CN205999074U - 用于清洗消毒的水处理系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型属于水处理装置技术领域,提出了用于清洗消毒的水处理系统,包括与软水器连接的氧化电位水生成器,氧化电位水生成器与酸性水储液箱和碱化水储液箱连接,酸性水储液箱出口通过与酸性水输送管道连接,酸性水输送管道上设置有输送泵和流量计,出口处设置有电磁阀,输送泵和电磁阀均与控制器连接,控制器与输入终端连接,还包括设置在酸性水储液箱内且与控制器连接的液位计一。通过上述技术方案,解决了现有技术中水处理系统浪费的问题。
Description
技术领域
本实用新型属于水处理装置技术领域,涉及用于清洗消毒的水处理系统。
背景技术
医院感染的预防和控制一直是各级医院日常管理的重要内容,医院消毒技术直接影响到医院内感染控制的效果。氧化电位水具有杀菌谱广、杀菌迅速、对皮肤及黏膜无刺激性、与光线、空气及有机物接触可逐渐还原成普通自来水,作用15-30秒可完全杀灭大肠杆菌、绿脓杆菌、金黄色葡萄糖球均、淋球菌等细菌繁殖体:作用30秒能完全破坏乙肝表面抗原、杀灭艾滋病病毒,因此采用氧化电位水进行消毒是一种安全性好、消毒效果好的办法,但是现有技术中的消毒系统在使用过程中存在浪费的问题,因此,发明一种节约资源的水处理系统还是很有必要的。
实用新型内容
本实用新型提出用于清洗消毒的水处理系统,解决了现有技术中水处理系统浪费的问题。
本实用新型的技术方案是这样实现的:
用于清洗消毒的水处理系统,包括:
与软水器连接的氧化电位水生成器,所述氧化电位水生成器与酸性水储液箱和碱化水储液箱连接,所述酸性水储液箱出口通过与酸性水输送管道连接,所述酸性水输送管道上设置有输送泵和流量计,出口处设置有电磁阀,所述输送泵和所述电磁阀均与控制器连接,所述控制器与输入终端连接。
进一步,还包括设置在所述酸性水储液箱内且与所述控制器连接的液位计一。
进一步,还包括设置在所述氧化电位水生成器与所述酸性水储液箱之间管路上的PH计、OPR计和Cl离子检测计,所述氧化电位水生成器、所述PH计、所述OPR计和所述Cl离子检测计均与控制器连接,所述控制器与报警装置连接。
进一步,所述酸性水储液箱包括内层和外层,其中所述内层为耐酸塑料内层,所述外层为金属外层。
进一步,还包括设置在所述软水器与所述氧化电位水生成器之间的软水储箱,所述软水储箱内设置有与所述控制器连接的液位计二。
进一步,还包括设置在所述氧化电位水生成器上方的清洗液储槽,所述清洗液储槽出口依次与所述氧化电位水生成器和所述碱化水储液箱连接,所述清洗液储槽上设置有与所述控制器连接的清洗电磁阀。
进一步,所述酸性水储液箱内设置有搅拌装置。
本实用新型的有益效果为:
1、通过在酸性水输送管道上设置与控制器连接的电磁阀,用户将需要的流量通过输入终端传送至控制器,控制器控制电磁阀出水,并通过流量计统计,达到输入流量后,控制器控制电磁阀关闭,达到不浪费的目的,从而节省资源。
2、酸性水储液箱内的液位计一能实时监控酸性水储液箱内的液位,使储液箱内的液位始终保持在一定位置,可以能储存一定量的酸性氧化电位水,防止突发情况下供应不足。
3、氧化电位水生成器与酸性水储液箱之间管路上的pH计、OPR计和Cl离子检测计可以对氧化电位水生成器生成的氧化电位水进行实时监控,当生成的氧化电位水的PH、OPR和Cl离子不符合要求时,控制器传送至报警装置,报警装置提示工作人员进行相关调整。
4、酸性水储液箱内层为耐酸塑料内层,可以防止长时间储存酸性氧化电位水对储液箱造成的腐蚀,影响系统的正常使用;软水器和氧化电位水生成器之间的软水储箱可以储存一部分软水,用以供应氧化电位水生成器工作,防止突然停水引起的供应不足,提高水处理系统的应变能力。
5、清洗液储槽内储存清洗液,当本系统长时间使用后,控制器控制清洗电磁阀打开,清洗液从氧化电位水生成器和碱化水储液箱内进行清洗,避免杂质的沉积对系统造成音响;搅拌装置可以使酸性水储液箱内的酸性水保持均匀,增加系统的稳定性。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
图1为本实用新型结构示意图;
图2为本实用新型控制结构框线示意图;
图中:1-软水器,2-氧化电位水生成器,3-酸性水储液箱,4-碱化水储液箱,5-酸性水输送管道,6-输送泵,7-流量计,8-电磁阀,9-控制器,10-输入终端,11-液位计一,12-PH计,13-OPR计,14-Cl离子检测计,15-报警装置,16-软水储箱,17-液位计二,18-清洗液储槽,19-清洗电磁阀,20-搅拌装置。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
如图1-图2所示,本实用新型提出了用于清洗消毒的水处理系统,包括:
