CN206414873U - 过滤装置、真空抽气装置及刻蚀设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种过滤装置、真空抽气装置及刻蚀设备，包括支撑框架、固定架和叶片，所述叶片通过固定架设置在所述支撑框架内，所述叶片与所述支撑框架所在平面呈一定夹角，所述叶片在所述支撑框架所在平面上的投影面积覆盖所述支撑框架内的通风面积。本实用新型提供的过滤装置、真空抽气装置及刻蚀设备通过叶片在支撑框架所在平面上的投影面积覆盖支撑框架内的通风面积，叶片起到阻挡粉尘反冲的作用，从而解决在开始抽气的瞬间，真空反应腔室和真空抽气装置之间沉积的粉尘反冲至真空反应腔室的问题。

Description

过滤装置、真空抽气装置及刻蚀设备

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域，特别是指一种过滤装置、真空抽气装置及刻蚀设备。

背景技术

刻蚀是半导体制造过程中的重要工艺，刻蚀需要在真空反应腔中进行，在刻蚀完成之后，通过真空抽气装置抽出真空反应腔室中的工艺废气。具体地，在低压下，反应气体在射频功率的激发下，产生电离形成等离子体，等离子体由带电的电子和离子组成，真空反应腔室中的气体在电子的撞击下，除了转变成离子外，还能吸收能量并形成大量的活性基团。活性基团与被刻蚀物质表面发生化学反应，并生成挥发性的反应生成物(工艺废气)。反应生成物脱离被刻蚀物质表面，然后被真空抽气装置抽出真空反应腔室。

目前，普遍采用过滤网来过滤真空反应腔室中体积较大的异物，以防止异物掉落到真空抽气装置中。但是，在刻蚀工艺过程中，当突然开启真空抽气装置，并开始抽气时，气流会出现短暂的乱扰和反冲，导致真空反应腔室和真空抽气装置之间沉积的粉尘反冲至真空反应腔室，从而影响真空反应腔室的洁净度，降低生产良率。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的在于提出一种过滤装置、真空抽气装置及刻蚀设备，以解决在开始抽气的瞬间，真空反应腔室和真空抽气装置之间沉积的粉尘反冲至真空反应腔室的技术问题。

基于上述目的，本实用新型提供的过滤装置，包括支撑框架、固定架和叶片，所述叶片通过固定架设置在所述支撑框架内，所述叶片与所述支撑框架所在平面呈一定夹角，所述叶片在所述支撑框架所在平面上的投影面积覆盖所述支撑框架内的通风面积。

在本实用新型的一些实施例中，所述固定架的数量为多个，多个固定架间隔地分布在所述支撑框架上，每个固定架上至少设置有一张叶片；或者

所述叶片的数量为多个，多个叶片组成同心圆。

在本实用新型的一些实施例中，所述叶片上设有阻挡片，所述阻挡片与所述叶片所在平面呈一定夹角，所述阻挡片在所述叶片上的投影处开设有通孔。

在本实用新型的一些实施例中，所述叶片为金属材料，所述金属材料的表面镀有氧化层。

在本实用新型的一些实施例中，所述叶片与所述支撑框架所在平面的夹角为5-45°。

在本实用新型的一些实施例中，所述叶片与所述支撑框架所在平面的夹角的角度可调。

在本实用新型的一些实施例中，所述支撑框架上设置有用于将所述支撑框架固定于过滤通道的连接件。

在本实用新型的一些实施例中，所述连接件为树形卡扣。

本实用新型还提供一种真空抽气装置，包括真空泵、过滤通道和上述任意一个实施例中的过滤装置，所述过滤通道与真空泵的入口连通，所述过滤装置固定于所述过滤通道内。

本实用新型还提供一种刻蚀设备，包括真空反应腔室和上述真空抽气装置，所述真空反应腔室与真空泵通过过滤通道连通，所述过滤装置位于所述真空反应腔室和真空泵之间。

从上面所述可以看出，本实用新型提供的过滤装置、真空抽气装置及刻蚀设备通过叶片在支撑框架所在平面上的投影面积覆盖支撑框架内的通风面积，叶片起到阻挡粉尘反冲的作用，从而解决在开始抽气的瞬间，真空反应腔室和真空抽气装置之间沉积的粉尘反冲至真空反应腔室的问题。而且，相比于传统镂空的过滤网，在本实用新型中，由于叶片的折角位置较少，可以更有效地在叶片表面镀氧化膜，且尖端放电较少，耐腐蚀能力也较强。

