CN206477620U - Loft建筑 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种LOFT建筑，包括第一结构层，第二结构层与第三结构层，第一结构层具有第一上升地板与第一下沉地板，第二结构层具有第二下沉地板与第二上升地板，所述第三结构层具有第三上升地板与第三下沉地板，第一上升地板与第二下沉地板的间距为4.2m，第一下沉地板与第二上升地板的间距为4.8m，第二下沉地板与第三上升地板的间距为4.8m，第二上升地板与第三下沉地板的间距为4.2m，第一下沉地板与第二上升地板间设置第一夹层地板，第一夹层地板与第一下沉地板的间距为2.45m，第一夹层地板与第二上升地板的间距为2.35m；第二下沉地板与第三上升地板间设置第二夹层地板，第二夹层地板与第二下沉地板的间距为2.45m，第二夹层地板与第三上升地板的间距为2.35m。本建筑提高了舒适度。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种LOFT建筑。
背景技术
在现在大多数的LOFT中，其户型结构一般为上下双层的复式结构。此种结构可以充分利用房间层高，实现公共区域与私密区域的分隔，并且创造出的空间的高低变化，体验上较为丰富。但是现在的LOFT层高以4.5m为主，除去结构及内装材料厚度，夹层区域上下两层净高偏低，在使用上舒适度大大降低。
实用新型内容
本实用新型的目的就是为了解决上述问题，提供一种舒适度较好的LOFT建筑。
为了实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：一种LOFT建筑，包括本体，所述本体具有第一结构层，第二结构层与第三结构层，
所述第一结构层具有第一上升地板与第一下沉地板，所述第一上升地板与第一下沉地板间设置第一过渡结构；
所述第二结构层具有第二下沉地板与第二上升地板，所述第二下沉地板与第二上升地板间设置第二过渡结构；
所述第三结构层具有第三上升地板与第三下沉地板，所述第三上升地板与第三下沉地板间设置第三过渡结构；
所述第一上升地板与第二下沉地板的间距为4.2m，所述第一下沉地板与第二上升地板的间距为4.8m，所述第二下沉地板与第三上升地板的间距为4.8m，所述第二上升地板与第三下沉地板的间距为4.2m，其特征在于，
所述第一下沉地板与第二上升地板间设置第一夹层地板，所述第一夹层地板与第一下沉地板的间距为2.45m，所述第一夹层地板与第二上升地板的间距为2.35m；
所述第二下沉地板与第三上升地板间设置第二夹层地板，所述第二夹层地板与第二下沉地板的间距为2.45m，所述第二夹层地板与第三上升地板的间距为2.35m。
作为优选：所述建筑的外立面采用折形外立面。
与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：本建筑对层高功能区域高度进行重新设计，提高了舒适度。
附图说明
图1为实施例中LOFT建筑结构示意图。
图2为实施例中折形外立面示意图。
附图标记说明：11第一上升地板，12第一下沉地板，21第二下沉地板，22第二上升地板，31第三上升地板，32第三下沉地板，41第一夹层地板，42第二夹层地板，W折形外立面。
具体实施方式
为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本实用新型。
参见图1，一种LOFT建筑，包括本体，所述本体具有第一结构层，第二结构层与第三结构层，
所述第一结构层具有第一上升地板与第一下沉地板，所述第一上升地板与第一下沉地板间设置第一过渡结构；
所述第二结构层具有第二下沉地板与第二上升地板，所述第二下沉地板与第二上升地板间设置第二过渡结构；
所述第三结构层具有第三上升地板与第三下沉地板，所述第三上升地板与第三下沉地板间设置第三过渡结构；
所述第一上升地板与第二下沉地板的间距为4.2m，所述第一下沉地板与第二上升地板的间距为4.8m，所述第二下沉地板与第三上升地板的间距为4.8m，所述第二上升地板与第三下沉地板的间距为4.2m，
所述第一下沉地板与第二上升地板间设置第一夹层地板，所述第一夹层地板与第一下沉地板的间距为2.45m，所述第一夹层地板与第二上升地板的间距为2.35m；
所述第二下沉地板与第三上升地板间设置第二夹层地板，所述第二夹层地板与第二下沉地板的间距为2.45m，所述第二夹层地板与第三上升地板的间距为2.35m。本建筑对层高功能区域高度进行重新设计，提高了舒适度。
所述建筑的外立面采用折形外立面。为解决空调百叶占用房间采光面的问题，通过折形的外立面，将空调百叶隐藏在侧面，最大化房间的采光面的同时，也形成独特的波浪状的建筑外立面。
以上所述仅为本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅限于上述实施方式，凡是属于本实用新型原理的技术方案均属于本实用新型的保护范围。对于本领域的技术人员而言，在不脱离本实用新型的原理的前提下进行的若干改进，这些改进也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (2)
1.一种LOFT建筑，包括本体，所述本体具有第一结构层，第二结构层与第三结构层，
所述第一结构层具有第一上升地板与第一下沉地板，所述第一上升地板与第一下沉地板间设置第一过渡结构；
所述第二结构层具有第二下沉地板与第二上升地板，所述第二下沉地板与第二上升地板间设置第二过渡结构；
所述第三结构层具有第三上升地板与第三下沉地板，所述第三上升地板与第三下沉地板间设置第三过渡结构；
所述第一上升地板与第二下沉地板的间距为4.2m，所述第一下沉地板与第二上升地板的间距为4.8m，所述第二下沉地板与第三上升地板的间距为4.8m，所述第二上升地板与第三下沉地板的间距为4.2m，其特征在于，
所述第一下沉地板与第二上升地板间设置第一夹层地板，所述第一夹层地板与第一下沉地板的间距为2.45m，所述第一夹层地板与第二上升地板的间距为2.35m；
所述第二下沉地板与第三上升地板间设置第二夹层地板，所述第二夹层地板与第二下沉地板的间距为2.45m，所述第二夹层地板与第三上升地板的间距为2.35m。
2.根据权利要求1所述的LOFT建筑，其特征在于：所述建筑的外立面采用折形外立面。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201720034431.9U CN206477620U (zh) | 2017-01-11 | 2017-01-11 | Loft建筑 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201720034431.9U CN206477620U (zh) | 2017-01-11 | 2017-01-11 | Loft建筑 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN206477620U true CN206477620U (zh) | 2017-09-08 |
Family
ID=59753408
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201720034431.9U Active CN206477620U (zh) | 2017-01-11 | 2017-01-11 | Loft建筑 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN206477620U (zh) |
-
2017
- 2017-01-11 CN CN201720034431.9U patent/CN206477620U/zh active Active
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