CN207012624U - 铜蚀刻液预处理系统 - Google Patents

Abstract

一种铜蚀刻液预处理系统，包括依次连通且相邻设置的反应池、压滤机及滤芯过滤设备，反应池用于铜蚀刻液与药剂发生化学反应，压滤机用于将反应池中铜蚀刻液与药剂发生化学反应后的溶液过滤以得到滤液，滤芯过滤设备用于将压滤机中的滤液再次过滤以得到预处理后的铜蚀刻液，滤芯过滤设备包括壳体、收容于壳体内的滤芯及出液管道，壳体设有进液口和出液口，进液口用于压滤机中的滤液进入壳体，出液管道安装于出液口，出液管道的管壁靠近出液口的位置设有取样口。如此先后通过压滤机和滤芯过滤设备两次过滤，避免了采用压滤机一次过滤导致铜蚀刻液工作液不纯的问题，且取样口便于随时检查铜蚀刻液是否符合标准，进而提高了铜蚀刻液的纯度。

Description

铜蚀刻液预处理系统

技术领域

本实用新型涉及一种铜蚀刻液预处理系统。

背景技术

铜蚀刻液在用于生产碱铜等工艺中，需要控制铜蚀刻液原料的各项指标，因此通常需要对原料进行预处理。预处理的一般工艺为：先加药剂进行反应，反应后再通过压滤机过滤得到滤液，即得到处理好的铜蚀刻液工作液。然而在压滤机过滤时经常发生滤布漏浆或者由于滤布孔径太大，导致铜蚀刻液工作液不纯的问题，最终影响碱铜等产品的质量。

实用新型内容

基于此，有必要提供一种提高铜蚀刻液的纯度的铜蚀刻液预处理系统。

一种铜蚀刻液预处理系统，包括依次连通且相邻设置的反应池、压滤机及滤芯过滤设备，所述反应池用于铜蚀刻液与药剂发生化学反应，所述压滤机用于将所述反应池中所述铜蚀刻液与药剂发生化学反应后的溶液过滤以得到滤液，所述滤芯过滤设备用于将所述压滤机中的滤液再次过滤以得到预处理后的铜蚀刻液，所述滤芯过滤设备包括壳体、收容于所述壳体内的滤芯及出液管道，所述壳体设有进液口和出液口，所述进液口用于所述压滤机中的滤液进入所述壳体，所述出液管道安装于所述出液口，所述出液管道的管壁靠近所述出液口的位置设有取样口。

上述铜蚀刻液预处理系统，先通过反应池使铜蚀刻液与药剂发生化学反应，再通过压滤机将反应池中铜蚀刻液与药剂发生化学反应后的溶液过滤，去除大颗粒杂质，得到滤液；然后滤芯过滤设备将滤液再次精密过滤，以得到预处理后的铜蚀刻液。如此避免了采用压滤机一次过滤导致铜蚀刻液工作液不纯的问题，且该取样口可便于随时检查从滤芯过滤设备的出液口出来的铜蚀刻液是否符合标准，进而提高了铜蚀刻液的纯度，保障了后续产品的质量。

在其中一个实施例中，所述出液管道为三通管，所述三通管包括三个端口，其中一个端口与所述出液口连通，一个端口用于出液，一个端口为取样口。

在其中一个实施例中，还包括第一连接管道，所述第一连接管道的两端分别连通于所述反应池和所述压滤机。

在其中一个实施例中，还包括第二连接管道，所述第二连接管道的两端分别连通于所述压滤机和所述进液口。

在其中一个实施例中，所述滤芯过滤设备还包括压力检测装置，所述压力检测装置设于所述壳体内以用于检测所述壳体内待过滤液体的压力。

在其中一个实施例中，还包括隔板及安装柱，所述隔板设于所述壳体内且用于隔开所述壳体内的待过滤液体及过滤后液体，所述安装柱及所述滤芯连接于所述隔板的同一侧，所述压力检测装置安装于所述安装柱上。

在其中一个实施例中，所述隔板水平设置且将所述壳体隔开并形成上部空间及下部空间，所述安装柱及所述滤芯连接于所述隔板的上表面。

在其中一个实施例中，所述进液口与所述上部空间连通，所述出液口与所述下部空间连通。

在其中一个实施例中，所述壳体还设有放空口，所述放空口与所述下部空间连通且靠近所述下部空间的底部设置。

附图说明

图1为一实施方式的铜蚀刻液预处理系统的结构图；

图2为图1所示铜蚀刻液预处理系统的剖视图。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳实施例。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本实用新型的公开内容的理解更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

参照图1，一实施方式的铜蚀刻液预处理系统100，包括依次相邻设置的反应池110、压滤机120及滤芯过滤设备130。反应池110用于铜蚀刻液与药剂发生化学反应。压滤机120用于将反应池110中铜蚀刻液与药剂发生化学反应后的溶液过滤以得到滤液。滤芯过滤设备130用于将压滤机120中的滤液再次过滤以得到预处理后的铜蚀刻液。

参照图2，在其中一个实施例中，滤芯过滤设备130包括壳体131、收容于壳体131内的滤芯132及出液管道(图未示)。壳体131设有进液口1311和出液口1313。进液口1311用于压滤机120中的滤液进入壳体131。出液管道安装于出液口1313，出液管道的管壁靠近出液口1313的位置设有取样口(图未示)。