附图说明

图1为本实用新型一个实施例过滤装置的结构示意图；

图2为本实用新型一个实施例过滤装置的侧视图；

图3为本实用新型一个实施例过滤装置的俯视图；

图4为本实用新型另一个实施例过滤装置的结构示意图；

图5为本实用新型又一个实施例过滤装置的俯视图；

图6为本实用新型又一个实施例过滤装置的侧视图；

图7为本实用新型再一个实施例叶片的结构示意图；

图8为本实用新型另一个实施例过滤装置的侧视图。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照附图，对本实用新型进一步详细说明。

参考图1，其为本实用新型一个实施例过滤装置的结构示意图。作为本实用新型的一个实施例，所述过滤装置包括支撑框架1、固定架2和叶片3，所述叶片3通过固定架2设置在所述支撑框架1内，并且所述叶片3与所述支撑框架1所在平面呈一定夹角，所述叶片3在所述支撑框架1所在平面上的投影面积覆盖所述支撑框架1内的通风面积。

在本实用新型提供的过滤装置中，如图2所示，叶片3与支撑框架1所在平面呈一定夹角，以保证正常抽气，并沿着与支撑框架1所在平面呈一定夹角的方向流通气体。而且，如图3所示，叶片3在支撑框架1所在平面上的投影面积覆盖支撑框架1内的通风面积，叶片3起到阻挡粉尘反冲的作用，从而解决在开始抽气的瞬间，真空反应腔室和真空抽气装置之间沉积的粉尘反冲至真空反应腔室的问题。而且，相比于传统镂空的过滤网，在本实用新型中，由于叶片的折角位置较少，可以更有效地在叶片表面镀氧化膜，且尖端放电较少，耐腐蚀能力也较强。

作为本实用新型的又一个实施例，如图1-3所示，所述固定架2的数量可以为多个，多个固定架2间隔地分布在所述支撑框架1上，每个固定架2上至少设置有一张叶片3，从而将叶片3固定在所述支撑框架1内。优选地，所述多个固定架2互相平行，以形成阵列式的叶片3，叶片3之间的间隔既可以保证正常抽气，使气流通过所述过滤装置，同时还能阻截体积较大的异物，防止其掉落到真空泵中。

需要说明的是，所述支撑框架1的形状限于本实用新型附图中的形状，所述支撑框架1的形状可以是不规则形状，可以是正方向，也可以是圆形。根据所述支撑框架1的形状，所述固定架2间隔地分布在所述支撑框架1上。无论支撑框架1是哪种形状，要保证叶片3在所述支撑框架1所在平面上的投影面积覆盖所述支撑框架1内的通风面积，从而使叶片3起到阻挡粉尘反冲的作用，解决在开始抽气的瞬间，真空反应腔室和真空抽气装置之间沉积的粉尘反冲至真空反应腔室的问题。

作为本实用新型的另一个实施例，如图4所示，每个固定架2上设置的叶片3数量不限，可以为一张、两张、三张或者四张等。优选地，同一个固定架2上的不同叶片3与所述支撑框架1所在平面的夹角的角度可以一样，也可以不一样。但是无论选用几张叶片、无论如何设置夹角的角度，都要使所有叶片3在所述支撑框架1所在平面上的投影面积覆盖所述支撑框架1内的通风面积，以解决在开始抽气的瞬间，真空反应腔室和真空抽气装置之间沉积的粉尘反冲至真空反应腔室的问题。

作为本实用新型的又一个实施例，如图5-6所示，所述叶片3的数量为多个，多个叶片3组成同心圆。在该实施例中，所述固定架2设置在所述支撑框架1内，所述叶片3以同心圆的方式固定在所述固定架2上，并且所述叶片3与所述支撑框架1所在平面呈一定夹角，所述叶片3在所述支撑框架1所在平面上的投影面积覆盖所述支撑框架1内的通风面积。所述叶片3以同心圆方式的分布，叶片3之间的间隔既可以保证正常抽气，使气流通过所述过滤装置，同时还能阻截体积较大的异物，防止其掉落到真空泵中。

在本实用新型的另一个实施例中，如图7所示，所述叶片3上设有阻挡片31，所述阻挡片31与所述叶片3所在平面呈一定夹角，所述阻挡片3在所述叶片3上的投影处开设有通孔32。因此，在叶片上进一步设置阻挡片和通孔，阻挡片同样能够起到阻挡粉尘反冲的作用，叶片上开设的通孔一方面可以提高气流分布的均匀性，另一方面可以提高气流流动速度。

在本实用新型的另一个实施例中，所述叶片3为金属材料，所述金属材料的表面镀有氧化层。金属材料的叶片可以使叶片与其周围的金属过滤通道之间形成静电屏蔽，从而防止等离子体冲向真空泵；此外，金属材料表面的氧化层可以防止金属材料被腐蚀。

在本实用新型的再一个实施例中，所述叶片3与所述支撑框架1所在平面的夹角为5-45°，以保证正向抽气时可以正常排出气体，反向扰流时可以形成气流阻挡，防止粉尘冲向真空反应腔室。

