CN206505940U - 一种无接触插片石墨舟 - Google Patents

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何达能
方结彬
陈刚
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Abstract

本实用新型公开了一种无接触插片石墨舟,由绝缘棒和在水平方向上排列的单元舟片组成,单元舟片为竖向设置的片状体,相邻单元舟片之间具有间隙,绝缘棒于各单元舟片周缘贯穿而将全部单元舟片连接在一起,位于两外侧单元舟片内外表面上设有凹槽,在凹槽底面上设有贯通该对应凹槽的细孔,位于中间单元舟片上设有通孔,在凹槽和通孔外围设有卡点,硅片贴附在凹槽和通孔上由卡点固定且硅片周缘遮盖在凹槽和通孔周边区域上,在周边区域上分布有喷气孔,由喷气孔喷出的保护气体对硅片施加推力使硅片与单元舟片不接触以避免插片时硅片与单元舟片发生摩擦。本实用新型避免硅片表面产生划痕,也避免了镀膜不均,提高了太阳能电池外观合格率和光电转换效率。

Description

一种无接触插片石墨舟
技术领域
本实用新型涉及一种石墨舟,尤其涉及一种无接触插片石墨舟。
背景技术
太阳能电池的制造需要经过制绒、扩散、刻蚀、镀膜、丝网印刷和烧结这六大工序。其中,镀膜工序是采用等离子增强化学气相沉积的方法在硅片正面镀氮化硅膜,以减少太阳光反射以及对硅片表面起钝化作用。硅片进行其表面镀膜工序时,需要将未镀膜的硅片插入PECVD真空镀膜设备的载片器上,目前,载片器通常采用石墨舟,一般是操作人员将花篮中的硅片插入专门的石墨舟或者通过自动上下料机将硅片插入专门的石墨舟,具体操作过程是:将硅片插入石墨舟并通过固定卡点定位于其上,然后,将载有硅片的石墨舟放置在PECVD真空镀膜设备中,采用PECVD工艺对硅片进行镀膜。
现有的石墨舟一般采用3个固定卡点卡住硅片的三条边,将硅片固定住。但是,在插片过程中,硅片会与石墨舟发生摩擦,导致硅片表面产生划痕,影响电池的外观合格率。尤其是对于双面电池而言,硅片表面产生划痕会影响正面和背面的电池外观。另外,在插片过程中,石墨舟的表面也会变得粗糙,导致硅片镀膜不均匀,增加了电池产品的外观不良率,降低了电池的光电转换效率。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种能够提高电池外观良品率、提高光电转换效率的无接触插片石墨舟,解决了传统镀膜石墨舟所存在的硅片划痕和镀膜不均的技术问题。
本实用新型的目的通过以下的技术措施来实现:一种无接触插片石墨舟,其特征在于:它主要由绝缘棒和在水平方向上排列的数个单元舟片组成,所述单元舟片为竖向设置的片状体,相邻的单元舟片之间具有间隙,所述绝缘棒于各单元舟片的周缘贯穿而将全部的单元舟片连接固定在一起,位于两外侧的单元舟片的内外表面上设有若干与硅片形状相同且其尺寸小于硅片尺寸的凹槽,位于外侧单元舟片内外表面上的凹槽相对应,在凹槽的槽底面上设有贯通该对应凹槽的用于抽真空的细孔,位于中间的单元舟片上设有若干与硅片形状相同且其尺寸小于硅片尺寸的通孔,在所述凹槽和通孔的外围设有用于固定硅片的卡点,硅片贴附在凹槽和通孔上由卡点固定且硅片的周缘遮盖在凹槽和通孔的周边区域上,在该周边区域上分布有与气源相连通的喷气孔,由喷气孔喷出的保护气体对硅片施加推力而使硅片与单元舟片不接触以便避免插片时硅片与单元舟片发生摩擦。
本实用新型在插片过程中,由喷气孔喷出保护气体,对硅片相对于喷气孔的那一面施加推力作用,而使硅片与单元舟片保持一定的空隙,即使得硅片与单元舟片不接触,从而避免硅片与石墨舟片发生摩擦,进而避免硅片表面产生划痕,同时也避免了镀膜不均,提高了太阳能电池的外观合格率和光电转换效率。另外,本实用新型由在水平方向上排布的若干个单元舟片组成,在单元舟片上设有呈阵列排布的若干个凹槽和通孔,可以根据镀膜工艺的实际情况和需要,调整待镀膜硅片在单元舟片上的阵列分布,从而提高硅片镀膜的均匀性。