与软水器1连接的氧化电位水生成器2,氧化电位水生成器2与酸性水储液箱3和碱化水储液箱4连接,酸性水储液箱3出口通过与酸性水输送管道5连接,酸性水输送管道5上设置有输送泵6和流量计7,出口处设置有电磁阀8,输送泵6和电磁阀8均与控制器9连接,控制器9与输入终端10连接。
通过在酸性水输送管道5上设置与控制器9连接的电磁阀8,用户将需要的流量通过输入终端10传送至控制器9,控制器9控制电磁阀8出水,并通过流量计统计,达到输入流量后,控制器9控制电磁阀8关闭,达到不浪费的目的,从而节省资源。
进一步,还包括设置在酸性水储液箱3内且与控制器9连接的液位计一11。
酸性水储液箱3内的液位计一11能实时监控酸性水储液箱3内的液位,使储液箱内的液位始终保持在一定位置,可以能储存一定量的酸性氧化电位水,防止突发情况下供应不足。
进一步,还包括设置在氧化电位水生成器2与酸性水储液箱3之间管路上的PH计12、OPR计13和Cl离子检测计14,氧化电位水生成器2、PH计12、OPR计13和Cl离子检测计14均与控制器9连接,控制器9与报警装置15连接。
氧化电位水生成器2与酸性水储液箱3之间管路上的pH计12、OPR计13和Cl离子检测计14可以对氧化电位水生成器2生成的氧化电位水进行实时监控,当生成的氧化电位水的PH、OPR和Cl离子不符合要求时,控制器9传送至报警装置15,报警装置15提示工作人员进行相关调整。
进一步,酸性水储液箱3包括内层和外层,其中内层为耐酸塑料内层,外层为金属外层。
进一步,还包括设置在软水器1与氧化电位水生成器2之间的软水储箱16,软水储箱16内设置有与控制器9连接的液位计二17。
酸性水储液箱3内层为耐酸塑料内层,可以防止长时间储存酸性氧化电位水对储液箱造成的腐蚀,影响系统的正常使用;软水器1和氧化电位水生成器2之间的软水储箱16可以储存一部分软水,用以供应氧化电位水生成器2工作,防止突然停水引起的供应不足,提高水处理系统的应变能力。
进一步,还包括设置在氧化电位水生成器2上方的清洗液储槽18,清洗液储槽18出口依次与氧化电位水生成器2和碱化水储液箱4连接,清洗液储槽18上设置有与控制器9连接的清洗电磁阀19。
进一步,酸性水储液箱3内设置有搅拌装置20。
清洗液储槽18内储存清洗液,当本系统长时间使用后,控制器9控制清洗电磁阀19打开,清洗液从氧化电位水生成器2和碱化水储液箱4内进行清洗,避免杂质的沉积对系统造成音响;搅拌装置20可以使酸性水储液箱3内的酸性水保持均匀,增加系统的稳定性。
以上仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (7)
1.用于清洗消毒的水处理系统,其特征在于:包括与软水器(1)连接的氧化电位水生成器(2),所述氧化电位水生成器(2)与酸性水储液箱(3)和碱化水储液箱(4)连接,所述酸性水储液箱(3)出口通过与酸性水输送管道(5)连接,所述酸性水输送管道(5)上设置有输送泵(6)和流量计(7),出口处设置有电磁阀(8),所述输送泵(6)和所述电磁阀(8)均与控制器(9)连接,所述控制器(9)与输入终端(10)连接。
2.根据权利要求1所述的用于清洗消毒的水处理系统,其特征在于:还包括设置在所述酸性水储液箱(3)内且与所述控制器(9)连接的液位计一(11)。
3.根据权利要求1所述的用于清洗消毒的水处理系统,其特征在于:还包括设置在所述氧化电位水生成器(2)与所述酸性水储液箱(3)之间管路上的PH计(12)、OPR计(13)和Cl离子检测计(14),所述氧化电位水生成器(2)、所述PH计(12)、所述OPR计(13)和所述Cl离子检测计(14)均与控制器(9)连接,所述控制器(9)与报警装置(15)连接。
4.根据权利要求1所述的用于清洗消毒的水处理系统,其特征在于:所述酸性水储液箱(3)包括内层和外层,其中所述内层为耐酸塑料内层,所述外层为金属外层。
5.根据权利要求1所述的用于清洗消毒的水处理系统,其特征在于:还包括设置在所述软水器(1)与所述氧化电位水生成器(2)之间的软水储箱(16),所述软水储箱(16)内设置有与所述控制器(9)连接的液位计二(17)。
6.根据权利要求1所述的用于清洗消毒的水处理系统,其特征在于:还包括设置在所述氧化电位水生成器(2)上方的清洗液储槽(18),所述清洗液储槽(18)出口依次与所述氧化电位水生成器(2)和所述碱化水储液箱(4)连接,所述清洗液储槽(18)上设置有与所述控制器(9)连接的清洗电磁阀(19)。
7.根据权利要求1所述的用于清洗消毒的水处理系统,其特征在于:所述酸性水储液箱(3)内设置有搅拌装置(20)。
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