CN206814365U - 一种立柱调节机构 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种立柱调节机构,包括上立柱以及下立柱,所述上立柱上设有凸柱,所述下立柱上设有供凸柱伸入的工作腔,且所述上立柱内设有用于储存磁流变液的储备腔以及与储备腔连通用于供外接充气装置给储备腔通气的气孔,所述凸柱内设有供液管,所述供液管一端与储备腔连通,所述供液管另一端与工作腔连通,且所述下立柱内设有用于产生磁场进而将流入工作腔的磁流变液加固的励磁装置。本实用新型提供一种立柱调节机构,采用这种立柱调节机构可以调整立柱的高度。

Description

一种立柱调节机构
技术领域:
本实用新型涉及调节机构领域,尤其涉及一种立柱调节机构。
背景技术:
很多场合需要用到立柱,但是现有技术的立柱使用久了会导致高度会产生变化,并且因为一起使用的多根立柱高度变化不同,进而导致了这些立柱支撑的物体不平稳。
发明内容:
本实用新型所要解决的技术问题是:提供一种立柱调节机构,采用这种立柱调节机构可以调整立柱的高度。
本实用新型所采用的技术方案是:一种立柱调节机构,包括上立柱以及下立柱,所述上立柱上设有凸柱,所述下立柱上设有供凸柱伸入的工作腔,且所述上立柱内设有用于储存磁流变液的储备腔以及与储备腔连通用于供外接充气装置给储备腔通气的气孔,所述凸柱内设有供液管,所述供液管一端与储备腔连通,所述供液管另一端与工作腔连通,且所述下立柱内设有用于产生磁场进而将流入工作腔的磁流变液加固的励磁装置。
采用以上结构与现有技术相比,本实用新型具有以下优点:通过想储备腔通气,进而将储备腔内的磁流变液从供液管压入到工作腔内,然后再通过励磁装置将磁流变液加固变硬,使得它能支撑上立柱,进而实现了调整立柱高度的目的。
作为优选,所述上立柱上还设有用于方便设备施力进而抬起上立柱的凹槽。这样设置可以通过一些外接设备来抬起上立柱,使储备腔内的磁流变液流入到工作腔内。
作为优选,所述气孔上设有单向气阀。这样设置可以防止储备腔内的气体泄露出去,即可以防止磁流变液没有加固到强度较高时因为气体泄露而导致磁流变液被压会储备腔内。
作为优选,所述励磁装置设置在工作腔的四周。这样设置,励磁装置能更好的给工作腔内的磁流变液提供磁场,即更好的加固设置在工作腔内的磁流变液。
附图说明:
图1为本实用新型一种立柱调节机构初始状态的结构示意图。
图2为本实用新型一种立柱调节机构调节过后的结构示意图。
如图所示:1、上立柱;2、下立柱;3、凸柱;4、工作腔;5、储备腔;6、气孔;7、供液管;8、励磁装置;9、凹槽;10、单向气阀。
具体实施方式:
以下结合附图与具体实施方式对本实用新型做进一步描述,但是本实用新型不仅限于以下具体实施方式。
一种立柱调节机构,包括上立柱1以及下立柱2,所述上立柱1上设有凸柱3,所述下立柱2上设有供凸柱3伸入的工作腔4,且所述上立柱1内设有用于储存磁流变液的储备腔5以及与储备腔5连通用于供外接充气装置给储备腔通气的气孔6,所述凸柱3内设有供液管7,所述供液管7一端与储备腔5连通,所述供液管7另一端与工作腔4连通,且所述下立柱2内设有用于产生磁场进而将流入工作腔4的磁流变液加固的励磁装置8。
所述上立柱1上还设有用于方便设备施力进而抬起上立柱1的凹槽9。
所述气孔6上设有单向气阀10。
所述励磁装置8设置在工作腔4的四周。
本申请的工作原理是:当需要调整立柱的高度时,需要想储备腔5内通气,或者直接通过设备抬起上立柱1,其目的都是将储备腔5内储存的磁流变液通到工作腔4内,同时此时已经将立柱抬高了,但是此时需要保持这个状态需要外部一直通气或者外部设备施力,所以不长久;所以就需要励磁装置8工作,将流到工作腔4内的磁流变液加固变硬,这样就能很好的保持这个状态了,并且加固一段时间后可以通过单向气阀10将气孔6堵住,这样储备腔5内的气体不能跑出去,这样上立柱1就更不容易下降了。

Claims (4)

1.一种立柱调节机构,包括上立柱(1)以及下立柱(2),其特征在于:所述上立柱(1)上设有凸柱(3),所述下立柱(2)上设有供凸柱(3)伸入的工作腔(4),且所述上立柱(1)内设有用于储存磁流变液的储备腔(5)以及与储备腔(5)连通用于供外接充气装置给储备腔通气的气孔(6),所述凸柱(3)内设有供液管(7),所述供液管(7)一端与储备腔(5)连通,所述供液管(7)另一端与工作腔(4)连通,且所述下立柱(2)内设有用于产生磁场进而将流入工作腔(4)的磁流变液加固的励磁装置(8)。
2.根据权利要求1所述的一种立柱调节机构,其特征在于:所述上立柱(1)上还设有用于方便设备施力进而抬起上立柱(1)的凹槽(9)。
3.根据权利要求1所述的一种立柱调节机构,其特征在于:所述气孔(6)上设有单向气阀(10)。
4.根据权利要求1所述的一种立柱调节机构,其特征在于:所述励磁装置(8)设置在工作腔(4)的四周。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN108002316A (zh) * 2017-12-14 2018-05-08 潘兆坤 一种高度调节机构

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