CN205671192U

CN205671192U - 一种室温铁皮石斛立体栽培装置

Info

Publication number: CN205671192U
Application number: CN201620608682.9U
Authority: CN
Inventors: 琚淑明; 谭雪红; 孙萌; 梁峙
Original assignee: Xuzhou University of Technology
Current assignee: Xuzhou University of Technology
Priority date: 2016-06-21
Filing date: 2016-06-21
Publication date: 2016-11-09
Anticipated expiration: 2026-06-21

Abstract

本实用新型公开了一种室温铁皮石斛立体栽培装置，由透光保温棚，营养基输送装置，营养基原液池，栽培立体架，控制系统，温控传感器，湿度传感器组成；所述透光保温棚由透光保温薄膜组成，透光保温棚总高度不少于2.5 m；所述营养基输送装置位于透光保温棚内部地平面，营养基输送装置抽水管一端连接有营养基原液池，所述控制系统位于营养基原液池一侧，所述栽培立体架位于透光保温棚内部，栽培立体架通过膨胀螺钉固定在地面，所述温控传感器及湿度传感器位于透光保温棚内部顶面，温控传感器及湿度传感器与控制系统导线控制连接。本实用新型所述的一种室温铁皮石斛立体栽培装置结构新颖合理，空间利用率广，存活率高，适用范围广阔。

Description

一种室温铁皮石斛立体栽培装置

技术领域

本实用新型属于花卉养殖或花卉美观装置领域，具体涉及一种室温铁皮石斛立体栽培装置。

背景技术

铁皮石斛是兰科草本植物。茎直立，圆柱形，长9～35厘米，粗2～4毫米，不分枝，具多节，节间长1～3厘米，常在中部以上互生3～5枚叶；叶二列，纸质，长圆状披针形，长3～7厘米，宽9～15毫米，先端钝并且多少钩转，基部下延为抱茎的鞘，边缘和中肋常带淡紫色；叶鞘常具紫斑，老时其上缘与茎松离而张开，并且与节留下1个环状铁青的间隙。

总状花序常从落了叶的老茎上部发出，具2～3朵花；花序柄长5～10毫米，基部具2～3枚短鞘；花序轴回折状弯曲，长2～4厘米；花苞片干膜质，浅白色，卵形，长5～7毫米，先端稍钝；花梗和子房长2～2.5厘米；萼片和花瓣黄绿色，近相似，长圆状披针形，长约1.8厘米，宽4～5毫米，先端锐尖，具5条脉；侧萼片基部较宽阔，宽约1厘米；萼囊圆锥形，长约5毫米，末端圆形；唇瓣白色，基部具1个绿色或黄色的胼胝体，卵状披针形，比萼片稍短，中部反折，先端急尖，不裂或不明显3裂，中部以下两侧具紫红色条纹，边缘多少波状；唇盘密布细乳突状的毛，并且在中部以上具1个紫红色斑块；蕊柱黄绿色，长约3毫米，先端两侧各具1个紫点；蕊柱足黄绿色带紫红色条纹，疏生毛；药帽白色，长卵状三角形，长约2.3毫米，顶端近锐尖并且2裂。

铁皮石斛的栽培时间一般是每年的春秋两季，且春季优于秋季。在浙江地区，铁皮石斛栽培的最佳时间为每年4月中旬至6月下旬，这段时间气温在12 ℃～25 ℃，且空气湿度较大，出瓶后的试管苗移栽成活率较高且生长时间较长；其次是9月中旬至10月下旬，此时期移栽特别要做好抗寒防冻工作。

栽培基质是优质高效栽培的关键，铁皮石斛的生物特性要求栽培基质既有良好的保水性又有通风透气性，规模化生产要求栽培基质原料易得、操作方便。报道中基质有水苔、碎石、花生壳、苔藓、椰子皮、松树皮、木屑、木炭、木块等，在生产中应用主要是树皮、木屑，或树皮、木屑、碎石、有机肥混合物，其中树皮粉碎成2 cm～3 cm以下颗粒。

铁皮石斛栽培要求在大棚中进行，大棚的建造要求做到通风、遮荫挡雨、有防虫网，并根据铁皮石斛的生长习性，考虑场地的光照、温度、湿度、通风等自然因素。铁皮石斛生长的适宜温度为15 ℃～30 ℃，在浙江地区夏季比较炎热，一般采用80 %的遮阳网覆盖，掀开塑料薄膜，以利降温；冬季比较寒冷，在30 %～50 %遮阳度下用双层塑料薄膜封闭保温。铁皮石斛要求保持基质湿润，空气湿度保持80 %以上为好，但又不能积水，浇水时采用喷灌或滴灌最好，不得冲灌。不同的季节不同的地区浇水量亦不同。

铁皮石斛是附生植物，在自然条件下主要生长于一些高大乔木阴湿的树干或石灰岩上，因而在人工繁育栽培条件下也可模拟自然环境条件进行栽植，根据附主的特性不同可将铁皮石斛的人工附主栽植分为树栽、石栽和腐殖土栽培3种形式。

