CN207026011U - 刚玉晶片清洁装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种刚玉晶片清洁装置，包括固定架，固定架上自外而内依次设置有气泵、固定框、若干输气管、若干导流翅片、吸附机构以及转轴；吸附机构呈圆盘状且其上设有若干吸附口，每个吸附口处设置有工业吸盘，吸附机构固定在转轴一端，转轴另一端转动连接在固定架上，导流翅片绕吸附机构周向均布且其内端均固定在吸附机构外圆上，输气管周向均布在固定框上，输气管内端朝向导流翅片，输气管外端则伸出固定框并与气泵连通。本实用新型结构简单，方便实用。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种刚玉晶片清洁装置。
背景技术
俗称刚玉，又称蓝宝石，是一种简单配位型氧化物晶体。刚玉晶体具有优异的光学性能、机械性能和化学稳定性，强度高、硬度大、耐冲刷，可在接近2000℃高温的恶劣条件下工作，因而被广泛的应用于红外军事装置、卫星空间技术、高强度激光的窗口材料。其独特的晶格结构、优异的力学性能、良好的热学性能使刚玉晶体成为实际应用的半导体GaN/Al2O3发光二极管(LED)、大规模集成电路SOI和SOS及超导纳米结构薄膜等最为理想的衬底材料。
近年来，随着现代科学技术的发展，对刚玉晶体材料的尺寸、质量不断提出新的要求。为了得到杂质极少的刚玉晶片，需要在无尘土环境内对刚玉晶片进行吸附和冲洗等步骤，但吸附和冲洗都是由加工人员分步骤完成。
清洗也是通过人工手持水源进行冲洗的方式，不仅效率低下而且还需要再进行干燥处理，增加了成本，浪费了资源。
实用新型内容
本实用新型意在提供一种刚玉晶片清洁装置，以解决人工手持水源进行冲洗的方式效率低下的问题。
基础方案：本方案中的刚玉晶片清洁装置，包括固定架，固定架上自外而内依次设置有气泵、固定框、若干输气管、若干导流翅片、吸附机构以及转轴；吸附机构呈圆盘状且其上设有若干吸附口，每个吸附口处设置有工业吸盘，吸附机构固定在转轴一端，转轴另一端转动连接在固定架上，导流翅片绕吸附机构周向均布且其内端均固定在吸附机构外圆上，输气管周向均布在固定框上，输气管内端朝向导流翅片，输气管外端则伸出固定框并与气泵连通。
与现有技术相比，本实用新型的优点在于：1、通过输气管输入清洁空气的方式对工件表面进行清洁，避免产生水源清洗方式带来的碎屑粘附的问题，同时无需再进行干燥处理，简化了加工步骤，节省了水资源，降低了加工成本；2、清洁空气吹在导流翅片上时，能够驱动导流翅片转动，进而带动吸附机构转动，不仅能够让工件受到均匀的清洁，而且工件转动过程中，碎屑受到离心作用会自行脱落，从而保证了清洁效果。
本实用新型不仅效率高而且简化了加工步骤，节省了水资源，降低了加工成本，清洁效果好。
进一步，输气管出气端设置有喷头；通过设置喷头能够使得清洁空气喷出的方向更加准确而且强度提高，从而提高清洁效果。
进一步，导流翅片呈波纹状；不仅能够增加导流翅片对清洁空气的导流效果而且方便增强吸附机构及导流翅片的整体强度。
进一步，转轴为空心设置的；减少动能损失，提高能源利用率。
进一步，转轴与固定架之间设置有轴承；减小转轴与固定架之间的摩擦。
进一步，输气管外壁设置有螺纹段，固定块上对应设置有螺纹孔；能够通过螺纹连接的方式实现对输气管的位置调整。
进一步，所述吸附口侧壁向外呈扩孔状；能够方便工件碎屑从吸附口中脱离。
附图说明
图1为本实用新型实施例的示意图。
具体实施方式
下面通过具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明：
说明书附图中的附图标记包括：固定框1、输气管2、导流翅片3、喷头4、吸附机构5、转轴6。
实施例基本如图1所示：刚玉晶片清洁装置包括固定架，固定架上自外而内依次设置有气泵、固定框1、若干输气管2、若干导流翅片3、吸附机构5以及转轴6；吸附机构5呈圆盘状且其上设有若干吸附口，每个吸附口处设置有工业吸盘，吸附机构5固定在转轴6一端，转轴6另一端转动连接在固定架上，导流翅片3绕吸附机构5周向均布且其内端均固定在吸附机构5外圆上，输气管2周向均布在固定框1上，输气管2内端朝向导流翅片3，输气管2外端则伸出固定框1并与气泵连通。
