CN206990235U - 分析仪及其采样机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种分析仪及其采样机构。上述分析仪的采样机构包括主体结构、防转结构和定位结构。主体结构包括导向杆、支架、移送组件和采样针；防转结构包括第一防转件和第二防转件，第一防转件上开设有卡槽，卡槽的内壁包括相对的第一内表面和第二内表面。采样针在移送组件的带动下沿导向杆移动时，第二防转件抵接第一内表面。在采样针需要高精度对准的预设位置，定位结构对位于预设位置的移送组件施加校正力，使移送组件偏摆至第二防转件抵接第二内表面，以确定采样针的位置，提高了采样针的对准精度高。长期使用后，第一内表面可能会被磨损，而第二内表面在预设位置与第二防转件抵接，大幅度降低了磨损对精度的影响。

Description

分析仪及其采样机构

技术领域

本实用新型涉及医疗器械的技术领域，特别是涉及一种分析仪及其采样机构。

背景技术

分析仪的采样针穿刺样本容器时，如果采样针偏出样本容器的密封盖上的穿刺区，容易造成采样针损坏，因此采样针需要严格的对准穿刺区，对采样针的对准精度要求比较高。传统的分析仪经过长期使用，由于部件的磨损，会导致采样针的对准精度下降。

实用新型内容

基于此，有必要针对上述技术问题，提供一种采样针对准精度高，且长期使用也不会导致精度下降的分析仪及其采样机构。

一种分析仪的采样机构，包括：

主体结构，包括导向杆、支架、移送组件和采样针；所述导向杆设置在所述支架上；所述移送组件套设在所述导向杆上，所述移送组件能够沿所述导向杆的轴向移动，且能够以所述导向杆为轴偏摆；所述采样针设置在所述移送组件上；

防转结构，包括第一防转件和第二防转件；所述第一防转件上开设有卡槽，所述卡槽的延伸方向与所述导向柱的轴向一致，所述卡槽的内壁包括相对的第一内表面和第二内表面；至少部分所述第二防转件位于所述卡槽中，且位于所述第一内表面和所述第二内表面之间，所述第二防转件能够与所述第一内表面和所述第二内表面之间具有间隙；所述第一防转件和所述第二防转件其中之一固定在所述支架上，另一固定在所述移送组件上；在第一状态下，所述第二防转件抵接所述第一内表面；以及

定位结构，在第二状态下，所述移送组件位于所述导向杆的轴向上的预设位置，所述定位结构对位于所述预设位置的所述移送组件施加校正力，使所述移送组件偏摆至所述第二防转件抵接所述第二内表面。

在其中一个实施例中，在所述第一状态下，所述移送组件在重力或偏转外力的作用下，使所述第二防转件抵接所述第一内表面。

在其中一个实施例中，所述第一防转件固定在所述移送组件上，所述第二防转件固定在所述支架上；

所述定位结构包括第一磁力件和第二磁力件，所述第一磁力件固定在所述第二防转件或所述支架上，所述第二磁力件固定在所述第一防转件或所述移送组件上；

所述第一磁力件和所述第二磁力件其中之一为磁体，另一为磁介质；或者所述第一磁力件和所述第二磁力件均为磁体，且在所述第二状态下，所述第一磁力件和所述第二磁力件的磁极相吸或相斥。

在其中一个实施例中，所述主体结构还包括折边部和传感器；

所述折边部位于所述支架的边缘处，所述折边部的延伸方向与所述导向杆的轴向一致；所述折边部上开设有感应缺口，所述感应缺口与所述预设位置相对应；

所述传感器设置在所述移送组件上，用于与所述感应缺口相配合。

在其中一个实施例中，所述移送组件包括第一移动件、纵向导向部件和第二移动件，所述第一移动件套设在所述导向杆上，所述导向杆沿横向延伸，所述纵向导向部件沿纵向延伸，所述纵向导向部件固定连接在所述第一移动件上，所述第二移动件滑动连接在所述纵向导向部件上；

所述采样针固定在所述第二移动件上；所述第一防转件和所述第二防转件其中之一固定在所述第一移动件上。

在其中一个实施例中，所述移送组件还包括螺杆，所述第二移动件包括安装部和螺母，所述安装部与所述纵向导向部件滑动连接，所述安装部上开设有安装孔和定位槽，所述螺杆安装在所述安装孔内，所述安装孔贯穿所述定位槽的两侧，所述螺母套设在所述螺杆上并与所述螺杆螺纹连接，且所述螺母位于所述定位槽内。

