模板边角残留铬的清除装置，包括：支架、宽度调整组件、密封活塞和渗透棉；其中，所述支架设置有侧定位面，用于与掩模板的侧面相接触，所述支架中设置有用于盛装药液的容腔，所述渗透棉设置在容腔的底部，用于被盛装在该容腔中的药液浸泡，所述宽度调整组件设置在支架上，所述密封活塞连接在该宽度调整组件上，用于调整所述渗透棉的宽度。

所述的掩模板边角残留铬的清除装置，其中：所述支架的顶部设置有一连通至所述容腔的药液添加口，该药液添加口上设置有一可拆装的盖子。

所述的掩模板边角残留铬的清除装置，其中：所述支架的纵向断面呈L形，其容腔的部分底面低于掩模板的上表面。

所述的掩模板边角残留铬的清除装置，其中：所述支架上设置有观察窗，用于观察容腔内药液的容积。

本实用新型所提供的一种掩模板边角残留铬的清除装置，由于在支架上采用了与掩模板侧面相接触的侧定位面，结合浸泡有药液的渗透棉以及可调整其宽度的密封活塞，不仅实现了对待清除的残留铬层宽度的精确调整，而且只需将该清除装置沿掩模板侧面进行前后匀速移动，即可快速精确地清除掩模板边角残留铬层，大大提升了工作时效；同时，即使光刻胶上的有效图形与无效边沿距离过近，也不会对有效图形造成任何影响，也避免了因部分药液的挥发或溅射而导致产品的报废。

附图说明

图1是本实用新型掩模板边角残留铬的清除装置实施例的结构示意图。

具体实施方式

以下将结合附图，对本实用新型的具体实施方式和实施例加以详细说明，所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型，并非用于限定本实用新型的具体实施方式。

如图1所示，图1是本实用新型掩模板边角残留铬的清除装置实施例的结构示意图，该清除装置包括支架210、宽度调整组件230(图中标号所指为该调整组件的旋钮位置)、密封活塞250和渗透棉260；其中，所述支架210设置有侧定位面211，用于与掩模板100的侧面120相接触，所述支架210中设置有用于盛装药液的容腔220，所述渗透棉260设置在容腔220的底部，用于被盛装在该容腔200中的药液浸泡，所述宽度调整组件230设置在支架210上，所述密封活塞250连接在该宽度调整组件230上，用于调整所述渗透棉260的宽度。

本实用新型掩模板边角残留铬的清除装置由于在支架210上采用了与掩模板100侧面120相接触的侧定位面211，结合浸泡有药液的渗透棉260以及可调整渗透棉260宽度的密封活塞250，不仅实现了对待清除的残留铬层130宽度的精确调整，而且只需将该清除装置沿掩模板100侧面120进行前后匀速移动，即可快速精确地清除掩模板边角残留铬层130，大大提升了工作时效；同时，即使光刻胶上的有效图形与无效边沿距离过近，也不会对有效图形造成任何影响，也避免了因部分药液的挥发或溅射而导致产品的报废。

在本实用新型掩模板边角残留铬的清除装置的具体实施方式中，所述支架210的顶部设置有一连通至所述容腔220的药液添加口240，该药液添加口240上设置有一可拆装的盖子241，以进一步避免容腔220中的药液挥发或在支架210移动的过程中产生溅射。

在本实用新型掩模板边角残留铬的清除装置的具体实施方式中，所述支架210的纵向断面呈L形，其容腔220的部分底面低于掩模板100的上表面110，以进一步确保容腔220中的药液完全浸泡渗透棉260。

在本实用新型掩模板边角残留铬的清除装置的具体实施方式中，所述支架210上还设置有观察窗，用于观察容腔220内药液的容积。

本实用新型掩模板边角残留铬的清除装置在使用时，先将掩模板100平放并固定在平台或桌面上，使得待清除的边角残留铬层130朝上，并保证在后续清除边角残留铬的过程中不能移动；再将该清除装置放置在掩模板100的上表面110上，使得其支架210的侧定位面211与掩模板100的侧面120相接触；然后通过宽度调整组件230调整密封活塞250，使渗透棉260的宽度与待清除的残留铬层宽度相匹配；接着打开盖子241，通过支架210上的药液添加口240向容腔220内添加相应的药液，并通过观察窗查看容腔220内药液的容积，之后盖上盖子241；随后沿掩模板100的侧面120前后匀速移动该清除装置，此时，容腔220内的药液不断地从渗透棉260中渗出，并在移动过程中与掩模板100上表面110待清除的边角残留铬层130进行化学反应，从而快速有效地将边角残留铬层130进行清除。

应当理解的是，以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不足以限制本实用新型的技术方案，对本领域普通技术人员来说，在本实用新型的精神和原则之内，可以根据上述说明加以增减、替换、变换或改进，而所有这些增减、替换、变换或改进后的技术方案，都应属于本实用新型所附权利要求的保护范围。

Claims (4)

1.一种掩模板边角残留铬的清除装置，其特征在于，包括：支架、宽度调整组件、密封活塞和渗透棉；其中，所述支架设置有侧定位面，用于与掩模板的侧面相接触，所述支架中设置有用于盛装药液的容腔，所述渗透棉设置在容腔的底部，用于被盛装在该容腔中的药液浸泡，所述宽度调整组件设置在支架上，所述密封活塞连接在该宽度调整组件上，用于调整所述渗透棉的宽度。

2.根据权利要求1所述的掩模板边角残留铬的清除装置，其特征在于：所述支架的顶部设置有一连通至所述容腔的药液添加口，该药液添加口上设置有一可拆装的盖子。

3.根据权利要求1所述的掩模板边角残留铬的清除装置，其特征在于：所述支架的纵向断面呈L形，其容腔的部分底面低于掩模板的上表面。

4.根据权利要求1所述的掩模板边角残留铬的清除装置，其特征在于：所述支架上设置有观察窗，用于观察容腔内药液的容积。