作为本实用新型的一种实施方式,所述单元舟片的数量为2~50,相邻单元舟片之间的间距为5~50mm。
作为本实用新型的一种实施方式,位于外侧的单元舟片每一面上的凹槽的数量为5~20,位于每个中间的单元舟片上的通孔的数量为5~20,所述凹槽和通孔在单元舟片上呈阵列均匀分布,相邻凹槽之间、相邻通孔之间的间距是5~300mm。
作为本实用新型的一种实施方式,所述凹槽和通孔的深度是0.5~10mm。
作为本实用新型的一种实施方式,所述凹槽和通孔的周边区域的宽度是2~30mm。
作为本实用新型的一种实施方式,所述喷气孔为圆形孔,所述喷气孔的直径是1~5mm。
作为本实用新型的一种实施方式,所述喷气孔在凹槽和通孔的周边区域上均匀分布,相邻喷气孔之间的间距为1~10mm。
作为本实用新型的一种实施方式,所述绝缘棒采用陶瓷棒,也可以采用其它绝缘材料制成。
作为本实用新型的一种实施方式,所述保护气体采用惰性气体或者氮气。
与现有技术相比,本实用新型具有以下显著的优点:
⑴本实用新型在插片过程中,由喷气孔喷出保护气体,对硅片相对于喷气孔的那一面施加推力作用,而使硅片与单元舟片保持一定的空隙,即使得硅片与单元舟片不接触,从而避免硅片与石墨舟片发生摩擦,进而避免硅片表面产生划痕,同时也避免了镀膜不均,提高了太阳能电池的外观合格率和光电转换效率。
⑵本实用新型由在水平方向上排布的若干个单元舟片组成,在单元舟片上设有呈阵列排布的若干个凹槽和通孔,可以根据镀膜工艺的实际情况和需要,调整待镀膜硅片在单元舟片上的阵列分布,从而提高硅片镀膜的均匀性。
⑶本实用新型结构简单,容易实现,实用性强,适于广泛推广和适用。
附图说明
以下结合附图对本实用新型作进一步的详细说明。
图1是本实用新型的整体结构示意图;
图2是本实用新型位于中间的单元舟片的结构示意图。
具体实施方式
如图1和2所示,是本实用新型一种无接触插片石墨舟1,它主要由绝缘棒和在水平方向上排列的数个单元舟片组成,单元舟片为竖向设置的片状体,单元舟片的数量为2~50,在本实施例中,单元舟片是四个,相邻的单元舟片之间具有间隙,相邻单元舟片之间的间距为5~50m。绝缘棒采用陶瓷棒3,陶瓷棒3于各单元舟片的周缘贯穿而将全部的单元舟片连接固定在一起,陶瓷棒3的两端在位于两侧的单元舟片21的外表面上由固定部件9固定。位于两外侧的单元舟片21的内外表面上设有若干与硅片形状相同且其尺寸小于硅片尺寸的凹槽4,位于外侧单元舟片21内外表面上的凹槽4相对应,在凹槽4的槽底面上设有贯通该对应凹槽4的用于抽真空的细孔5,位于中间的单元舟片22上设有若干与硅片形状相同且其尺寸小于硅片尺寸的通孔6,凹槽4和通孔6的深度是0.5~10mm。在凹槽4和通孔6的外围设有用于固定硅片的卡点7,硅片贴附在凹槽4和通孔6上由卡点7固定且硅片的周缘遮盖在凹槽4和通孔6的周边区域8上,周边区域8的宽度是2~30mm,在该周边区域8上分布有与气源相连通的喷气孔10,在本实施例中,喷气孔9为圆形孔,喷气孔10的直径是1~5mm,喷气孔10在凹槽和通孔的周边区域8上均匀分布,相邻喷气孔10之间的间距为1~10mm。由喷气孔10喷出的保护气体对硅片施加推力而使硅片与单元舟片不接触以便避免插片时硅片与单元舟片发生摩擦,保护气体可以采用惰性气体或者氮气或者难以与其它元素进行化学反应的气体。
位于外侧的单元舟片21每一面上的凹槽的数量为5~20,位于每个中间的单元舟片上的通孔的数量为5~20,凹槽4和通孔6在单元舟片上呈阵列均匀分布,相邻凹槽4之间、相邻通孔6之间的间距是5~300mm。
本实用新型的实施方式不限于此,根据本实用新型的上述内容,按照本领域的普通技术知识和惯用手段,在不脱离本实用新型上述基本技术思想前提下,本实用新型还可以做出其它多种形式的修改、替换或变更,均落在本实用新型权利保护范围之内。