在其中一个实施例中，所述导向杆位于所述防转结构的下方。

在其中一个实施例中，所述移送组件的重心位于所述卡槽的靠近所述第二内表面的一侧。

在其中一个实施例中，所述移送组件上开设有连接孔，所述主体结构还包括衬套，所述衬套套设在所述导向杆上，且位于所述连接孔中；

在其中一个实施例中，所述主体结构还包括第一磁铁和第二磁铁，所述第一磁铁设置在所述第二防转件或所述支架上，所述第二磁铁设置在所述第一防转件或所述移送组件上，所述第一磁铁和所述第二磁铁的磁极相吸，使得在所述第二状态下，所述第二防转件抵接所述第二内表面；

在其中一个实施例中，所述主体结构还包括磁铁和铁片，所述磁铁设置在所述第二防转件或所述支架上，所述铁片设置在所述第一防转件或所述移送组件上，所述磁铁和所述铁片的磁极相吸，使得在所述第二状态下，所述第二防转件抵接所述第二内表面；

在其中一个实施例中，所述主体结构还包括铁片和磁铁，所述铁片设置在所述第二防转件或所述支架上，所述磁铁设置在所述第一防转件或所述移送组件上，所述铁片和所述磁铁的磁极相吸，使得在所述第二状态下，所述第二防转件抵接所述第二内表面；

在其中一个实施例中，所述第二防转件呈片状，所述第二防转件的两侧分别用于与所述第一内表面和所述第二内表面抵接；

在其中一个实施例中，所述第二防转件为无磁性的不锈钢板；

在其中一个实施例中，所述预设位置包括取样位和分样位中的至少一种。

一种分析仪，包括：

设备主体，以及

所述的分析仪的采样机构，所述采样机构设置在所述设备主体上。

上述分析仪及其采样机构，采样针在移送组件的带动下沿导向杆移动时，采样机构可以处于第一状态，第二防转件抵接第一内表面。在采样针需要高精度对准的预设位置，采样机构可以处于第二状态，定位结构对位于预设位置的移送组件施加校正力，使移送组件偏摆至第二防转件抵接第二内表面，以确定采样针的位置，提高了采样针的对准精度高。长期使用后，第一内表面可能会被磨损，而第二内表面在预设位置与第二防转件抵接，在其他位置不会与第二防转件抵接，因此大幅度降低了磨损对精度的影响，长期使用也不会导致精度下降。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他实施例的附图。

图1为一实施例中分析仪的立体图；

图2为图1所示分析仪的另一立体图；

图3为图1所示分析仪的采样机构的立体图；

图4为图3所示分析仪的采样机构的第一状态的局部剖视图；

图5为图3所示分析仪的采样机构的第二状态的局部剖视图；

图6为图1所示分析仪的采样机构的移送组件的立体图；

图7为图1所示分析仪的采样机构的支架的立体图。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对分析仪及其采样机构进行更全面的描述。附图中给出了分析仪及其采样机构的首选实施例。但是，分析仪及其采样机构可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对分析仪及其采样机构的公开内容更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在分析仪及其采样机构的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

如图1、图2所示，一实施方式中的分析仪10，用于分析样本容器20中的样本，样本可以是血液。分析仪10可以包括采样机构11和设备主体12，采样机构设置在设备主体12上。在一实施例中，设备主体12一般可以包括将样本制备成检测用试样的制样器和对检测用试样中的成分进行检测的检测器等。

参见图3至图5，采样机构包括主体结构100、防转结构300和定位结构500。其中，主体结构100包括导向杆110、支架130、移送组件150和采样针170。导向杆110设置在支架130上。移送组件150套设在导向杆110上，移送组件150能够沿导向杆110的轴向移动，且能够以导向杆110为轴偏摆。采样针170设置在移送组件150上。采样针170能够刺破样本容器的密封盖21上的穿刺区。

参见图4至图6，防转结构300包括第一防转件310和第二防转件320。第一防转件310上开设有卡槽311，卡槽311的延伸方向与导向柱的轴向一致，卡槽311的内壁包括相对的第一内表面和第二内表面。至少部分第二防转件320位于卡槽311中，且位于第一内表面和第二内表面之间，第二防转件320能够与第一内表面和第二内表面之间具有间隙。第一防转件310固定在移送组件150上，第二防转件320固定在支架130上，固定方式可以螺钉固定，也可以一体连接，如第二防转件320由支架130的边缘弯折而成。在另一实施例中，也可以将第二防转件320固定在移送组件150上，第一防转件310固定在支架130上。

