CN205750200U - 一种高硬度电磁屏蔽增亮膜 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种高硬度电磁屏蔽增亮膜，其在提供增亮效果的同时可以阻隔吸收短波长蓝光，同时具有高硬度，提升了使用性能。本实用新型包含有上扩散膜、下扩散膜，上扩散膜上面设有高硬度层，上扩散膜下面设有上增亮膜，上增亮膜包含从下往上依次设置有A基材、抗电磁结构层和A棱锥结构层，下扩散膜上面设有下增亮膜，下增亮膜包含从下往上依次设置有B基材、B棱锥结构层；上增亮膜设置在下增亮膜上面。本实用新型能提高视觉效果，同时具有高硬度保护功能，增强了用户体验。

Description

一种高硬度电磁屏蔽增亮膜

技术领域

本实用新型涉及一种光学保护膜，尤其是涉及一种高硬度抗蓝光效果的增亮膜。

背景技术

液晶显示器有着能耗低、重量轻、无辐射、无闪烁等优点，是目前市面上主流的显示器，但液晶作为一种被动发光材料，需要依靠背光模组才能实现图像的显示，一般来说，背光模组由光源、反射膜、导光板、光学模组组成，其中光学模组包含下扩散膜、下增亮膜、上增亮膜、上扩散膜；扩散膜可将点光源或线光源转化成均匀的面光源，而增亮膜能将原本发散的光线集中至轴向方向，从而提高液晶显示器正视亮度。目前LED光源正逐渐取代传统的CCFL灯源成为主流的背光源，而一般白光LED光源发出的白光是由LED芯片发出的蓝光和激发荧光粉产生的黄光混合而成，然而LED光源大量的蓝光对对眼镜的伤害极大，对眼睛伤害最大的就在360nm～500nm之间的高能短波蓝光。它会直接穿透角膜，对眼底中的视网膜造成伤害，导致黄斑区病变，尤其是450nm～460nm这一区间，伤害最大。在保证显色性的前提下，应尽量减少蓝光，特别是短波长蓝光的含量，以降低蓝光对眼睛的伤害。传统增亮膜一般安置在屏内，而且没有减反射抗蓝光功能，这直接让短波长蓝光穿透增亮膜直接到达观察者的眼睛，周围强光导致屏幕模糊，对其眼睛造成直接的伤害。而目前市场上的增亮膜功能比较单一，不具备高硬度、抗蓝光的功能，不能满意满足市场的需求。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了克服现有技术的不足，提供一种高硬度电磁屏蔽增亮膜，该增亮膜能实现空间多方向光学增益效果，其在提供增亮效果的同时可以阻隔吸收短波长蓝光，减少背光模组发出的蓝光对使用者眼睛的伤害，同时具有高硬度，提升了使用性能。

为达到上述目的，本实用新型采用以下方案：

一种高硬度电磁屏蔽增亮膜，包含有上扩散膜、下扩散膜，上扩散膜上面设有高硬度层，上扩散膜下面设有上增亮膜，上增亮膜包含从下往上依次设置有A基材、抗电磁结构层和A棱锥结构层，下扩散膜上面设有下增亮膜，下增亮膜包含从下往上依次设置有B基材、B棱锥结构层；上增亮膜设置在下增亮膜上面；A基材包含第一光学面和第二光学面，抗电磁结构层与A棱锥结构层设置在A基材的同一光学面，抗电磁结构层设置在A基材的第一光学面上，抗电磁结构层上面设置有A棱锥结构层；B棱锥结构层设置在B基材上面；A基材设置在B棱锥结构层上面。

在其中一些实施例中，所述抗电磁结构层为加入有抗电磁波材料的丙烯酸类树脂层；高硬度层是二氧化硅膜、二氧化锆膜或三氧化二铝膜。

在其中一些实施例中，所述A棱锥结构层由若干平行的丙烯酸类树脂A棱锥单体组成，A棱锥单体平行分布设置在A基材上；若干A棱锥单体平行分布设置组成A棱锥结构层；B棱锥结构层由若干平行的丙烯酸类树脂B棱锥单体组成，B棱锥单体平行分布设置在B基材上；若干B棱锥单体平行分布设置组成B棱锥结构层。

A棱镜结构层与B棱镜结构层的棱镜单体长度方向相互垂直，即A棱锥单体与B棱锥单体长度方向相互垂直。

在其中一些实施例中，所述A基材、B基材厚度d0为30～150μm，A棱锥结构层、B棱锥结构层厚度d2为12～25μm，抗电磁结构层厚度d1为2～8μm，高硬度层厚度为9～25μm；A基材、B基材材料为聚酯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜的一种，A基材、B基材材料透光率在90％以上，雾度小于1％。

