CN206990837U - 光学调控电磁屏蔽玻璃 - Google Patents

Abstract

本实用新型是关于一种光学调控电磁屏蔽玻璃，其包括:结构支撑玻璃；无规则网格图形的复合金属膜层，附着在所述的结构支撑玻璃表面，复合金属膜层包括过渡膜层和屏蔽金属膜层，过渡膜层附着在所述结构支撑玻璃表面；其中，所述的过渡膜层的材料为氧化铝、铝和铬中的至少一种；所述的屏蔽金属膜层的材料为金、银、铜、镍或铁。本实用新型的光学调控电磁屏蔽玻璃无莫尔干涉条纹现象，结构简单，耐候性强，且同时具有高光学透过率和高屏蔽效能，其透光率大于80％，电磁屏蔽效能为大于等于20dB。本实用新型的制备方法包括过涂胶、激光直写刻蚀、真空镀膜、去胶，制备方法简单，成品率高。

Description

光学调控电磁屏蔽玻璃

技术领域

本实用新型涉及一种电磁屏蔽玻璃，特别是涉及一种光学调控电磁屏蔽玻璃。

背景技术

电磁屏蔽玻璃是一类具有衰减电磁辐射功率功能的透光观察视窗器件，应用于特种显示领域时，能够起到防止电磁信息泄露、抵抗外来电磁干扰的作用。传统电磁屏蔽玻璃通常是在高温高压条件下利用有机胶片材料将“防眩/减反玻璃”、“电磁屏蔽材料”和“结构支撑玻璃”粘接在一起制成的，其工艺过程较为复杂，成品率相对较低。常用的电磁屏蔽材料主要包括ITO导电膜、刻蚀丝网及金属网栅。其中，ITO导电膜具有较高的透光率，但其电导率相对较低，屏蔽效能差，仅能满足屏效要求较低的应用要求；刻蚀丝网和金属网栅具有相对较高的屏蔽效能，但其透光率会随屏蔽效能的增强而迅速衰减，且存在由于光学干涉而产生的莫尔条纹现象，极大的限制了其应用途径。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于，提供一种新型结构的光学调控电磁屏蔽玻璃，所要解决的技术问题是使其同时具有高光学透过率和高屏蔽效能，从而更加适于实用。

本实用新型的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本实用新型提出的一种结构的光学调控电磁屏蔽玻璃，其包括:

结构支撑玻璃；

无规则网格图形的复合金属膜层，附着在所述的结构支撑玻璃表面，复合金属膜层包括过渡膜层和屏蔽金属膜层，过渡膜层附着在所述结构支撑玻璃表面；其中，

所述的过渡膜层的材料为氧化铝、铝和铬中的至少一种；所述的屏蔽金属膜层的材料为金、银、铜、镍或铁。

本实用新型的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。

优选的，前述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其中所述的复合金属膜层为：

铬膜层和铜膜层；

氧化铝膜层、铝膜层、和银膜层；

或铬膜层和金膜层。

优选的，前述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其中所述的过渡膜层的厚度为50-80nm；所述的屏蔽金属膜层厚度为300-700nm。

优选的，前述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其中所述的所述的结构支撑玻璃的厚度为0.7-4mm，光学透过率为89％-92％。

优选的，前述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其包括：

结构支撑玻璃；

复合减反射膜，附着在所述结构支撑玻璃表面；

无规则网格图形的复合金属膜层，附着在所述的结构支撑玻璃另一表面，复合金属膜层包括过渡膜层和屏蔽金属膜层，过渡膜层附着在所述结构支撑玻璃表面；其中，

所述的过渡膜层的材料为氧化铝、铝和铬中的至少一种；所述的屏蔽金属膜层的材料为金、银、铜、镍或铁。

优选的，前述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其中所述的复合减反射膜的单面反射率为0.5％-1.0％。

优选的，前述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其中所述的复合减反射膜包括：

二氧化硅膜，附着在结构支撑玻璃的另一表面，厚度为60-100nm；

三氧化铝膜，附着在所述二氧化硅膜上，厚度为50-200nm；

钛酸镧膜、钛酸锶膜、三氧化二钽膜或二氧化钛膜，附着在所述三氧化铝膜上，厚度为80-260nm；

氟化镁膜，附着在所述氟化镁膜上，厚度为70-110nm。

优选的，前述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其包括：

结构支撑玻璃，一表面为经防眩处理的亚光面；

无规则网格图形的复合金属膜层，附着在所述的结构支撑玻璃另一表面，复合金属膜层包括过渡膜层和屏蔽金属膜层，过渡膜层附着在所述结构支撑玻璃表面；其中，

所述的过渡膜层的材料为氧化铝、铝和铬中的至少一种；所述的屏蔽金属膜层的材料为金、银、铜、镍或铁。

优选的，前述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其中所述的亚光面的雾都为2％-20％，光泽度为110-35。