在第一状态下，第二防转件320抵接第一内表面。在第二状态下，移送组件150位于导向杆110的轴向上的预设位置，定位结构500对位于预设位置的移送组件150施加校正力，使移送组件150偏摆至第二防转件320抵接第二内表面。在一实施例中，预设位置可以是取样位，也可以是分样位，还可以是其他功能位，取样位和分样位的数量均可以为一个或多个。

采样针170在移送组件150的带动下沿导向杆110移动时，采样机构可以处于第一状态，第二防转件320抵接第一内表面。在采样针170需要高精度对准的预设位置，采样机构可以处于第二状态，定位结构500对位于预设位置的移送组件150施加校正力，使移送组件150偏摆至第二防转件320抵接第二内表面，以确定采样针170的位置，提高了采样针170的对准精度高。长期使用后，第一内表面可能会被磨损，而第二内表面在预设位置与第二防转件320抵接，在其他位置不会与第二防转件抵接。具体的，磨损是由相对运动导致的，第一内表面容易被磨损是因为移送组件150在沿导向杆110运动时，第二防转件320抵接第一防转件310的第一内表面，而仅在预设位置，第二防转件320才会抵接第一防转件310的第二内表面。因此大幅度降低了磨损对精度的影响，长期使用也不会导致精度下降。通过在预设位置设置定位结构500对采样针170位置进行校正，相比于传统的通过设置双导杆或者双直线滑轨提高对准精度的方案，成本更加低廉。

在一实施例中，在第一状态下，移送组件150可以在重力的作用下，使第二防转件320抵接第一内表面。在图4所示的实施例中，移送组件150的重心位于卡槽311的靠近第二内表面的一侧，在重力G的作用下，移动组件沿R1方向旋转，使得第一状态下的第二防转件320抵接第一内表面。在其他实施例中，在第一状态下，移送组件150也可以在偏转外力的作用下，使第二防转件320抵接第一内表面，该偏转外力可以是磁力或者弹性力等。

再参见图5，在其中一个实施例中，定位结构500包括第一磁力件510和第二磁力件520，第一磁力件510固定在移送组件150上，第二磁力件520固定在第二防转件320上。第一磁力件510和第二磁力件520其中之一为磁体，另一为磁介质。或者第一磁力件510和第二磁力件520均为磁体，且在第二状态下，第一磁力件510和第二磁力件520的磁极相吸或相斥，通过磁力相吸或相斥对移送组件150施加校正力。校正力F在导向杆110的中心点产生的旋转力矩大于移送组件150的重力G在导向杆110的中心点产生的力矩，因此移送组件150在校正力的作用下，会绕导向杆110沿R2方向旋转，使第二防转件320抵接第二内表面。

在一实施例中，第二防转件320可以呈片状，第二防转件320的两侧分别用于与第一内表面和第二内表面抵接。片状的第二防转件320成本较低，且方便设置第二磁力件520。在一实施例中，第二防转件320可以是无磁性的不锈钢板，避免未设置第二磁力件520的其他位置产生磁性，造成对第一防转件310第二内表面的磨损，最终影响采样针170在预设位置的定位精度。卡槽311的槽宽略大于第二防转件320的板厚，以防止第二防转件320的厚度不均匀或者存在轻微变形的情况导致，而导致沿导向杆110方向的运动被卡死。在其他实施例在，第二防转件320也可以使用能够被磁化的铁板，铁板与具有磁性的第一磁力件510保持一定间距，使得磁力矩小于重力矩，使得移送组件150在沿导向杆110运动时，第二防转件320仍抵接第一防转件310的第一内表面。

在一实施例中，第一磁力件510和第二磁力件520可以是材料为有磁性的铁或者铁合金的磁铁吸片。进一步的，在图5的实施例中，第一磁力件510可以是第一磁铁，第二磁力件520可以是第二磁铁，第一磁铁和第二磁铁一般可以是永磁铁。第一磁铁和第二磁铁的磁极相吸，使得在第二状态下，第二防转件320抵接第二内表面。在一实施例中，第一磁铁和第二磁铁可以不接触，属于非接触的提供作用力的方式，能够更好的防止磨损。当然，在其他实施例中，第一磁力件510可以固定在第一防转件310上，第二磁力件520可以固定在支架130上。在另一实施例中，第一磁力件510可以是磁铁，第二磁力件520可以是铁片。在又一实施例中，第一磁力件510可以是铁片，第二磁力件520可以是磁铁。当然，第一磁力件和第二磁力件不能同时是铁片。

第一内表面和第二内表面一般为平面，在其他实施例中，第一内表面和第二内表面也可以是曲面，甚至可以有凸起，能够抵接第二防转件320即可。第二防转件320可以全部位于卡槽311中，也可以部分位于卡槽311中。