与现有技术相比，本实用新型的优点在于：1、通过输气管2输入清洁空气的方式对工件表面进行清洁，避免产生水源清洗方式带来的碎屑粘附的问题，同时无需再进行干燥处理，简化了加工步骤，节省了水资源，降低了加工成本；2、清洁空气吹在导流翅片3上时，能够驱动导流翅片3转动，进而带动吸附机构5转动，不仅能够让工件受到均匀的清洁，而且工件转动过程中，碎屑受到离心作用会自行脱落，从而保证了清洁效果。
本实用新型不仅效率高而且简化了加工步骤，节省了水资源，降低了加工成本，清洁效果好。
输气管2出气端设置有喷头4；通过设置喷头4能够使得清洁空气喷出的方向更加准确而且强度提高，从而提高清洁效果。
导流翅片3呈波纹状；不仅能够增加导流翅片3对清洁空气的导流效果而且方便增强吸附机构5及导流翅片3的整体强度。转轴6为空心设置的；减少动能损失，提高能源利用率。转轴6与固定架之间设置有轴承；减小转轴6与固定架之间的摩擦。输气管2外壁设置有螺纹段，固定块上对应设置有螺纹孔；能够通过螺纹连接的方式实现对输气管2的位置调整。吸附口侧壁向外呈扩孔状；能够方便工件碎屑从吸附口中脱离。
工作时，吸附机构5的工业吸盘将工件吸附固定，然后气泵驱动清洁空气通过输气管2、导流翅片3喷至工件上，导流翅片3受到清洁空气驱动从而带动吸附机构5转动，进而实现清洁空气吹动与离心双重作用的清洁。
以上所述的仅是本实用新型的实施例，方案中公知的具体结构及特性等常识在此未作过多描述。应当指出，对于本领域的技术人员来说，在不脱离本实用新型结构的前提下，还可以作出若干变形和改进，这些也应该视为本实用新型的保护范围，这些都不会影响本实用新型实施的效果和专利的实用性。本申请要求的保护范围应当以其权利要求的内容为准，说明书中的具体实施方式等记载可以用于解释权利要求的内容。
Claims (8)
1.刚玉晶片清洁装置，其特征在于，包括固定架，固定架上自外而内依次设置有气泵、固定框、若干输气管、若干导流翅片、吸附机构、引风罩以及转轴；吸附机构呈圆盘状且其上设有若干吸附口，每个吸附口处设置有工业吸盘，吸附机构固定在转轴一端，转轴另一端转动连接在固定架上，导流翅片绕吸附机构周向均布且其内端均固定在吸附机构外圆上，输气管周向均布在固定框上，输气管内端朝向导流翅片，输气管外端则伸出固定框并与气泵连通；引风罩位于吸附机构上方且其连通有负压风机。
2.根据权利要求1所述的刚玉晶片清洁装置，其特征在于，输气管出气端设置有喷头。
3.根据权利要求1所述的刚玉晶片清洁装置，其特征在于，导流翅片呈波纹状。
4.根据权利要求1所述的刚玉晶片清洁装置，其特征在于，转轴为空心设置的。
5.根据权利要求1所述的刚玉晶片清洁装置，其特征在于，转轴与固定架之间设置有轴承。
6.根据权利要求1所述的刚玉晶片清洁装置，其特征在于，输气管外壁设置有螺纹段，固定块上对应设置有螺纹孔。
7.根据权利要求1所述的刚玉晶片清洁装置，其特征在于，所述吸附口侧壁向外呈扩孔状。
8.根据权利要求1所述的刚玉晶片清洁装置，其特征在于，引风罩呈喇叭状。
Priority Applications (1)
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| CN201720833202.3U CN207026011U (zh) | 2017-07-11 | 2017-07-11 | 刚玉晶片清洁装置 |
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| CN207026011U true CN207026011U (zh) | 2018-02-23 |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109622509A (zh) * | 2018-12-25 | 2019-04-16 | 广西桂芯半导体科技有限公司 | 半导体晶圆清洗设备 |
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2017
- 2017-07-11 CN CN201720833202.3U patent/CN207026011U/zh not_active Expired - Fee Related
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