上述铜蚀刻液预处理系统100，先通过反应池110使铜蚀刻液与药剂发生化学反应，再通过压滤机120将反应池110中铜蚀刻液与药剂发生化学反应后的溶液过滤，去除大颗粒杂质，得到滤液；然后滤芯过滤设备130将滤液再次精密过滤，以得到预处理后的铜蚀刻液。如此避免了采用压滤机120一次过滤导致铜蚀刻液工作液不纯的问题，且该取样口可便于随时检查从滤芯过滤设备130的出液口1313出来的铜蚀刻液是否符合标准，进而提高了铜蚀刻液的纯度，保障了后续产品的质量。

可以理解，在其他实施例中，出液管道的另一端与铜蚀刻液的储存罐连通。

在其中一个实施例中，滤芯过滤设备130为精密过滤器，即保安过滤器。该滤芯过滤设备130的精度高、滤芯孔径均匀、过滤阻力小、通量大、截污能力强、使用寿命长，而且其滤芯材料的洁净度高，耐酸碱等化学溶剂，对铜蚀刻液无污染。

在其中一个实施例中，压滤机120为厢式压滤机、带式压滤机、隔膜式压滤机或板框压滤机。

在其中一个实施例中，出液管道为三通管。三通管包括三个端口，其中一个端口与出液口连通，一个端口用于出液，一个端口为取样口。具体地，与出液口连通的端口与用于出液的端口相对设置，取样口设于侧壁。

在其中一个实施例中，铜蚀刻液预处理系统100还包括橡胶塞(图未示)。橡胶塞安装于取样口。橡胶塞可用于取样针取样。该橡胶塞可方便取样，而且简单巧妙。

在其中一个实施例中，铜蚀刻液预处理系统100还包括第一连接管道140。第一连接管道140的两端分别连通于反应池110和压滤机120。可以理解，在其他实施例中，反应池110和压滤机120也可不连通，通过人工等其他方式转移。

继续参照图1，在其中一个实施例中，铜蚀刻液预处理系统100还包括第二连接管道150。第二连接管道150的两端分别连通于压滤机120和进液口1311。可以理解，在其他实施例中，压滤机120和进液口1311也可不连通，通过人工等其他方式转移。

继续参照图2，在其中一个实施例中，滤芯过滤设备130还包括压力检测装置133。压力检测装置133设于壳体131内以用于检测壳体131内待过滤液体的压力。通过压力检测装置133发现压力较大时，即说明滤芯吸附的杂质较多，需要更换或清洗滤芯了。具体地，压力检测装置133包括压力表。

在其中一个实施例中，铜蚀刻液预处理系统100还包括隔板134及安装柱135。隔板134设于壳体131内且用于隔开壳体131内的待过滤液体及过滤后液体。安装柱135及滤芯132连接于隔板134的同一侧，压力检测装置133安装于安装柱135上。

进一步地，隔板134水平设置且将壳体131隔开并形成位于上部空间及位于下部空间。安装柱135及滤芯132连接于隔板134的上表面，以使上部空间用于容纳待过滤液体，下部空间用于容纳过滤后液体。

更进一步地，进液口1311与上部空间连通。出液口1313与下部空间连通。

进一步地，壳体131还设有放空口1314。放空口1314与下部空间连通且靠近下部空间的底部设置，以用于将过滤后液体完全放空。

在其中一个实施例中，铜蚀刻液预处理系统100还包括导流柱136。该导流柱136连接于隔板134上。具体地，该导流柱136连接于隔板134的上表面。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (9)

1.一种铜蚀刻液预处理系统，其特征在于，包括依次连通且相邻设置的反应池、压滤机及滤芯过滤设备，所述反应池用于铜蚀刻液与药剂发生化学反应，所述压滤机用于将所述反应池中所述铜蚀刻液与药剂发生化学反应后的溶液过滤以得到滤液，所述滤芯过滤设备用于将所述压滤机中的滤液再次过滤以得到预处理后的铜蚀刻液，所述滤芯过滤设备包括壳体、收容于所述壳体内的滤芯及出液管道，所述壳体设有进液口和出液口，所述进液口用于所述压滤机中的滤液进入所述壳体，所述出液管道安装于所述出液口，所述出液管道的管壁靠近所述出液口的位置设有取样口。

2.如权利要求1所述的铜蚀刻液预处理系统，其特征在于，所述出液管道为三通管，所述三通管包括三个端口，其中一个端口与所述出液口连通，一个端口用于出液，一个端口为取样口。

3.如权利要求1所述的铜蚀刻液预处理系统，其特征在于，还包括第一连接管道，所述第一连接管道的两端分别连通于所述反应池和所述压滤机。

4.如权利要求1所述的铜蚀刻液预处理系统，其特征在于，还包括第二连接管道，所述第二连接管道的两端分别连通于所述压滤机和所述进液口。

5.如权利要求1～4任一项所述的铜蚀刻液预处理系统，其特征在于，所述滤芯过滤设备还包括压力检测装置，所述压力检测装置设于所述壳体内以用于检测所述壳体内待过滤液体的压力。

6.如权利要求5所述的铜蚀刻液预处理系统，其特征在于，还包括隔板及安装柱，所述隔板设于所述壳体内且用于隔开所述壳体内的待过滤液体及过滤后液体，所述安装柱及所述滤芯连接于所述隔板的同一侧，所述压力检测装置安装于所述安装柱上。

7.如权利要求6所述的铜蚀刻液预处理系统，其特征在于，所述隔板水平设置且将所述壳体隔开并形成上部空间及下部空间，所述安装柱及所述滤芯连接于所述隔板的上表面。

8.如权利要求7所述的铜蚀刻液预处理系统，其特征在于，所述进液口与所述上部空间连通，所述出液口与所述下部空间连通。

9.如权利要求7所述的铜蚀刻液预处理系统，其特征在于，所述壳体还设有放空口，所述放空口与所述下部空间连通且靠近所述下部空间的底部设置。