CN205979155U - 一种原子层沉积ald液态源的储存装置 - Google Patents
一种原子层沉积ald液态源的储存装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN205979155U CN205979155U CN201620415539.8U CN201620415539U CN205979155U CN 205979155 U CN205979155 U CN 205979155U CN 201620415539 U CN201620415539 U CN 201620415539U CN 205979155 U CN205979155 U CN 205979155U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- source
- bottle
- ald
- diaphragm valve
- storage device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
Abstract
本实用新型公开了一种原子层沉积(ALD)液态源的储存装置,包括源瓶瓶体,所述源瓶瓶体内部顶部为弧形顶面,所述源瓶瓶体内部底部中心为U型储源槽,所述源瓶瓶体外侧顶部设有1/2VCR口,所述1/2VCR口两侧分别连接隔膜阀一和隔膜阀二,所述隔膜阀一用于接通载气,所述隔膜阀二为源蒸汽出口。本实用新型提供的一种原子层沉积(ALD)液态源的储存装置,实现了ALD源与水、氧的绝对隔绝,更能提高了ALD源在工艺过程中较高的利用率,保证了ALD源储存的安全性,降低ALD工艺过程成本,可以直接应用于ALD工艺的规模化应用。
Description
技术领域
本实用新型涉及ALD液态源储存领域,特别涉及一种原子层沉积ALD液态源的储存装置。
背景技术
液态源是电子行业的重要原料,在半导体器件及太阳能电池片生产过程中,液态源的使用非常广泛,在常温下,液态源蒸汽压很低,以液态存在,但必须转化气态才能参与工艺反应,而由于液态源具有较高的反应活性,需要做到对水、氧的绝对隔绝,所以需要专门的容器对ALD液态源进行储存。
又如专利公布号为CN202074230U公开了一种液态源汽化装置,包括汽化容器,其中,所述汽化容器顶部开孔插有鼓泡管路、压力表和液位计,所述汽化容器设有内部电加热棒和外部加热器,所述汽化容器出口处设置有质量流量计和蒸汽出口阀门。本实用新型提供的液态源汽化装置,通过设置鼓泡管路、内部电加热棒和外部加热器,使用流量控制模块、压力控制装置和温度控制装置共同调节汽化容器输出的气体量,根据用气量切换蒸发和鼓泡模式,使系统同时适用于不同用量的液态源汽化系统,大大改善了可操作性和灵活性。又如专利公布号为CN203310582U公开了一种液态源瓶检测装置。现有技术中通过两位人员手工操作来检测源瓶的气密性和通畅性,存在着安全可靠性差和经济性差的问题。本实用新型的液态源瓶检测装置用于检测源瓶是否通畅或漏气,所述源瓶包括用于通入鼓泡气体的入口管和通出源蒸汽的出口管,所述液态源瓶检测装置包括用于连接至所述入口管且经由所述入口管向装有源的源瓶中通入预设流量的检测气体的检验气路,设置在所述检验气路上用于控制检测气体是否通入源瓶的控制阀,以及设置在检验气路上用于侦测检验气路上的气压是否超过预设压力且在超过时控制控制阀动作以停止向源瓶中通入检测气体的压力侦测模块。本实用新型可提高源瓶气密性和通畅性检测的安全可靠性和经济性。又如专利公布号为CN203299661U公开了一种用半导体制冷片的液态源源温控制器,属于半导体器件制造设备技术领域。由外箱、内芯和控制器组成,内芯设置在外箱内,内芯与外箱之间设有海绵,内芯由内箱和芯体组成,芯体设有存放液态源的铝罐体和铝罐体外侧的半导体制冷片、紫铜片和散热器,所述铝罐体为空心圆柱体,圆柱体外侧面设有四个对称分布的矩形平面,铝罐体外侧的一个两相对的矩形平面上依次设置半导体制冷片、紫铜片和散热器,芯体设置在内箱中,半导体制冷片的电引出线连接控制器。本实用新型直接用珀尔帖半导体制冷片既作为制冷源又作为加热源,用改变加在半导体制冷片端子上电压的极性使流过两热偶材料结点面的电流换向,达到制冷或制热,控温精度高,寿命长,无 制冷剂污染。
目前ALD液态源瓶有不同规格,一方面还未有相关的专业报道,另一方面在实际应用时,已经出现ALD源利用率不高,蒸汽压不稳的现象,不仅给工艺控制带来麻烦,而且由于源的低利用率,增加了工艺成本。
实用新型内容
