CN207181748U - 一种光隔离器 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种光隔离器，包括：第一偏振片、法拉第旋光片、第二偏振片和光隔离体；第一偏振片和第二偏振片分别设置在法拉第旋光片的两面，第一偏振片设置在法拉第旋光片的入射面，第二偏振片设置在法拉第旋光片的出射面；第二偏振片的通偏振光的方向和第一偏振片的通偏振光的方向的交角为45°；光隔离体内设置有凹槽，第一偏振片、法拉第旋光片和第二偏振片设置在光隔离体的凹槽内；光隔离体的底面为平面。通过上述方式，本实用新型将光隔离器的底面设置为平面，增大了光隔离器与基片的接触面积，两者的粘接更加稳固，提高了产品可靠性；同时，有利于小型化集成光器件的组装，特别是有多个元器件在同一基片上耦合组装的集成器件。

Description

一种光隔离器

技术领域

本实用新型涉及光通信技术领域，特别是涉及一种光隔离器。

背景技术

在光通信领域中，为了防止光反射回来，通常装入光隔离器等光学元件。光隔离器是一种只允许单向光通过的无源光器件，其工作原理是基于法拉第旋转的非互易性。

传统的光隔离器因为方便旋转调整偏振化方向和有利于同轴耦合封装等原因，在传统的同轴光器件上得到广泛应用。但随着光器件的发展日趋小型化、集成化，多个元器件在同一基片上的耦合集成是未来的发展趋势，此时传统的光隔离器存在着与基片平面难定位、固定效果差等问题。

实用新型内容

本实用新型主要解决的技术问题是提供一种光隔离器，能够增大光隔离器与基片的接触面积，粘接更加稳固。

为达到上述目的，本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种光隔离器，包括：第一偏振片、法拉第旋光片、第二偏振片和光隔离体；

所述第一偏振片和第二偏振片分别设置在所述法拉第旋光片的两面，所述第一偏振片设置在所述法拉第旋光片的入射面，所述第二偏振片设置在所述法拉第旋光片的出射面；所述第二偏振片的通偏振光的方向和第一偏振片的通偏振光的方向的交角为45°；

所述光隔离体内设置有凹槽，所述第一偏振片、法拉第旋光片和第二偏振片设置在所述光隔离体的凹槽内；所述光隔离体的底面为平面。

优选的，所述第一偏振片、法拉第旋光片和第二偏振片的底面均与所述光隔离体的底面平行。

优选的，所述光隔离体的材质为磁铁。

优选的，所述法拉第旋光片的两面分别设置有增透膜，所述增透膜设置在所述法拉第旋光片与所述第一偏振片和第二偏振片之间。

优选的，所述第一偏振片为0°偏振片，所述第二偏振片为45°偏振片。

优选的，所述第一偏振片为45°偏振片，所述第二偏振片为0°偏振片。

优选的，所述法拉第旋光片的材质为磁致旋光晶体。

优选的，所述磁致旋光晶体为钇铁石榴石。

优选的，所述第一偏振片和第二偏振片的材质为二向色性材料或双折射晶体中的一种。

由于上述技术方案的运用，本实用新型与现有技术相比具有下列有益效果：

提供了一种光隔离器，将光隔离器的底面设置为平面，使得光隔离器与基片为面接触，增大了两者的接触面积，两者的粘接更加稳固，提高了产品可靠性；同时，有利于小型化集成光器件的组装，特别是有多个元器件在同一基片上耦合组装的集成器件，操作方便。

附图说明

图1是本实用新型一种光隔离器一较佳实施方式的结构示意图。

图2是本实用新型一种光隔离器另一较佳实施方式的结构示意图。

图3是本实用新型一种光隔离器另一较佳实施方式的结构示意图。

附图说明：1第一偏振片、2法拉第旋光片、3第二偏振片、4光隔离体。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。

实施例一：

参阅附图，一种光隔离器，包括第一偏振片1、法拉第旋光片2、第二偏振片2和光隔离体4。本实用新型只要求光隔离体4的底面为平面，不对光隔离体 4的形状进行限制。由于基片的表面为平面，将光隔离器的底面设置为平面，使得光隔离器与基片为面接触，增大了两者的接触面积，粘接更加稳固，更加可靠；同时，便于小型化集成光器件的组装，特别是有多个元器件在同一基片上耦合组装的集成器件。

本实施例中，光隔离体4内设置有方形凹槽，由于光隔离体4的材质为磁铁，光隔离体4相当于一个U形磁铁，可以为粘贴在其凹槽内的第一偏振片1、法拉第旋光片2和第二偏振片2提供磁场。第一偏振片1、法拉第旋光片2和第二偏振片2的底面均与光隔离体4的底面平行，便于对准光隔离器的偏振化方向，提高精准度。

第一偏振片1和第二偏振片2分别粘贴在法拉第旋光片2的两面，粘贴有第一偏振片1的法拉第旋光片2的一面为入射面，粘贴有第二偏振片2的法拉第旋光片2的一面为出射面。第一偏振片1为0°偏振片，第二偏振片2为45°偏振片，两者偏振光的方向之间有45°的交角。为了提高效果，在法拉第旋光片2的两面分别粘贴增透膜，增透膜设置在法拉第旋光片2与第一偏振片1和第二偏振片2之间。