在本实用新型的再一个实施例中，所述叶片3与所述支撑框架1所在平面的夹角的角度可调。本实用新型可以选择不同角度的叶片，如果用于沉积物较多的刻蚀环境，可以选择夹角较大的叶片，以减少沉积物的沉积，减少维护频率；沉积物较少的刻蚀环境，可选择夹角较小的叶片，可以更有效防止粉尘反冲。

作为本实用新型的另一个实施例，如图8所示，所述支撑框架1上设置有用于将所述支撑框架1固定于过滤通道的连接件4。所述连接件用于将所述支撑框架固定于过滤通道内，以使在抽气过程中，所述过滤装置可以牢固地固定在真空反应腔室与真空泵之间的过滤通道内。需要说明的是，所述支撑框架1上可以设置多个连接件4，以提高所述过滤装置在过滤通道内的固定稳定性。所述多个连接件4可以根据支撑框架1的形状，均匀地设置在支撑框架1上，以保证固定牢固性。

在本实用新型的又一个实施例中，所述连接件4为树形卡扣，树形卡扣可以插入过滤通道上预留的螺丝孔内，并卡在螺丝孔内，使支撑框架与过滤通道固定连接，从而简化拆卸螺丝。

本实用新型还提供一种真空抽气装置，包括真空泵、过滤通道和上述任意一个实施例中的过滤装置，所述过滤通道与真空泵的入口连通，所述过滤装置固定于所述过滤通道内。所述真空抽气装置可以提高真空反应腔室的洁净度，从而提高生产良率。

本实用新型还提供一种刻蚀设备，包括真空反应腔室和上述真空抽气装置，所述真空反应腔室与真空泵通过过滤通道连通，所述过滤装置位于所述真空反应腔室和真空泵之间，从而提高真空反应腔室的洁净度，提高生产良率。

由此可见，本实用新型提供的过滤装置、真空抽气装置及刻蚀设备通过叶片在支撑框架所在平面上的投影面积覆盖支撑框架内的通风面积，叶片起到阻挡粉尘反冲的作用，从而解决在开始抽气的瞬间，真空反应腔室和真空抽气装置之间沉积的粉尘反冲至真空反应腔室的问题。而且，相比于传统镂空的过滤网，在本实用新型中，由于叶片的折角位置较少，可以更有效地在叶片表面镀氧化膜，且尖端放电较少，耐腐蚀能力也较强。

所属领域的普通技术人员应当理解：以上任何实施例的讨论仅为示例性的，并非旨在暗示本公开的范围(包括权利要求)被限于这些例子；在本实用新型的思路下，以上实施例或者不同实施例中的技术特征之间也可以进行组合，并存在如上所述的本实用新型的不同方面的许多其它变化，为了简明它们没有在细节中提供。因此，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何省略、修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种过滤装置，其特征在于，包括支撑框架、固定架和叶片，所述叶片通过固定架设置在所述支撑框架内，所述叶片与所述支撑框架所在平面呈一定夹角，所述叶片在所述支撑框架所在平面上的投影面积覆盖所述支撑框架内的通风面积。

2.根据权利要求1所述的过滤装置，其特征在于，所述固定架的数量为多个，多个固定架间隔地分布在所述支撑框架上，每个固定架上至少设置有一张叶片；或者

所述叶片的数量为多个，多个叶片组成同心圆。

3.根据权利要求1所述的过滤装置，其特征在于，所述叶片上设有阻挡片，所述阻挡片与所述叶片所在平面呈一定夹角，所述阻挡片在所述叶片上的投影处开设有通孔。

4.根据权利要求1所述的过滤装置，其特征在于，所述叶片为金属材料，所述金属材料的表面镀有氧化层。

5.根据权利要求1所述的过滤装置，其特征在于，所述叶片与所述支撑框架所在平面的夹角为5-45°。

6.根据权利要求1所述的过滤装置，其特征在于，所述叶片与所述支撑框架所在平面的夹角的角度可调。

7.根据权利要求1所述的过滤装置，其特征在于，所述支撑框架上设置有用于将所述支撑框架固定于过滤通道的连接件。

8.根据权利要求7所述的过滤装置，其特征在于，所述连接件为树形卡扣。

9.一种真空抽气装置，其特征在于，包括真空泵、过滤通道和如权利要求1-8中任意一项所述的过滤装置，所述过滤通道与真空泵的入口连通，所述过滤装置固定于所述过滤通道内。

10.一种刻蚀设备，其特征在于，包括真空反应腔室和如权利要求9所述的真空抽气装置，所述真空反应腔室与真空泵通过过滤通道连通，所述过滤装置位于所述真空反应腔室和真空泵之间。