为了克服上述现有技术的不足,本实用新型提供一种原子层沉积ALD液态源的储存装置。一种原子层沉积ALD液态源的储存装置,包括源瓶瓶体,所述源瓶瓶体内部顶部为弧形顶面,所述源瓶瓶体内部底部中心为U型储源槽,所述源瓶瓶体外侧顶部设有1/2VCR口,所述1/2VCR口两侧的源瓶瓶体分别连接隔膜阀一和隔膜阀二,所述隔膜阀一用于接通载气,所述隔膜阀二为源蒸汽出口;所述隔膜阀一相对位置低于所述隔膜阀二;所述源瓶瓶体采用316L不锈钢材质,耐10个大气压压力,瓶内壁经电化学抛光,粗糙度小于0.2um;所述源瓶瓶体上设有液位计。
通过采用该装置,不仅提高了ALD源的利用率,降低成本;还能保证源蒸汽压的稳定,利于工艺参数的控制。与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:通过本技术方案,其一是,能够实现源的有效利用率达95%以上;其二是,能保证源特别是剩余微量时还能保证稳定的足够的蒸汽压。
附图说明
图1为一种原子层沉积ALD液态源的储存装置结构示意图;
具体实施方式
下面结合具体实施方式,进一步阐明本实用新型,应理解下述具体实施方式仅用于说明本实用新型而不用于限制本实用新型的范围。
实施例1
如图所示,本实用新型提供一种原子层沉积ALD液态源的储存装置,包括源瓶瓶体6,所述源瓶瓶体6采用316L不锈钢材质,耐10个大气压压力,瓶内壁经电化学抛光,粗糙度小于0.2um;所述源瓶瓶体6上设有用于测量瓶内液位的液位计7,所述源瓶瓶体6外侧顶部设有气压表9检测储存装置内气压,所述源瓶瓶体6外侧顶部设有温度表11检测储存装置内温度,所述源瓶瓶体6上设有把手10方便控制储存装置的移动,所述源瓶瓶体6外侧瓶底设有自锁式移动支架8方便储存装置的移动;所述源瓶瓶体6内部顶部为弧形顶面5,所述弧形顶面5能够保证源在使用过程中蒸汽压的稳定性;所述源瓶瓶体6内部底部中心为U型储源槽3,所述U型储源槽3不仅提高了源的使用率,还能保证源使用剩余微量时足够蒸汽压;所述源瓶瓶体6外侧顶部设有1/2VCR口4,所述1/2VCR口4两侧 的源瓶瓶体6上分别连接隔膜阀一1和隔膜阀二2,所述隔膜阀一1相对位置低于所述隔膜阀二2,所述隔膜阀一1用于接通载气,所述隔膜阀二2为源蒸汽出口。
ALD源首先通过1/2VCR口4灌装到源瓶瓶体6中,载气(氮气或氩气)连接到隔膜阀一1上端,并将源蒸汽通过隔膜阀二2带到ALD沉积腔体,进行ALD沉积工艺。
除上述实施例外,本实用新型还可以有其他实施方式。凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案,均落在本实用新型要求的保护范围。
Claims (1)
1.一种原子层沉积ALD液态源的储存装置,包括源瓶瓶体(6),其特征在于:所述源瓶瓶体(6)内部顶部为弧形顶面(5),所述源瓶瓶体(6)内部底部中心为U型储源槽(3),所述源瓶瓶体(6)外侧顶部设有1/2VCR口(4),所述1/2VCR口(4)两侧的源瓶瓶体(6)上分别连接隔膜阀一(1)和隔膜阀二(2),所述隔膜阀一(1)用于接通载气,所述隔膜阀二(2)为源蒸汽出口;所述隔膜阀一(1)相对位置低于所述隔膜阀二(2);所述源瓶瓶体(6)采用316L不锈钢材质,耐10个大气压压力,瓶内壁经电化学抛光,粗糙度小于0.2um;所述源瓶瓶体(6)上设有液位计(7)。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201620415539.8U CN205979155U (zh) | 2016-05-10 | 2016-05-10 | 一种原子层沉积ald液态源的储存装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201620415539.8U CN205979155U (zh) | 2016-05-10 | 2016-05-10 | 一种原子层沉积ald液态源的储存装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN205979155U true CN205979155U (zh) | 2017-02-22 |
Family
ID=58019358
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201620415539.8U Active CN205979155U (zh) | 2016-05-10 | 2016-05-10 | 一种原子层沉积ald液态源的储存装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN205979155U (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109440082A (zh) * | 2019-01-09 | 2019-03-08 | 合肥安德科铭半导体科技有限公司 | 一种防止前驱体液滴进入管线或腔体的源瓶 |