借由上述技术方案，本实用新型光学调控电磁屏蔽玻璃至少具有下列优点：

本实用新型中电磁屏蔽材料直接附着在结构支撑玻璃上，使用的电磁屏蔽材料为一层具有无规则二维网格形态的高电导率复合金属膜，该形态的电磁屏蔽材料通过随机无序网格状结构对光学干涉效应的调控来消除莫尔条纹现象；本实用新型的光学调控电磁屏蔽玻璃无莫尔干涉条纹现象，结构简单，耐候性强，且同时具有高光学透过率和高屏蔽效能，其透光率大于80％，电磁屏蔽效能大于等于20dB。本实用新型的制备方法包括过涂胶、激光直写刻蚀、真空镀膜、去胶，制备方法简单，成品率高。

上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。

附图说明

图1是光学调控电磁屏蔽玻璃的结构示意图。

图2是实施例1光学调控电磁屏蔽玻璃的结构示意图。

图3是实施例2光学调控电磁屏蔽玻璃的结构示意图。

图4是实施例3光学调控电磁屏蔽玻璃的结构示意图。

具体实施方式

为更进一步阐述本实用新型为达成预定实用新型目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例，对依据本实用新型提出的光学调控电磁屏蔽玻璃其具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。在下述说明中，不同的“一实施例”或“实施例”指的不一定是同一实施例。此外，一或多个实施例中的特定特征、结构、或特点可由任何合适形式组合。

如图1所示，本实用新型的一个实施例提出的一种光学调控电磁屏蔽玻璃，其包括:

结构支撑玻璃1；

无规则网格图形的复合金属膜层，附着在所述的结构支撑玻璃表面，复合金属膜层包括过渡膜层2和屏蔽金属膜层3，过渡膜层附着在所述结构支撑玻璃表面；其中，

所述的过渡膜层的材料为氧化铝、铝和铬中的至少一种；所述的屏蔽金属膜层的材料为金、银、铜、镍或铁。

金、银、铜、镍和铁作为屏蔽材料具有很好的电磁屏蔽效果，但其与玻璃的粘结性较差，因此在玻璃上镀制这些屏蔽材料时需要先镀制与玻璃粘结性良好的过渡膜，氧化铝、铝和铬与玻璃具有良好的粘结性。

