CN206672894U - 一种带防静电托架的真空等离子腔体 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种带防静电托架的真空等离子腔体，包括真空箱体，在真空箱体内部沿竖直方向设置若干层相互平行的电极板，相邻的两层电极板的极性相反；在相邻的两层电极板之间设有防静电托架，防静电托架安装在真空箱体内两侧的托架滑槽上，在防静电托架的两侧设有托架动滑轮，本实用新型能批量处理对静电敏感的产品，同时能够极大限度减少托架与腔体内壁或定位立板摩擦形成的碎屑，防止二次污染，保证产品处理效果，操作简单，提高了产能和良率。
Description
技术领域
本实用新型属于光电等离子清洗技术领域，尤其涉及一种带防静电托架的真空等离子腔体。
背景技术
目前，业界常见的真空等离子清洗机采用的托架为水平式，多层，金属或塑胶材质，不带滑轮和挡块；这种材质和结构在处理晶圆（Wafer）、电路板（PCB/FPC）、触摸屏（Touch Panel）等产品时，通常会出现因为拉动摩擦产生静电，形成碎屑造成二次污染和托架拉出的情况。无法保证产品处理效果，一致性比较差，良率偏低。
实用新型内容
针对现有的水平式托架不适合对静电敏感和对微粒要求苛刻，良率偏低，本实用新型提供一种防静电托架，该材料和结构能批量处理对静电敏感的产品，同时能够极大限度减少托架与腔体内壁或定位立板摩擦形成的碎屑，防止二次污染，保证产品处理效果，操作简单，提高了产能和良率。
本实用新型的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的：
本实用新型的一种带防静电托架的真空等离子腔体，包括真空箱体，在真空箱体内部沿竖直方向设置若干层相互平行的电极板，相邻的两层电极板的极性相反；在相邻的两层电极板之间设有防静电托架，防静电托架安装在真空箱体内两侧的托架滑槽上，在防静电托架的两侧设有托架动滑轮。
进一步的，所述防静电托架包括金属框架，在金属框架的两侧包裹有防静电绝缘块。
进一步的，在防静电托架的下方还设有限位定滑轮和托架限位块。
进一步的，在托架滑槽的近门端安装有托架滑槽限位块。
进一步的，所述防静电绝缘块采用防静电合成石或防静电陶瓷。
进一步的，在防静电托架的两侧还设有金属支架，托架动滑轮安装在金属支架的侧面。
进一步的，在真空箱体内两侧还设有定位立板，托架滑槽设在真空箱体（1）或者定位立板上。
进一步的，在防静电托架的两侧还设有金属支架，托架限位块安装在金属支架的下方，限位定滑轮固定在真空箱体的侧壁上。
本实用新型的有益效果是：本实用新型能批量处理对静电敏感的产品，同时能够极大限度减少托架与腔体内壁或定位立板摩擦形成的碎屑，防止二次污染，保证产品处理效果，操作简单，提高了产能和良率。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为本实用新型的防静电托架示意图；
图3为本实用新型内部的安装结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的优选实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。
如图1至图3所示，一种带防静电托架的真空等离子腔体，包括铝制真空箱体1，在真空箱体1内部的竖直方向上设置平行的多层铝制电极板3，一层作为阴极，另一层作为阳极，即相邻的两层电极板3的极性相反；在对应的两层铝制电极板3中间的真空箱体1内壁或定位立板2（定位立板2紧贴真空箱体1内侧壁安装，为选装）上开上托架滑槽5，装上一层防静电托架4，在防静电托架4的两侧设有托架动滑轮10，托架动滑轮10（相对于真空箱体1是运动的），卡在托架滑槽5内，能在托架滑槽5来回滚动。
所述防静电托架4包括金属框架7，在金属框架7的两侧包裹有防静电绝缘块8（采用防静电合成石或防静电陶瓷等其他防静电材料），在防静电托架4的下方设有一组限位定滑轮6，该定滑轮6（相对于真空箱体1是固定的）固定安装在真空箱体1的两侧，该定滑轮可以方便防静电托架4的抽拉，在防静电托架4的远门端（离门较远的一端）下方装有托架限位块11（为绝缘材质），当防静电托架4被向外拉的时候，快到尽头的时候托架限位块11会和限位定滑轮6接触，能有效防止防静电托架4的意外脱落。
在托架滑槽5的近门端还安装有托架滑槽限位块12，因为防静电托架4只有托架动滑轮10是在托架滑槽5内的，防静电托架4到托架滑槽5内的间距比较大，左右晃动的幅度自然就会比较大。在使用时，如果操作人员拉动防静电托架4时有倾斜，那么两个托架动滑轮10容易在托架滑槽5内卡住，加上托架滑槽限位块12后防静电托架4的左右晃动幅度会受到限制，且不因为晃动幅度大而卡住托架动滑轮10。
在防静电托架4的两侧还设有金属支架9，托架动滑轮10安装在金属支架9的侧面。
使用的时候，插在铝制真空箱体1内壁或定位立板2两层铝制电极3中间的托架滑槽5内的防静电托架4，由于下面有限位定滑轮6，防静电托架4由金属框架7，防静电绝缘块8、托架动滑轮10、托架限位块11和金属支架9组成，拉动非常方便，几乎没有什么摩擦，不会产生碎屑，放置产品处理后拉出托架产生的静电也不会传递到产品上造成破坏。
以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。
Claims (8)
1.一种带防静电托架的真空等离子腔体，其特征在于：包括真空箱体（1），在真空箱体（1）内部沿竖直方向设置若干层相互平行的电极板（3），相邻的两层电极板（3）的极性相反；在相邻的两层电极板之间设有防静电托架（4），防静电托架（4）安装在真空箱体（1）内两侧的托架滑槽（5）上，在防静电托架（4）的两侧设有托架动滑轮（10）。
2.根据权利要求1所述的一种带防静电托架的真空等离子腔体，其特征在于：
所述防静电托架（4）包括金属框架（7），在金属框架（7）的两侧包裹有防静电绝缘块（8）。
3.根据权利要求1所述的一种带防静电托架的真空等离子腔体，其特征在于：在防静电托架（4）的下方还设有限位定滑轮（6）和托架限位块（11）。
4.根据权利要求1所述的一种带防静电托架的真空等离子腔体，其特征在于：在托架滑槽的近门端装有托架滑槽限位块（12）。
5.根据权利要求2所述的一种带防静电托架的真空等离子腔体，其特征在于：所述防静电绝缘块（8）采用防静电合成石或防静电陶瓷。
6.根据权利要求1所述的一种带防静电托架的真空等离子腔体，其特征在于：在防静电托架（4）的两侧还设有金属支架（9），托架动滑轮（10）安装在金属支架（9）的侧面。
7.根据权利要求1所述的一种带防静电托架的真空等离子腔体，其特征在于：在真空箱体（1）内两侧还设有定位立板（2），托架滑槽（5）设在真空箱体（1）或者定位立板（2）上。
8.根据权利要求3所述的一种带防静电托架的真空等离子腔体，其特征在于：在防静电托架（4）的两侧还设有金属支架（9），托架限位块（11）安装在金属支架（9）的下方，限位定滑轮（6）固定在真空箱体（1）的侧壁上。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114308905A (zh) * | 2021-12-31 | 2022-04-12 | 北京烁科精微电子装备有限公司 | 一种晶圆等离子清洗装置及晶圆加工设备 |
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2017
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