CN206052150U - 用于真空高温烤炉的烤盘挡板及石墨烤架 - Google Patents

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陈奉顺
王刚
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Abstract

本实用新型公开了一种用于真空高温烤炉的烤盘挡板及石墨烤架,该烤盘挡板包括烤盘挡板主体和固定卡槽,所述烤盘挡板主体的上半部呈圆弧形,所述固定卡槽设于所述烤盘挡板主体的中部或下部,用于将该烤盘挡板安装于一烤架上。采用所述烤盘挡板的烤架可以节省烤架的烤盘空间,增加生产烤盘数量,提高产能,且可重复利用,有效降低使用成本,且无需对外延其他生产机台进行设备、管路以及软件程序的改造,兼容性强。

Description

用于真空高温烤炉的烤盘挡板及石墨烤架
技术领域
本实用新型涉及高真空高温处理领域,特别涉及一种用于MOCVD设备外延(Epitaxy)的辅助设备。
背景技术
MOCVD设备在外延(Epitaxy)制程过程中会产生大量的coating附着在石墨盘的表面,该coating为族元素的高纯金属有机化合物(MO源)和族元素的氢化物经过高温、低压反应产生的易燃、易爆、高温、高腐蚀性的固体颗粒。
真空高温烤炉就是在高温、真空的环境下,通过一定工艺,将这些附着物从石墨盘上清除,以保证石墨盘再次利用时能够满足外延工艺的需求。目前行业内的高温烤炉均采用石墨陪盘,用于保护正常工作盘的烤盘处理,保证正常石墨盘在真空高温烤炉腔体内不受气流的影响导致石墨盘表面的异常,如附着上未高温处理掉的外延镀膜附生物。但此设计存在以下缺陷:
(1)一般单个石墨烤架可放置6块石墨盘,高温烤炉目前可放置3个烤架,共烤盘18块,但是需要放置2块石墨陪盘,所以烤炉每次就会减少产出2块石墨盘,降低了烤炉的利用率,相对增加了烤炉的成本;
(2)报废的石墨盘会作为石墨陪盘使用,这样会增加石墨盘的需求数量,增加外延的成本;
(3)石墨陪盘的厚度一般为15mm,材质过厚导致烤炉在升温和降温时间加长,进一步影响产能;
(4)石墨陪盘的重量一般达10.5kg,陪盘过重会影响烤炉人员的操作,降低作业人员的稼动力。
发明内容
为了克服上述现有设计的不足,本实用新型旨在提供一种用于高温烤炉设备的烤盘挡板及石墨烤架,以有效阻挡因气流而使外延镀膜附生物附着在量产石墨盘上,保证烤盘的成功率,而且该烤盘挡板可以提高石墨烤架的使用率,增加烤盘数量,进而提高高温烤炉的产能,节约成本。
本实用新型的技术方案为,用于真空高温烤炉的烤盘挡板,包括:烤盘挡板主体和固定卡槽,所述烤盘挡板主体的上半部呈圆弧形,所述固定卡槽设于所述烤盘挡板主体的中部或下部,用于将该烤盘挡板安装于一烤架上。
优选地,所述烤盘挡板主体的上半部的边缘具有切角。
优选地,所述烤盘挡板主体为呈圆盘状,其上半部的边缘具有切角。
优选地,所述固定卡槽设有一卡槽构件,所述卡槽构件通过螺丝固定于所述烤盘挡板主体的内侧。
优选地,所述卡槽构件呈“『”状,为一体成型式,以增加所述固定卡槽的强度。
优选地,所述烤盘挡板主体的厚度为2~10mm。
本实用新型同时提供了一种用于真空高温烤炉的石墨烤架,包括:复数支平行横向放置的支架,每支所述支架上设置有一系列烤盘卡槽,在所述支架的两个端部分别设置有支撑构件,用于支撑并固定所述支架,所述支架之两个端部的支撑构件上分别安装有前述任意一种烤盘挡板。
优选地,所述烤盘卡槽设有台阶面。
优选地,所述烤盘卡槽的台阶面具有倒角结构。