在一实施例中，导向杆110位于防转结构300的下方，移送组件150的重心位于卡槽311的靠近第二内表面的一侧，第一磁力件510和第二磁力件520的磁极相吸，第一磁力件510和第二磁力件520其中之一为永磁铁且体积较小就能够提供足够的校正力。因此，在第二状态下，定位结构500能够更好的消除第二防转件320和第二内表面之间的间隙，使得第二防转件320稳定的抵接第二内表面。在另一实施例中，也可以将导向杆110设置于防转结构300的上方，此时第一磁力件510和第二磁力件520均需要为能够产生磁力的部件，例如均为永磁铁，二者磁极相斥。

同时参见图6、图7，在一实施例中，主体结构100还可以包括折边部190和传感器210。折边部190位于支架130的边缘处，折边部190的延伸方向与导向杆110的轴向一致。在一实施例中，折边部190可以由支架130弯折而成。折边部190上开设有若干感应缺口191，感应缺口191与预设位置相对应。传感器210设置在移送组件150上，用于与感应缺口191相配合，以确定采样针170是否到达特定的位置，例如取样位、分样位等功能位。当然，在其他实施例中，感应缺口191也可以是一个。

再参见图3和图6，在一实施例中，移送组件150上开设有连接孔151，主体结构100还包括衬套230，衬套230套设在导向杆110上，且位于连接孔151中。在移送组件150和导向杆110之间设置衬套230，可以减弱相对运动中的磨损。在一实施例中，衬套230可以由耐磨损材料制成。在一实施例中，衬套230可以设置两个。在一实施例中，导向杆110的横截面呈圆形，以方便相对转动。在其他实施例中，导向杆110的横截面也可以是弧大于半圆的弓形，能够实现相对转动即可。

在其中一个实施例中，移送组件150包括第一移动件152、纵向导向部件153和第二移动件154，第一移动件152套设在导向杆110上，连接孔151可以开设在第一移动件152上。导向杆110沿横向延伸，图3中的Y1方向和Y2方向。纵向导向部件153沿纵向延伸，图3中的Z1方向和Z2方向。纵向导向部件153固定连接在第一移动件152上，第二移动件154滑动连接在纵向导向部件153上。采样针170固定在第二移动件154上。第一防转件310和第二防转件320其中之一固定在第一移动件152上。在一实施例中，纵向导向部件153既可以是导轨，也可以直线滑轨。

在一实施例中，移送组件150还包括螺杆155，第二移动件154包括安装部154a和螺母154b，安装部154a与纵向导向部件153滑动连接，安装部154a上开设有安装孔154c和定位槽154d，螺杆155安装在安装孔154c内，安装孔154c贯穿定位槽154d的两侧，螺母154b套设在螺杆155上并与螺杆155螺纹连接，且螺母154b位于定位槽154d内。在一实施例中，移送组件150还可以包括第一驱动器156、同步轮157和同步齿形带158，第一驱动器156可以是步进电机，同步轮157为两个，第一驱动器156驱动其中一个同步轮157转动，同步齿形带158环绕在两个同步轮157上，同步轮157转动带动同步齿形带158移动。同步齿形带158与第一移动件152连接，驱动第一移动件152在导向杆110上滑动。同步齿形带158与第一移动件152可以直接连接，也可以通过连接部件间接连接。在一实施例中，移送组件150还可以包括用于驱动螺杆155旋转的第二驱动器159，第二驱动器159也可以是步进电机。

在一实施例中，移送组件150还可以包括第一传感器161和第一感应片162，第一传感器161固定在导向杆110的一端，第一感应片162固定在第一移动件152上，第一传感器161和第一感应片162相配合以感应第一移动件152是否在初始位置。在一实施例中，移送组件150还可以包括第二传感器163和第二感应片，第二传感器163固定在第一移动件152上，第二传感片固定在第二移动件154的安装部154a上，第二传感器163和第二感应片相配合以感应第二移动件154是否在初始位置。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种分析仪的采样机构，其特征在于，包括：

主体结构，包括导向杆、支架、移送组件和采样针；所述导向杆设置在所述支架上；所述移送组件套设在所述导向杆上，所述移送组件能够沿所述导向杆的轴向移动，且能够以所述导向杆为轴偏摆；所述采样针设置在所述移送组件上；

