CN206143307U - 一种可以提供气体保护氛围的激光熔敷喷嘴 - Google Patents

一种可以提供气体保护氛围的激光熔敷喷嘴 Download PDF

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Abstract

一种可以提供气体保护氛围的激光熔敷喷嘴,它是由是由气体保护罩、送气层、送粉层和激光和气体共用层组成。使用过程中,激光和部分保护气体均从喷嘴的激光气体共用层穿过,气体流速较小。共用层外是送粉层,送粉层有4个送粉口,连接送粉器。送粉层外侧是送气层,四个送气口连接保护气体,形成均匀气体保护氛围,环绕粉末。最外层气体保护罩有4个送气口,连接保护气体,气体流量较大,迅速冲出罩内残留空气,形成均匀稳定的保护气体氛围。本实用新型主要解决激光熔敷需要气体保护的金属粉末时效率低下,资源浪费的问题。本实用新型具有结构简单,节约资源、操作方便,随装随用的优点。

Description

一种可以提供气体保护氛围的激光熔敷喷嘴
技术领域
本实用新型属于激光熔敷工艺过程中所使用的设备领域,特别涉及一种可以提供气体保护氛围的激光熔敷喷嘴。
背景技术
公知,激光熔覆技术是指以不同的填料方式在被涂覆基体表面上放置选择的涂层材料,经激光辐照使之和基体表面一薄层同时熔化,并快速凝固后形成稀释度极低并与基体材料成冶金结合的表面涂层,从而显著改善基体材料表面的耐磨、耐蚀、耐热、抗氧化及电器特性等的工艺方法。
然而,激光熔敷技术受材料自身性质的影响很大,在实际生产过程中,由于熔敷粉末在高温条件下易与空气发生反应,从而影响熔敷效果,甚至导致涂层失效,因此需要人为的增加保护气体氛围。增加保护气氛会导致生产效率降低,气体浪费严重,能耗增加等情况,给生产过程带来的极大的不便,极大的提高的生产成本。这种现状急需一种可以提供保护气体氛围的激光熔敷喷嘴。
发明内容
针对上述中存在的问题,本实用新型提供一种可以提供保护气体氛围的激光熔敷喷嘴。其技术方案是由气体保护罩、送气层、送粉层和激光和气体共用层组成。除最外侧气体保护罩由钢化玻璃制成,其余各部分均为纯铜。各层之间通过螺纹连接,由外往内分别是:气体保护罩、送气层、送粉层和激光和气体共用层。
使用过程中,激光和部分保护气体均从喷嘴的激光气体共用层穿过,气体流速较小。共用层外是送粉层,送粉层有4个送粉口,连接送粉器。送粉层外侧是送气层,四个送气口连接保护气体,形成均匀气体保护氛围,环绕粉末。最外层气体保护罩有4个送气口,连接保护气体,气体流量较大,迅速冲出罩内残留空气,形成均匀稳定的保护气体氛围。
激光熔敷时,熔敷粉末内侧和外侧均有气体对心流动,且气体保护罩内气体氛围会随着喷嘴的移动而移动,粉末一直处于稳定的保护气状态中。
附图说明
下面结合附图及实施例对本实用新型做进一步说明。
图1是本实用新型实施例的主视剖视图的示意图,图2 是激光熔敷喷嘴实施示意图。
图中 1、激光和气体共用层 2、送粉层 3、送粉口 4、送气层 5、进气口6、进气口 7、气体保护罩 8、激光器 9、送粉机 10、保护气体 11、喷嘴
具体实施方式
在图1所示的剖视图中,气体保护罩(7)由钢化玻璃制成,其余材质均为纯铜。激光和部分保护气体均从激光和气体共用层(1)穿过,气体流速较小。金属粉末从4个送粉口(3)通入喷嘴,经送粉层(2)输出。保护气体同时由四个送气口(5)通入,经送气层(4)输出,形成均匀气体保护氛围,环绕粉末。最外层气体保护罩(7)有4个送气口(6),连接保护气体,气体流量较大,迅速冲出罩内残留空气,形成均匀稳定的保护气体氛围。
在图2所示的实施例中,激光器(8)通过光路射入喷嘴(11),送粉机(9)和保护气(10)均与喷嘴(11)上的入口相连,形成气体保护送粉状态。

Claims (4)

1.一种可以提供气体保护氛围的激光熔敷喷嘴,由气体保护罩、送气层、送粉层和激光和气体共用层组成,其特征是,最外侧气体保护罩由钢化玻璃制成,其余各部分均为纯铜,各层之间通过螺纹连接,由外往内分别是:气体保护罩、送气层、送粉层和激光和气体共用层。
2.根据权利要求1所述的可以提供气体保护氛围的激光熔敷喷嘴,其特征是,当保护气同时通入送气层、气体保护层和激光和气体共用层时,可以形成均匀稳定的气体保护氛围。
3.根据权利要求1所述的可以提供气体保护氛围的激光熔敷喷嘴,其特征是,装卸方便,各部件由螺纹连接,随装随用。
4.根据权利要求1所述的可以提供气体保护氛围的激光熔敷喷嘴,其特征是,气体保护罩由钢化玻璃制成,便于观察熔敷情况。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107130240A (zh) * 2017-06-29 2017-09-05 温州大学 激光熔覆喷嘴、激光熔覆装置及激光覆熔方法
CN107876764A (zh) * 2017-11-16 2018-04-06 清华大学 一种激光成型头及在激光立体成型过程中的氧化控制方法

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