CN207085491U - 纳米硅溶胶和硅溶胶基抛光液纯化及过滤装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种纳米硅溶胶和硅溶胶基抛光液纯化及过滤装置，包括三通连接进口、腔体和三通连接出口；腔体由内衬聚四氟乙烯的不锈钢板组成，腔体与腔体之间通过密封螺丝连接，腔体连接处的钢板上开设有沟槽，密封垫圈插入沟槽内，沟槽内圆周内开设有若干小孔，连接处不锈钢板之间设有过滤滤布。本实用新型结构简单，拆卸清洗方便，纯化和过滤效果佳。

Description

纳米硅溶胶和硅溶胶基抛光液纯化及过滤装置

技术领域

本实用新型涉及一种纯化过滤装置，特别是一种纳米硅溶胶和硅溶胶基抛光液纯化及过滤装置。

背景技术

目前，纳米级硅溶胶及其所配置的抛光液的纯化和过滤，采用分布式的滤布、滤芯、陶瓷设备、阴离子交换树脂、阳离子交换树脂等多步骤纯化和过滤，工艺复杂、设备昂贵，操作极其复杂，设备昂贵。所用到的滤芯、滤布和过滤网在纯化及过滤过程中，更换麻烦，容易形成二次污染。另外，由于过滤步骤过多，清洗和反冲洗需要用到大量水，形成巨大浪费。

实用新型内容

实用新型目的：本实用新型提供一种纳米硅溶胶和硅溶胶基抛光液纯化及过滤装置，该装置可拆卸清洗或更换内部结构，并且可以进行正向清洗和反向冲洗。

技术方案：一种纳米硅溶胶和硅溶胶基抛光液纯化及过滤装置，包括三通进口、腔体以及三通出口；其中腔体由多个内衬聚四氟乙烯的独立腔体连接而成，每个独立腔体连接处的板外包聚四氟乙烯；两个独立腔体连接处的板向外伸出一定距离并通过密封螺丝连接；两个独立腔体连接处的板上开设有圆环形沟槽，该圆环形沟槽位于腔体横截面内部，环形沟槽内填塞有密封橡胶垫圈；圆环形沟槽内圆周内开设有多个滤孔，两个独立腔体连接处还设有滤布，该滤布被连接处的两块板夹紧在相邻独立腔体中间且可覆盖所有滤孔。

独立腔体一共有五个，第一独立腔体与三通进口连接，第五独立腔体与三通出口连接；从进口至出口独立腔体之间的滤布依次为：200目的过滤网片、5微米滤布、1微米滤布、1微米滤布。

有益效果：本实用新型可以对纳米硅溶胶和硅溶胶基抛光液纯化和过滤效果进行多步组合控制，也可以连接加压设备，提高过滤效果；拆卸清洗和反冲洗简单，成本及其低廉，纯化和过滤效果佳。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型独立腔体连接处板腔体面板结构示意图。

具体实施方式

如图所示，一种纳米硅溶胶和硅溶胶基抛光液纯化及过滤装置，包括三通进口1、腔体2以及三通出口；腔体2由五个内衬聚四氟乙烯的独立腔体首尾连接 而成，独立腔体材质为不锈钢板，两个独立腔体连接处的腔体面板面积大于独立腔体的横截面，并且内外均包覆有聚四氟乙烯；连接处的两块腔体面板通过密封螺丝3固定连接，两块腔体面板的外表面开设有形状位置均相同的圆环形密封沟槽13，圆环形密封沟槽13的宽度为2mm；腔体面板之间设有密封圈4，该密封圈4安装在圆环形密封沟槽13内；连接处腔体面板上的圆环形密封沟槽13内圆周内有多个直径为2mm、间距为2mm的滤孔14，连接处腔体面板之间设有滤布，滤布可以覆盖所有的滤孔14；当拧紧密封螺丝3时；连接处的腔体面板相互压紧，将密封圈固定于圆环形密封沟槽13中，且压紧滤布，使得纳米硅溶胶通过滤孔后再经过滤布过滤后再进入下一级独立腔体之中。

如图1所示，为了方便清洗。该装置不仅设有纳米硅溶胶进、出口还设有反冲洗进、出口，三通进口1除了连接在腔体上的端口外，另外两个端口中，水平端口为纳米硅溶胶进口9，竖直端口为反冲洗出口10；三通出口中水平端口为纳米硅溶胶出口11，竖直端口为反冲洗进口12。

如图1所示，腔体2由第一独立腔体、第二独立腔体、第三独立腔体、第四独立腔体、第五独立腔体依次首尾连接而成，两个独立腔体连接处腔体板之间的滤布依次为：200目的过滤网片5、5微米滤布6、1微米滤布7、1微米滤布8。

图1中，将三通进口1连接到腔体2上，在腔体2中的第一独立腔体内装满阳离子交换树脂；在腔体2第二独立腔体中装满阴离子交换树脂；第一独立腔体1和第二独立腔体2之间安装200目的过滤网片5覆盖所有的滤孔14，防止树脂的溢出，然后将密封圈4放置到规定的密封沟槽13内，用密封螺丝3固定好第一独立腔体和第二独立腔体；按照同样的方式再次安装腔体2的其余独立腔体，在新的独立腔体内不放置任何固体，将腔体1倒置安装，形成密封的整体，用此装置可以一次性实现硅溶胶或硅溶胶抛光液的阳离子纯化、阴离子纯化，大颗粒的过滤，完成整个纯化和过滤步骤。

Claims (8)

1.一种纳米硅溶胶和硅溶胶基抛光液纯化及过滤装置，包括三通进口(1)、腔体(2)以及三通出口，其特征在于：所述腔体(2)由多个内衬防漏材料的独立腔体连接而成，首尾两端的独立腔体分别连接三通进口(1)和三通出口；相邻两个独立腔体连接处的两个腔体面板外表面上开设有密封沟槽(13)，密封圈(4)安装于密封沟槽内；密封沟槽内圆周的两个腔体面板上开设有多个滤孔(14)，连接处腔体板之间还设有滤布。

2.根据权利要求1所述的纳米硅溶胶和硅溶胶基抛光液纯化及过滤装置，其特征在于：所述防漏材料为聚四氟乙烯。

3.根据权利要求1所述的纳米硅溶胶和硅溶胶基抛光液纯化及过滤装置，其特征在于：三通连接进口连接第一独立腔体，第一独立腔体与第二独立腔体连接，连接处腔体板之间滤布为过滤网片(5),所述过滤网片(5)为200目的过滤网片。

4.根据权利要求1所述的纳米硅溶胶和硅溶胶基抛光液纯化及过滤装置，其特征在于：第二独立腔体与第三独立腔体连接，腔体之间的滤布为5微米滤布(6)。

5.根据权利要求1所述的纳米硅溶胶和硅溶胶基抛光液纯化及过滤装置，其特征在于：第三独立腔体与第四独立腔体连接，腔体之间的滤布为1微米滤布(7)。

6.根据权利要求1所述的纳米硅溶胶和硅溶胶基抛光液纯化及过滤装置，其特征在于：第四独立腔体与第五独立腔体之间的滤布为1微米滤布(8)。

7.根据权利要求1所述的纳米硅溶胶和硅溶胶基抛光液纯化及过滤装置，其特征在于：所述密封沟槽内圆周内开设的滤孔(14)为直径为2mm的圆孔，且孔与孔之间的间距为2mm。

8.根据权利要求1所述的纳米硅溶胶和硅溶胶基抛光液纯化及过滤装置，其特征在于：密封沟槽(13)形状为圆环形。