防转结构，包括第一防转件和第二防转件；所述第一防转件上开设有卡槽，所述卡槽的延伸方向与所述导向柱的轴向一致，所述卡槽的内壁包括相对的第一内表面和第二内表面；至少部分所述第二防转件位于所述卡槽中，且位于所述第一内表面和所述第二内表面之间，所述第二防转件能够与所述第一内表面和所述第二内表面之间具有间隙；所述第一防转件和所述第二防转件其中之一固定在所述支架上，另一固定在所述移送组件上；在第一状态下，所述第二防转件抵接所述第一内表面；以及

定位结构，在第二状态下，所述移送组件位于所述导向杆的轴向上的预设位置，所述定位结构对位于所述预设位置的所述移送组件施加校正力，使所述移送组件偏摆至所述第二防转件抵接所述第二内表面。

2.根据权利要求1所述的分析仪的采样机构，其特征在于，在所述第一状态下，所述移送组件在重力或偏转外力的作用下，使所述第二防转件抵接所述第一内表面。

3.根据权利要求1所述的分析仪的采样机构，其特征在于，所述第一防转件固定在所述移送组件上，所述第二防转件固定在所述支架上；

所述定位结构包括第一磁力件和第二磁力件，所述第一磁力件固定在所述第二防转件或所述支架上，所述第二磁力件固定在所述第一防转件或所述移送组件上；

所述第一磁力件和所述第二磁力件其中之一为磁体，另一为磁介质；或者所述第一磁力件和所述第二磁力件均为磁体，且在所述第二状态下，所述第一磁力件和所述第二磁力件的磁极相吸或相斥。

4.根据权利要求1所述的分析仪的采样机构，其特征在于，所述主体结构还包括折边部和传感器；

所述折边部位于所述支架的边缘处，所述折边部的延伸方向与所述导向杆的轴向一致；所述折边部上开设有感应缺口，所述感应缺口与所述预设位置相对应；

所述传感器设置在所述移送组件上，用于与所述感应缺口相配合。

5.根据权利要求1所述的分析仪的采样机构，其特征在于，所述移送组件包括第一移动件、纵向导向部件和第二移动件，所述第一移动件套设在所述导向杆上，所述导向杆沿横向延伸，所述纵向导向部件沿纵向延伸，所述纵向导向部件固定连接在所述第一移动件上，所述第二移动件滑动连接在所述纵向导向部件上；

所述采样针固定在所述第二移动件上；所述第一防转件和所述第二防转件其中之一固定在所述第一移动件上。

6.根据权利要求5所述的分析仪的采样机构，其特征在于，所述移送组件还包括螺杆，所述第二移动件包括安装部和螺母，所述安装部与所述纵向导向部件滑动连接，所述安装部上开设有安装孔和定位槽，所述螺杆安装在所述安装孔内，所述安装孔贯穿所述定位槽的两侧，所述螺母套设在所述螺杆上并与所述螺杆螺纹连接，且所述螺母位于所述定位槽内。

7.根据权利要求1所述的分析仪的采样机构，其特征在于，所述导向杆位于所述防转结构的下方。

8.根据权利要求1所述的分析仪的采样机构，其特征在于，所述移送组件的重心位于所述卡槽的靠近所述第二内表面的一侧。

9.根据权利要求1所述的分析仪的采样机构，其特征在于，包含以下情况中至少一种：

所述移送组件上开设有连接孔，所述主体结构还包括衬套，所述衬套套设在所述导向杆上，且位于所述连接孔中；

所述主体结构还包括第一磁铁和第二磁铁，所述第一磁铁设置在所述第二防转件或所述支架上，所述第二磁铁设置在所述第一防转件或所述移送组件上，所述第一磁铁和所述第二磁铁的磁极相吸，使得在所述第二状态下，所述第二防转件抵接所述第二内表面；

所述主体结构还包括磁铁和铁片，所述磁铁设置在所述第二防转件或所述支架上，所述铁片设置在所述第一防转件或所述移送组件上，所述磁铁和所述铁片的磁极相吸，使得在所述第二状态下，所述第二防转件抵接所述第二内表面；

所述主体结构还包括铁片和磁铁，所述铁片设置在所述第二防转件或所述支架上，所述磁铁设置在所述第一防转件或所述移送组件上，所述铁片和所述磁铁的磁极相吸，使得在所述第二状态下，所述第二防转件抵接所述第二内表面；

所述第二防转件呈片状，所述第二防转件的两侧分别用于与所述第一内表面和所述第二内表面抵接；

所述第二防转件为无磁性的不锈钢板；以及

所述预设位置包括取样位和分样位中的至少一种。

10.一种分析仪，其特征在于，包括：

设备主体，以及

如权利要求1至9中任一项所述的分析仪的采样机构，所述采样机构设置在所述设备主体上。