Claims (9)

1.一种无接触插片石墨舟,其特征在于:它主要由绝缘棒和在水平方向上排列的数个单元舟片组成,所述单元舟片为竖向设置的片状体,相邻的单元舟片之间具有间隙,所述绝缘棒于各单元舟片的周缘贯穿而将全部的单元舟片连接固定在一起,位于两外侧的单元舟片的内外表面上设有若干与硅片形状相同且其尺寸小于硅片尺寸的凹槽,位于外侧单元舟片内外表面上的凹槽相对应,在凹槽的槽底面上设有贯通该对应凹槽的用于抽真空的细孔,位于中间的单元舟片上设有若干与硅片形状相同且其尺寸小于硅片尺寸的通孔,在所述凹槽和通孔的外围设有用于固定硅片的卡点,硅片贴附在凹槽和通孔上由卡点固定且硅片的周缘遮盖在凹槽和通孔的周边区域上,在该周边区域上分布有与气源相连通的喷气孔,由喷气孔喷出的保护气体对硅片施加推力而使硅片与单元舟片不接触以便避免插片时硅片与单元舟片发生摩擦。
2.根据权利要求1所述的无接触插片石墨舟,其特征在于:所述单元舟片的数量为2~50,相邻单元舟片之间的间距为5~50mm。
3.根据权利要求2所述的无接触插片石墨舟,其特征在于:位于外侧的单元舟片每一面上的凹槽的数量为5~20,位于每个中间的单元舟片上的通孔的数量为5~20,所述凹槽和通孔在单元舟片上呈阵列均匀分布,相邻凹槽之间、相邻通孔之间的间距是5~300mm。
4.根据权利要求3所述的无接触插片石墨舟,其特征在于:所述凹槽和通孔的深度是0.5~10mm。
5.根据权利要求4所述的无接触插片石墨舟,其特征在于:所述凹槽和通孔的周边区域的宽度是2~30mm。
6.根据权利要求5所述的无接触插片石墨舟,其特征在于:所述喷气孔为圆形孔,所述喷气孔的直径是1~5mm。
7.根据权利要求6所述的无接触插片石墨舟,其特征在于:所述喷气孔在凹槽和通孔的周边区域上均匀分布,相邻喷气孔之间的间距为1~10mm。
8.根据权利要求7所述的无接触插片石墨舟,其特征在于:所述绝缘棒采用陶瓷棒。
9.根据权利要求8所述的无接触插片石墨舟,其特征在于:所述保护气体采用惰性气体或者氮气。
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