较佳的，本实用新型的实施例所述的复合金属膜层为：

铬膜层和铜膜层；铬作为过渡层与玻璃和铜的粘结性均很强；

氧化铝膜层、铝膜层、和银膜层；氧化铝膜层和铝膜层作为过渡层与玻璃和银的粘结性均很强；

或铬膜层和金膜层；铬作为过渡层与玻璃和金的粘结性均很强。

较佳的，本实用新型的实施例所述的过渡膜层的厚度为50-80nm；所述的屏蔽金属膜层厚度为300-700nm。

较佳的，本实用新型的实施例所述的结构支撑玻璃的厚度为0.7-4mm，光学透过率为89％-92％。

本实用新型的另一个实施例提出一种光学调控电磁屏蔽玻璃，其包括：

结构支撑玻璃；

复合减反射膜，附着在所述结构支撑玻璃表面；

无规则网格图形的复合金属膜层，附着在所述的结构支撑玻璃另一表面，复合金属膜层包括过渡膜层和屏蔽金属膜层，过渡膜层附着在所述结构支撑玻璃表面；其中，

所述的过渡膜层的材料为氧化铝、铝和铬中的至少一种；所述的屏蔽金属膜层的材料为金、银、铜、镍或铁。

较佳的，本实用新型的实施例所述的复合减反射膜的单面反射率为0.5％-1.0％。

较佳的，本实用新型的实施例所述的复合减反射膜包括：

二氧化硅膜，附着在结构支撑玻璃的另一表面，厚度为60-100nm；

三氧化铝膜，附着在所述二氧化硅膜上，厚度为50-200nm；

钛酸镧膜、钛酸锶膜、三氧化二钽膜或二氧化钛膜，附着在所述三氧化铝膜上，厚度为80-260nm；

氟化镁膜，附着在所述氟化镁膜上，厚度为70-110nm。

本实用新型的另一个实施例提出一种光学调控电磁屏蔽玻璃，其包括：

结构支撑玻璃，一表面为经防眩处理的亚光面；

无规则网格图形的复合金属膜层，附着在所述的结构支撑玻璃另一表面，复合金属膜层包括过渡膜层和屏蔽金属膜层，过渡膜层附着在所述结构支撑玻璃表面；其中，

所述的过渡膜层的材料为氧化铝、铝和铬中的至少一种；所述的屏蔽金属膜层的材料为金、银、铜、镍或铁。

较佳的，本实用新型的实施例所述的亚光面的雾都为2％-20％，光泽度为110-35。

实施例1

如图2所示，本实施例的光学调控电磁屏蔽玻璃结构为：

结构支撑玻璃4，厚度为3mm，光学透过率为91％；

无规则网格图形的铬膜层5，附着在结构支撑玻璃表面，厚度为80nm；

无规则网格图形的铜膜层6，附着在铬膜层上，厚度为700nm。

该光学调控电磁屏蔽玻璃的光学透过率为82％，电磁屏蔽效能为23dB。

实施例2

如图3所示，本实施例的光学调控电磁屏蔽玻璃结构为：

结构支撑玻璃7，厚度为1.5mm，光学透过率为89％；

二氧化硅膜层8，附着在结构支撑玻璃表面，厚度为95nm；

三氧化二铝膜层9，附着在二氧化硅膜层上，厚度为75nm；

钛酸镧膜层10，附着在三氧化二铝膜层上，厚度为105nm；

氟化镁膜层11，附着在钛酸镧膜层，厚度为95nm；

无规则网格图形的三氧化二铝膜层12，附着在结构支撑玻璃的另一表面表面，厚度为12nm；

无规则网格图形的铝膜层13，附着在三氧化二铝膜层，厚度为80nm；

无规则网格图形的银膜层14，附着在铝膜层，厚度为700nm。

该光学调控电磁屏蔽玻璃的光学透过率为87％，电磁屏蔽效能为25dB。

实施例3

如图4所示，本实施例的光学调控电磁屏蔽玻璃结构为：

结构支撑玻璃15，一表面16为经防眩处理的亚光面，亚光面的雾都为2％，光泽度110；该结构支撑玻璃的厚度为1.5mm，光学透过率为89％；

无规则网格图形的铬膜层17，附着在结构支撑玻璃的另一表面表面，厚度为70nm；

无规则网格图形的金膜层18，附着在铬膜层，厚度为600nm。

该光学调控电磁屏蔽玻璃的光学透过率为81％，电磁屏蔽效能为29dB。

以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。

Claims (9)

1.一种光学调控电磁屏蔽玻璃，其特征在于：其包括:

结构支撑玻璃；

无规则网格图形的复合金属膜层，附着在所述的结构支撑玻璃表面，复合金属膜层包括过渡膜层和屏蔽金属膜层，过渡膜层附着在所述结构支撑玻璃表面；其中，

所述的过渡膜层的材料为氧化铝、铝和铬中的至少一种；所述的屏蔽金属膜层的材料为金、银、铜、镍或铁。

2.根据权利要求1所述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其特征在于，所述的复合金属膜层为：

铬膜层和铜膜层；

氧化铝膜层、铝膜层、和银膜层；

或铬膜层和金膜层。

3.根据权利要求1所述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其特征在于，所述的过渡膜层的厚度为50-80nm；所述的屏蔽金属膜层厚度为300-700nm。

4.根据权利要求1所述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其特征在于，所述的结构支撑玻璃的厚度为0.7-4mm，光学透过率为89％-92％。

5.根据权利要求1所述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其特征在于，

结构支撑玻璃；

复合减反射膜，附着在所述结构支撑玻璃表面；

无规则网格图形的复合金属膜层，附着在所述的结构支撑玻璃另一表面，复合金属膜层包括过渡膜层和屏蔽金属膜层，过渡膜层附着在所述结构支撑玻璃表面；其中，

所述的过渡膜层的材料为氧化铝、铝和铬中的至少一种；所述的屏蔽金属膜层的材料为金、银、铜、镍或铁。

6.根据权利要求5所述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其特征在于，所述的复合减反射膜的单面反射率为0.5％-1.0％。

7.根据权利要求5所述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其特征在于，所述的复合减反射膜包括：

二氧化硅膜，附着在结构支撑玻璃的另一表面，厚度为60-100nm；

三氧化铝膜，附着在所述二氧化硅膜上，厚度为50-200nm；

钛酸镧膜、钛酸锶膜、三氧化二钽膜或二氧化钛膜，附着在所述三氧化铝膜上，厚度为80-260nm；

氟化镁膜，附着在所述氟化镁膜上，厚度为70-110nm。

8.根据权利要求1所述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其特征在于，其包括：

结构支撑玻璃，一表面为经防眩处理的亚光面；

无规则网格图形的复合金属膜层，附着在所述的结构支撑玻璃另一表面，复合金属膜层包括过渡膜层和屏蔽金属膜层，过渡膜层附着在所述结构支撑玻璃表面；其中，

所述的过渡膜层的材料为氧化铝、铝和铬中的至少一种；所述的屏蔽金属膜层的材料为金、银、铜、镍或铁。

9.根据权利要求8所述的光学调控电磁屏蔽玻璃，其特征在于，所述的亚光面的雾都为2％-20％，光泽度为110-35。