优选地,所述支架的两个端部设有螺柱,用于固定于所述支撑构件上,所述螺柱的直径为20~30nm。
本实用新型至少具备以下有益效果:
(1)通过盘挡板代替原来的石墨陪盘,可节省两个卡槽的位置来放置正常的生产盘,可以有效提高产能,降低成本;
(2)所述烤盘挡板可为石墨圆盘和卡槽构件通过螺丝固定而成,容易安装拆卸,可根据高温烤炉设备的大小以及石墨烤架的规格可以更改石墨烤架挡板的直径、厚度、卡槽的深度等,适用性强,可以应用于不同型号的烤炉;
(3)设计烤盘挡板的上部为圆弧形以、边缘设有切角,将真空高温炉内的气流分配更均匀,防止扰流将粉尘附着到正常石墨盘表面上。
(4)所述烤架挡板的重量和体积远小于石墨陪盘,易于人员的操作,节省烤炉的利用空间,且无需对外延高温烤炉进行设备、管路以及软件程序的改造,兼容性强。
本实用新型的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述,并且,部分地从说明书中变得显而易见,或者通过实施本发明而了解。本实用新型的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
附图说明
附图用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的限制。此外,附图数据是描述概要,不是按比例绘制。
图1为根据本实用新型实施的一种用于高温烤炉设备的烤盘挡板的三维示意图。
图2为图1所示烤盘挡板的主体结构示意图,其为一圆盘结构。
图3为图1所示烤盘挡板的固定卡槽构件的结构示意图。
图4-5为根据本实用新型实施的一种用于高温烤炉设备的石墨烤架以及其挡板的三维示意图。
图6为图4所示石墨烤架的烤盘支架三维示意图。
元件标号说明:
100:烤盘挡板;110:烤盘挡板主体;110a:烤盘挡板主体的上半部;120:烤盘挡板主体的边缘;130:卡槽构件;131:固定卡槽;132:卡槽构件上的螺孔;133:螺丝;140:螺孔;200:石墨烤架;210:支架;211:烤盘卡槽;212:倒角;213:支架的螺柱;220:支撑构件;230:螺母300:石墨烤盘。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施案例对本实用新型作进一步的详细描述,有关本实用新型的相关技术内容,特点和功效,将可以清楚的呈现。
请参看图1,根据本实用新型实施的一种用于高温烤炉设备的烤盘挡板100,包括挡板主体110和卡槽构件130,其中卡槽构件130与挡板主体之间形成固定卡槽131,用于将该烤盘挡板安装于烤盘烤架上。挡板主体100以线A为界线划分为上半部110a和下半部110b,上半部110a根据烤盘的形状进行设计,一般呈圆弧形,作为遮挡区域用于保护烤盘,其边缘110设有切角,从而可将真空高温炉内的气流分配更均匀,防止扰流将粉尘附着到正常石墨盘表面上,固定卡槽构件130设置于下半部110b,并在下半部形成固定卡槽131。
具体的,该烤架挡板主体110采用石墨材质,厚度为2mm-10mm。请参看图2,在一个较佳中实施例中,挡板主体110为圆盘,在下半部110b设一排螺孔140,该圆盘的厚度为5mm,直径为710mm,圆盘表面及倒角处打磨加工,圆盘厚度减少了实体的重量。
请参看图3,卡槽构件130呈“『”状,为一体成型式,采用石墨材质。该卡槽构件上同样设有与烤盘挡板主体110上的螺孔140相对应的螺孔132。该卡曹构件通过螺丝133固定于挡板主体110上。较佳的,卡槽构件的长度a为640mm,宽度b为40mm,高度c为60mm,纵向切面高度d为30mm,横向切面长度e为25mm,螺丝133的长度30mm,其中纵向切面高度增加卡槽构件的强度,横向切面长度避免了卡槽构件130与量产烤盘的接触,螺丝133的长度保证了卡槽构件140受力的强度,避免因圆盘的重量使其断裂。