在其中一些实施例中，所述A棱锥单体、B棱锥单体的底面呈正多边形，A棱锥单体、B棱锥单体截面为一等腰三角形，A棱锥单体、B棱锥单体的顶角为一尖角，等腰三角形顶角角度α为85～95°；A棱锥单体、B棱锥单体的等腰三角形底边边长d3为24～50μm。

在其中一些实施例中，所述A棱锥结构层、B棱锥结构层为丙烯酸UV固化树脂层。

在其中一些实施例中，所述A棱锥单体的顶部为一圆顶，A棱锥单体顶部的圆顶半径大小为3～8μm，A棱锥单体圆顶(相邻顶部圆顶)之间的间距d4为12～35μm。

本实用新型能同时实现空间多方向光学增益效果，其在提供亮度增益的同时，能有效吸收背光源发出的短波蓝光，减少液晶显示短波蓝光对使用者眼睛的伤害，提高视觉效果，同时具有高硬度保护功能，高硬度效果好，增强用户体验，优化增亮膜的功能，利于光学膜的大规模生产。

附图说明

图1为本实用新型实施例的结构示意图；

图2为本实用新型实施例的立体示意图；

图3为本实用新型实施例上增亮膜的结构示意图；

图4为本实用新型实施例下增亮膜的结构示意图。

附图标记说明：

上扩散膜15，下扩散膜16，上增亮膜20，A基材21，A棱锥结构层22，抗电磁结构层23，A棱锥单体25，下增亮膜30，B基材31，B棱锥结构层32，B棱锥单体35，高硬度层40。

具体实施方式

为能进一步了解本实用新型的特征、技术手段以及所达到的具体目的、功能，解析本实用新型的优点与精神，藉由以下通过实施例对本实用新型做进一步的阐述。

本实用新型的具有高硬度电磁屏蔽增亮膜(上增亮膜20、下增亮膜30)，A基材21上设有A棱锥结构层22，其A棱锥结构层22由多个平行分布的A棱锥单体25组成，全部的A棱锥单体25平行分布设置在A基材21上。B基材31上设有B棱锥结构层32，B棱锥结构层32由多个平行分布的B棱锥单体35组成，全部的B棱锥单体35平行分布设置在B基材31上。

A棱锥结构层22、B棱锥结构层32高度d2为17～20μm，A棱锥单体25、B棱锥单体35的底面呈正多边形，A棱锥单体25、B棱锥单体35截面为一等腰三角形；A棱锥单体25、B棱锥单体35的顶角为一尖角，等腰三角形顶角角度α为85～95°；A棱锥单体25、B棱锥单体35的等腰三角形底边边长d3为35～42μm。

A基材21、B基材31厚度d1为30～150μm，抗电磁结构层23厚度d0为3～5μm。

在其中一个实施例中，A基材21、B基材31为PET膜、PMMA膜或PC膜，其厚度d1为115μm。A棱锥结构层22、B棱锥结构层32为丙烯酸UV固化树脂层。抗电磁结构层23厚度d0为4μm。

该光学膜组主要为液晶显示面板提供足够亮度的均一照明光源，均一程度主要由上扩散膜15、下扩散膜16提供，下增亮膜30、上增亮膜20可提高均一光源的轴向亮度，节省电能，延长电池使用时间。

在其中一个实施例中，抗电磁结构层23设置在A基材21的第一光学面，抗电磁结构层23上面设置A棱锥结构层22。

在其中一些实施例中，上扩散膜15上面设有高硬度层40，高硬度层40采用二氧化硅膜、二氧化锆膜或三氧化二铝膜，属于超硬度耐磨材料，具有较好的硬度效果。本实用新型具有高硬度作用，使所保护的表面不受破坏和污染，适用于各类电子产品屏幕的保护。

A棱锥单体25、B棱锥单体35截面为一等腰三角形，棱镜单体的顶角为一尖角，等腰三角形顶角的角度α为85～95°；A棱锥单体25、B棱锥单体35的底边为方形，A棱锥单体25、B棱锥单体35的等腰三角形底边的边长d3为24～50μm。

A棱锥单体25、B棱锥单体35的顶部为一圆顶，A棱锥单体25、B棱锥单体35顶部的圆顶半径大小为3～8μm，A棱锥单体25、B棱锥单体35圆顶(相邻顶部圆顶)之间的间距d4为12～35μm。抗电磁结构层23厚度d1为11～14μm，高硬度层40厚度为15～20μm。