-
2016
- 2016-05-10 CN CN201620415539.8U patent/CN205979155U/zh active Active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109440082A (zh) * | 2019-01-09 | 2019-03-08 | 合肥安德科铭半导体科技有限公司 | 一种防止前驱体液滴进入管线或腔体的源瓶 |
CN109440082B (zh) * | 2019-01-09 | 2024-05-28 | 合肥安德科铭半导体科技有限公司 | 一种防止前驱体液滴进入管线或腔体的源瓶 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN103925759A (zh) | 用于热物性测量的宽温区控温恒温装置 | |
BR112021010196B1 (pt) | Sistema de utilização de calor e dispositivo de geração de calor | |
CN102809581A (zh) | 基于热保护法的低温真空多层绝热材料性能测试装置 | |
CN207993796U (zh) | 一种透射电子显微镜用原位样品杆 | |
CN101428243A (zh) | 半导体致冷酸蒸馏纯化器及纯化方法 | |
CN205979155U (zh) | 一种原子层沉积ald液态源的储存装置 | |
CN204730461U (zh) | 一种套管式相变储能单元 | |
CN101788347A (zh) | 准绝热密封型氩三相点复现装置 | |
CN202709542U (zh) | 一种冷镜式露点测试仪的制冷系统 | |
CN102563993B (zh) | 常压封闭氦气吸附式低温热开关 | |
CN205484152U (zh) | 一种量热法测量气体比定压热容的实验装置 | |
CN203628260U (zh) | 一种低温液体汽化装置 | |
CN207702126U (zh) | 一种专用于压力容器的双通道真空测量装置 | |
CN204057961U (zh) | 一种高纯度臭氧提取石英装置 | |
CN110096079A (zh) | 一种低温样品台的控制系统及方法 | |
CN213178841U (zh) | 使用二级媒介的流体加热装置 | |
CN208872094U (zh) | 一种管式热处理装置 | |
CN112730507B (zh) | 一种液体比热容测量系统及测量方法 | |
CN207179998U (zh) | 一种可清洁的液体加热装置 | |
CN208886382U (zh) | 一种制备稳定的低温冷源的系统 | |
CN208476717U (zh) | 一种精确测量吸附剂开式吸附水蒸气的装置 | |
CN206635037U (zh) | 一种石墨烯生长炉 | |
CN205803592U (zh) | 一种原子层沉积ald热态源的储存装置 | |
CN205985739U (zh) | 一种用于激光谐振腔中的温控装置 | |
CN214088656U (zh) | 用于气相沉积法的硫进气量控制装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20220217 Address after: 215600 Wuxin village, yangshe Town, Zhangjiagang City, Suzhou City, Jiangsu Province (north side of Zhangyang Road) Patentee after: SINOCOMPOUND CATALYSTS CO.,LTD. Address before: 215600 Zhangjiagang Economic Development Zone, Suzhou, Jiangsu Province Patentee before: SUZHOU FORNANO ELECTRONIC TECHNOLOGY Co.,Ltd. |
|
TR01 | Transfer of patent right |