实施例二：

参阅附图，一种光隔离器，包括第一偏振片1、法拉第旋光片2、第二偏振片2和光隔离体4。本实用新型只要求光隔离体4的底面为平面，不对光隔离体 4的形状进行限制。由于基片的表面为平面，将光隔离器的底面设置为平面，使得光隔离器与基片为面接触，增大了两者的接触面积，粘接更加稳固，更加可靠；同时，便于小型化集成光器件的组装，特别是有多个元器件在同一基片上耦合组装的集成器件。

本实施例中，光隔离体4内设置有方形凹槽，由于光隔离体4的材质为磁铁，光隔离体4相当于一个环形磁铁，可以为粘贴在其凹槽内的第一偏振片1、法拉第旋光片2和第二偏振片2提供磁场。第一偏振片1、法拉第旋光片2和第二偏振片2的底面均与光隔离体4的底面平行，便于对准光隔离器的偏振化方向，提高精准°。

第一偏振片1和第二偏振片2分别粘贴在法拉第旋光片2的两面，粘贴有第一偏振片1的法拉第旋光片2的一面为入射面，粘贴有第二偏振片2的法拉第旋光片2的一面为出射面。第一偏振片1为0°偏振片，第二偏振片2为45°偏振片，两者偏振光的方向之间有45°的交角。为了提高效果，在法拉第旋光片2的两面分别粘贴增透膜，增透膜设置在法拉第旋光片2与第一偏振片1和第二偏振片2之间。

实施例三：

参阅附图，一种光隔离器，包括第一偏振片1、法拉第旋光片2、第二偏振片2和光隔离体4。本实用新型只要求光隔离体4的底面为平面，不对光隔离体 4的形状进行限制。由于基片的表面为平面，将光隔离器的底面设置为平面，使得光隔离器与基片为面接触，增大了两者的接触面积，粘接更加稳固，更加可靠；同时，便于小型化集成光器件的组装，特别是有多个元器件在同一基片上耦合组装的集成器件。

本实施例中，光隔离体4内设置有圆形凹槽，由于光隔离体4的材质为磁铁，光隔离体4相当于一个环形磁铁，可以为粘贴在其凹槽内的第一偏振片1、法拉第旋光片2和第二偏振片2提供磁场。第一偏振片1、法拉第旋光片2和第二偏振片2的底面均与光隔离体4的底面平行，便于对准光隔离器的偏振化方向，提高精准°。

第一偏振片1和第二偏振片2分别粘贴在法拉第旋光片2的两面，粘贴有第一偏振片1的法拉第旋光片2的一面为入射面，粘贴有第二偏振片2的法拉第旋光片2的一面为出射面。第一偏振片1为45°偏振片，第二偏振片2为0°偏振片，两者偏振光的方向之间有45°的交角。为了提高效果，在法拉第旋光片2的两面分别粘贴增透膜，增透膜设置在法拉第旋光片2与第一偏振片1和第二偏振片2之间。

以上仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (9)

1.一种光隔离器，其特征在于，包括：第一偏振片、法拉第旋光片、第二偏振片和光隔离体；

所述第一偏振片和第二偏振片分别设置在所述法拉第旋光片的两面，所述第一偏振片设置在所述法拉第旋光片的入射面，所述第二偏振片设置在所述法拉第旋光片的出射面；所述第二偏振片的通偏振光的方向和第一偏振片的通偏振光的方向的交角为45°；

所述光隔离体内设置有凹槽，所述第一偏振片、法拉第旋光片和第二偏振片设置在所述光隔离体的凹槽内；所述光隔离体的底面为平面。

2.根据权利要求1所述的一种光隔离器，其特征在于：所述第一偏振片、法拉第旋光片和第二偏振片的底面均与所述光隔离体的底面平行。

3.根据权利要求1或2所述的一种光隔离器，其特征在于：所述光隔离体的材质为磁铁。

4.根据权利要求1或2所述的一种光隔离器，其特征在于：所述法拉第旋光片的两面分别设置有增透膜，所述增透膜设置在所述法拉第旋光片与所述第一偏振片和第二偏振片之间。

5.根据权利要求1所述的一种光隔离器，其特征在于：所述第一偏振片为0°偏振片，所述第二偏振片为45°偏振片。

6.根据权利要求1所述的一种光隔离器，其特征在于：所述第一偏振片为45°偏振片，所述第二偏振片为0°偏振片。

7.根据权利要求1所述的一种光隔离器，其特征在于：所述法拉第旋光片的材质为磁致旋光晶体。

8.根据权利要求7所述的一种光隔离器，其特征在于：所述磁致旋光晶体为钇铁石榴石。

9.根据权利要求1所述的一种光隔离器，其特征在于：所述第一偏振片和第二偏振片的材质为二向色性材料或双折射晶体中的一种。