CN206502860U - 一种pecvd与pvd混合连续式柔性薄膜镀膜装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型目的提供一种PECVD与PVD混合连续式柔性薄膜镀膜装置，其特征在于多个处理腔室及真空送、收卷室；所述多个处理腔室包括:多个PECVD处理腔室、多个PVD处理腔室及一个真空隔离腔室，腔室连接处分别设有可通过柔性基片的狭长缝隙；所述真空放卷室及真空收卷室内设有放卷轮轴及收卷轮轴机构；所述隔离腔室内设有气氛隔离机构。本实用新型克服现有技术不足，将PECVD及PVD整合在一条生产线上，大大节省生产线数量及长度，扩大产能，降低成本，利于推广应用。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种PECVD与PVD混合连续式柔性薄膜镀膜装置，特别是一种PECVD与PVD整合在一条生产线的镀膜装置。
背景技术
现今卷对卷连续真空连续镀膜设备都只针对一种沉积模式运作，PECVD模式或PVD模式。受限于不同的制程气体如何有效地进行隔绝，通常的做法是将PECVD及PVD分别作为两套独立运作的系统，以避免制程气体相互影响，设备建制成本提高，同时增加使用空间。
或着设置多个空腔室作为气体隔离作用，且分别需要配置门阀加强气体隔离效果；此举虽然整合PECVD及PVD于一条生产线上，但是设置多个空腔室还是增加了设备长度，也并未有效降低设备建制成本。
因此，如何设计一种结构紧凑、占用空间小的整合装置，以实现同时可执行PECVD及PVD两种模式的镀膜是本领域技术人员目前需要解决的技术问题。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种PECVD与PVD混合连续式柔性薄膜镀膜装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种PECVD与PVD混合连续式柔性薄膜镀膜装置，包括送卷腔室、收卷腔室、PECVD处理腔室、隔离腔室、气氛隔离机构、PVD处理腔室、腔室狭长缝隙，所述处理腔室设置腔室狭长缝隙，所述送卷腔室设置送卷滚轮，所述收卷腔室设置收卷滚轮，所述隔离腔室设置气氛隔离机构。
优选的，所述气氛隔离机构设置进气孔，直径5mm-10mm，间隔100mm设置，共设置15孔。
优选的，所述气氛隔离机构，可设置一个或多个气氛隔离机构。
优选的，所述PECVD处理腔室，可设置一个或多个处理腔室。
优选的，所述PVD处理腔室，可设置一个或多个处理腔室。
优选的，所述之腔室狭长缝隙，可设置一个或多个腔室狭长缝隙。
本实用新型的技术效果和优点：该PECVD与PVD混合连续式柔性薄膜镀膜装置，柔性基材由送卷腔室内送卷滚轮传送，透过腔室狭长缝隙进入PECVD处理腔室进行薄膜沉积，透过腔室狭长缝隙进入隔离腔室，隔离腔室内设有气氛隔离机构，并通入惰性气体，使内部形成气帘效果，以阻止PECVD处理腔室的制程气体向外扩散，柔性基材再透过另一组气氛隔离机构、腔室狭长缝隙传送至PVD处理腔室进行薄膜沉积，然后进入收卷腔室内收卷滚轮收卷。
透过隔离腔室内气氛隔离机构，可有效避免PECVD制程气体进入PVD处理腔室引响制程；同时也可避免PVD制程气体进入PECVD处理腔室引响其制程。如此，既可整合PECVD及PVD两种模式于一条生产线，降低设备建制成本，也无须设置多个空腔室即可达成目的。
附图说明
通过下面结合附图对其示例性实施的描述，本发明以上特征的优点将会变得更加清楚和容易理解。
图1是本实用新型结构示意图。
主要组件符号说明
11．．．送卷腔室
12．．．送卷滚轮
13．．．PECVD处理腔室
14．．．腔室狭长缝隙
15．．．隔离腔室
16．．．气氛隔离机构
17．．．PVD处理腔室
18．．．收卷腔室
19．．．收卷滚轮
具体实施方式
为了对实用新型的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图说明本
实用新型的具体实施方式。
本实用新型提供了一种PECVD与PVD混合连续式柔性薄膜镀膜装置，包括送卷腔室、收卷腔室、PECVD处理腔室、隔离腔室、气氛隔离机构、PVD处理腔室、腔室狭长缝隙所组成。
如图1所示，柔性基材由送卷腔室11内送卷滚轮12传送，透过腔室狭长缝隙14进入PECVD处理腔室13进行薄膜沉积，透过腔室狭长缝隙14进入隔离腔室15，隔离腔室15内设有气氛隔离机构16，并通入惰性气体，使内部形成气帘效果，以阻止PECVD处理腔室13的制程气体向外扩散，柔性基材再透过另一组气氛隔离机构16、腔室狭长缝隙14传送至PVD处理腔室17进行薄膜沉积，然后进入收卷腔室18内收卷滚轮19收卷，该组态设置有效整合PECVD及PVD两种模式于一条生产线结构简单，成本低，节省建制设备长度。
上文所列出的一系列的详细说明仅仅是针对本实用新型的可行性实施例的具体说明，它们并非用以限制本实用新型的保护范围，凡未脱离本实用新型技艺精神所作的等效实施例或变更均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种PECVD与PVD混合连续式柔性薄膜镀膜装置，其特征在于送卷腔室(11）、收卷腔室（17）、PECVD处理腔室（13）、隔离腔室（14）、PVD处理腔室（15）、腔室狭长缝隙（16）所组成。
2.根据权利要求1 所叙述之一种PECVD与PVD混合连续式柔性薄膜镀膜装置，其特征在于所述隔离腔室设置气氛隔离机构并通入惰性气体。
3.根据权利要求2 所叙述之一种PECVD与PVD混合连续式柔性薄膜镀膜装置，其特征在于所述气氛隔离机构，其特征在于：上板及下板互相平行设置，其中下板设置进气孔，直径5mm-10mm，间隔100mm设置，共设置15孔。
4.根据权利要求1所述之一种PECVD与PVD混合连续式柔性薄膜镀膜装置，其特征在于所述PECVD处理腔室，可包含一个或多个处理腔室。
5.根据权利要求1所述之一种PECVD与PVD混合连续式柔性薄膜镀膜装置，其特征在于所述PVD处理腔室，可包含一个或多个处理腔室。
6.根据权利要求1所述之一种PECVD与PVD混合连续式柔性薄膜镀膜装置腔室狭长缝隙，其特征在于所述狭长缝隙，可设置一个或多个狭长缝隙，间隙5-10mm。
7.根据权利要求2 所叙述一种PECVD与PVD混合连续式柔性薄膜镀膜装置，其特征在于所述隔离腔室，可设置一个或多个隔离腔室。
8.根据权利要求3所述一种PECVD与PVD混合连续式柔性薄膜镀膜装置，其特征在于所述气氛隔离机构，可设置一个或多个气氛隔离机构于隔离腔室内。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110838532A (zh) * | 2018-08-17 | 2020-02-25 | 中智(泰兴)电力科技有限公司 | 一种8腔体立式hwcvd-pvd一体化硅片镀膜工艺 |
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2016
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