在其中一些实施例中，抗电磁结构层23的厚度为12μm，A棱锥单体25、B棱锥单体35之间的间距d4为27μm，A棱锥单体25、B棱锥单体35截面为等腰三角形，顶角角度为88°。

抗电磁结构层23为加入有抗电磁波材料的丙烯酸类树脂层，抗电磁结构层23的原料组成及重量份为：

丙烯酸类树脂 40～75份，

抗电磁波材料 8～26份；

抗电磁波材料的原料组成及重量份为：

溶剂为松油醇与无水乙醇混合，增稠剂为乙基纤维素，分散剂为司班-85；

溶剂为松油醇：1～5份与无水乙醇：45～65份的混合。

A基材21、B基材31材料为聚酯薄膜(PET)。A基材21、B基材31材料透光率为92％，雾度为0.5％。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的部分实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (7)

1.一种高硬度电磁屏蔽增亮膜，包含有：上扩散膜(15)、下扩散膜(16)，其特征在于，所述上扩散膜(15)上面设有高硬度层(40)，所述上扩散膜(15)下面设有上增亮膜(20)，所述上增亮膜(20)包含从下往上依次设置有A基材(21)、抗电磁结构层(23)和A棱锥结构层(22)，所述下扩散膜(16)上面设有下增亮膜(30)，所述下增亮膜(30)包含从下往上依次设置有B基材(31)、B棱锥结构层(32)；所述上增亮膜(20)设置在下增亮膜(30)上面；

所述A基材(21)包含第一光学面和第二光学面，所述抗电磁结构层(23)与A棱锥结构层(22)设置在A基材(21)的同一光学面，所述抗电磁结构层(23)设置在A基材(21)的第一光学面上，所述抗电磁结构层(23)上面设置有A棱锥结构层(22)；

所述B棱锥结构层(32)设置在B基材(31)上面；所述A基材(21)设置在B棱锥结构层(32)上面。

2.根据权利要求1所述的一种高硬度电磁屏蔽增亮膜，其特征在于，所述高硬度层(40)是二氧化硅膜、二氧化锆膜或三氧化二铝膜。

3.根据权利要求2所述的一种高硬度电磁屏蔽增亮膜，其特征在于，所述A棱锥结构层(22)由若干平行的丙烯酸类树脂A棱锥单体(25)组成，所述A棱锥单体(25)平行分布设置在A基材(21)上；若干A棱锥单体(25)平行分布设置组成A棱锥结构层(22)；

所述B棱锥结构层(32)由若干平行的丙烯酸类树脂B棱锥单体(35)组成，所述B棱锥单体(35)平行分布设置在B基材(31)上；若干B棱锥单体(35)平行分布设置组成B棱锥结构层(32)；所述A棱锥单体(25)与B棱锥单体(35)长度方向相互垂直。

4.根据权利要求3所述的一种高硬度电磁屏蔽增亮膜，其特征在于，所述A基材(21)、B基材(31)厚度d0为30～150μm，所述A棱锥结构层(22)、B棱锥结构层(32)厚度d2为12～25μm，所述抗电磁结构层(23)厚度d1为2～8μm，所述高硬度层(40)厚度为9～25μm；

所述A基材(21)、B基材(31)材料为聚酯薄膜、聚碳酸酯薄膜或聚甲基丙烯酸甲酯膜，所述A基材(21)、B基材(31)材料透光率在90％以上，雾度小于1％。

5.根据权利要求3所述的一种高硬度电磁屏蔽增亮膜，其特征在于，所述A棱锥单体(25)、B棱锥单体(35)的底面呈正多边形，所述A棱锥单体(25)、B棱锥单体(35)截面为一等腰三角形，所述A棱锥单体(25)、B棱锥单体(35)的顶角为一尖角，等腰三角形顶角角度α为85～95°；所述A棱锥单体(25)、B棱锥单体(35)的等腰三角形底边边长d3为24～50μm。

6.根据权利要求1所述的一种高硬度电磁屏蔽增亮膜，其特征在于，所述A棱锥结构层(22)、B棱锥结构层(32)为丙烯酸UV固化树脂层。

7.根据权利要求3所述的一种高硬度电磁屏蔽增亮膜，其特征在于，所述A棱锥单体(25)的顶部为一圆顶，A棱锥单体(25)顶部的圆顶半径大小为3～8μm，A棱锥单体(25)圆顶之间的间距d4为12～35μm。