图4显示了安装有图1所示的烤盘挡板的石墨烤架200,为更清楚显示烤架有内部结构,仅在烤架的一个端部安装烤盘挡板100。该石墨烤架200包括:烤盘支架210、用于支撑烤盘支架210的支撑构件220及烤盘挡板100。其中烤盘支架210平行横向放置,并在两个端部通过支撑构件220支撑。每支烤盘支架210上设有烤盘卡槽211,用于放置烤盘。其中支撑构件220为板状结构,烤盘挡板100通过固定卡槽131安装于支撑构件上。
图5显示了另一种安装有图1所示的烤盘挡板的石墨烤架200,在本实施例中,烤盘支架两端的螺柱213采用加粗结构,达20mm~30mm,并在螺柱位于支撑构件22外侧的部分套设螺母230,减少整个石墨烤架因支架脱落而解体的风险。
图6显示了根据本实用新型实施的较佳的一个烤盘支架210。在该支架210的卡槽211具有台阶面,符合石墨盘300边缘进行设计,利用下表面卡入卡槽211内,减少对上表面的碰触,保护石墨盘300与卡槽211的接触面。进一步地,该台阶面具有倒角,进一步保护石墨盘与卡槽的接触面。
本实施例所公开的石墨烤架应用于高温烤炉中,至少具有以下有益效果:(一)增加真空高温烤炉年化产量提高12%;(二)减少石墨盘真空高温处理不良率;(三)加固石墨盘烤架,减少损坏。
应当理解的是,上述具体实施方案为本实用新型的优选实施例,本实用新型的范围不限于该实例,凡依照本实用新型所做的任何变更,皆属本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.用于真空高温烤炉的烤盘挡板,包括:烤盘挡板主体和固定卡槽,所述烤盘挡板主体的上半部呈圆弧形,所述固定卡槽设于所述烤盘挡板主体的中部或下部,用于将该烤盘挡板安装于一烤架上。
2.根据权利要求1所述的用于真空高温烤炉的烤盘挡板,其特征在于:所述烤盘挡板主体的上半部的边缘具有切角。
3.根据权利要求1所述的用于真空高温烤炉的烤盘挡板,其特征在于:所述烤盘挡板主体为呈圆盘状,其上半部的边缘具有切角。
4.根据权利要求1所述的用于真空高温烤炉的烤盘挡板,其特征在于:所述固定卡槽设有一卡槽构件,所述卡槽构件通过螺丝固定于所述烤盘挡板主体的内侧。
5.根据权利要求4所述的用于真空高温烤炉的烤盘挡板,其特征在于:所述卡槽构件呈“『”状,为一体成型式,以增加所述固定卡槽的强度。
6.根据权利要求1所述的用于真空高温烤炉的烤盘挡板,其特征在于:所述烤盘挡板主体的厚度为2~10mm。
7.用于真空高温烤炉的石墨烤架,包括:复数支平行横向放置的支架,每支所述支架上设置有一系列烤盘卡槽,在所述支架的两个端部分别设置有支撑构件,用于支撑并固定所述支架,其特征在于:所述支架之两个端部的支撑构件上分别安装有前述权利要求1至6所述的任意一种烤盘挡板。
8.根据权利要求7所述的用于真空高温烤炉的石墨烤架,其特征在于:所述烤盘卡槽设有台阶面。
9.根据权利要求8所述的用于真空高温烤炉的石墨烤架,其特征在于:所述烤盘卡槽的台阶面具有倒角结构。
10.根据权利要求7所述的用于真空高温烤炉的石墨烤架,其特征在于:所述支架的两个端部设有螺柱,用于固定于所述支撑构件上,所述螺柱的直径为20~30nm。
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