树栽时可选择树皮厚、水分含量高、树冠浓密、叶草质或蜡质，树皮有纵沟的阔叶树种（如黄桷树、梨树、樟树等）作为栽培附主；石栽则选择质地粗糙，松泡易吸潮，表面附着腐殖土或苔藓的石块作为栽植附主；腐殖土栽培时，选择在较阴湿的树林下，用砖或石砌成高15 cm的高厢，将腐殖土、细砂和碎石拌匀填入厢内，平整后即可栽植，厢面上搭100 cm～120 cm高的遮阴棚。

在现有技术条件下，铁皮石斛的载重装置的建设成本的增加将成为必然，现有的传统工艺、设计方法具有工艺流程长，控制复杂，占地大，制造成本高等缺点。

发明内容

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种室温铁皮石斛立体栽培装置，包括：透光保温棚1，营养基输送装置2，营养基原液池3，栽培立体架4，控制系统5，温控传感器6，湿度传感器7；所述透光保温棚1由透光保温薄膜组成，透光保温棚1直径不少于3 m，透光保温棚1总高度不少于2.5 m；所述营养基输送装置2位于透光保温棚1内部地平面位置，营养基输送装置2抽水管一端连接有营养基原液池3，所述控制系统5位于营养基原液池3一侧，所述栽培立体架4位于透光保温棚1内部，栽培立体架4通过膨胀螺钉固定在地面，所述温控传感器6及湿度传感器7位于透光保温棚1内部顶面，温控传感器6及湿度传感器7与控制系统5导线控制连接。

进一步的，所述营养基输送装置2包括：输送电机2-1，输送总管2-2，流量控制计2-3，流量电控阀2-4，输送分管2-5，输送喷洒头2-6；所述输送电机2-1输送端连接有输送总管2-2，输送电机2-1与控制系统5导线控制连接；所述输送总管2-2表面依次串接有流量控制计2-3及流量电控阀2-4，所述流量控制计2-3及流量电控阀2-4分别与控制系统5导线控制连接；所述输送分管2-5连接在输送总管2-2输出端，输送分管2-5外形呈“曰”字状，输送分管2-5与输送总管2-2直径之比为1:1.5；所述输送喷洒头2-6位于输送分管2-5底端表面，输送喷洒头2-6依次均匀排列，单排输送喷洒头2-6数量不少于4组，相邻两输送喷洒头2-6间距在1 m～2 m之间。

进一步的，所述栽培立体架4包括：中央立柱4-1，营养基分配槽4-2，“L”型弯管4-3，花盆托槽4-4，花盆4-5，铁皮石斛4-6，营养基配送管4-7；所述中央立柱4-1外形呈圆棒状结构，中央立柱4-1直径不少于8 cm，中央立柱4-1总高度不低于2 m；所述营养基分配槽4-2位于中央立柱4-1外径表面，营养基分配槽4-2与中央立柱4-1中心轴线重合，营养基分配槽4-2垂直均匀排列，营养基分配槽4-2数量不少于3个，相邻两营养基分配槽4-2间距在60 cm～80 cm之间；所述“L”型弯管4-3分布在营养基分配槽4-2外径圆周表面，“L”型弯管4-3与营养基分配槽4-2相互贯通，“L”型弯管4-3数量不少于4～6个，“L”型弯管4-3沿营养基分配槽4-2外径相互60 °～90 °排列；所述花盆托槽4-4上端表面，花盆托槽4-4表面设有大量透气孔，花盆托槽4-4与“L”型弯管4-3通过卡扣活动连接；所述花盆4-5位于花盆托槽4-4内部，花盆4-5高出花盆托槽4-4上端面10 mm～20 mm，花盆4-5内部栽培有铁皮石斛4-6；所述营养基配送管4-7位于各层“L”型弯管4-3之间，营养基配送管4-7与各层“L”型弯管4-3相互贯通。

本实用新型专利公开的一种室温铁皮石斛立体栽培装置，其优点在于：

（1）该装置栽培立体架结构新颖，空间利用率广；

（2）该装置结构设计合理紧凑，集成度高；

（3）该装置采用自动控制棚内温度及湿度装置，自动化程度高。

本实用新型所述的一种室温铁皮石斛立体栽培装置结构新颖合理，空间利用率广，存活率高，适用范围广阔。

附图说明

图1是本实用新型中所述的一种室温铁皮石斛立体栽培装置示意图。

图2是本实用新型中所述的透光保温棚内部俯视图。

图3是本实用新型中所述的营养基输送装置示意图。

图4是本实用新型中所述的栽培立体架结构示意图。

以上图1～图4中，透光保温棚1，营养基输送装置2，输送电机2-1，输送总管2-2，流量控制计2-3，流量电控阀2-4，输送分管2-5，输送喷洒头2-6，营养基原液池3，栽培立体架4，中央立柱4-1，营养基分配槽4-2，“L”型弯管4-3，花盆托槽4-4，花盆4-5，铁皮石斛4-6，营养基配送管4-7，控制系统5，温控传感器6，湿度传感器7。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型提供的一种室温铁皮石斛立体栽培装置进行进一步说明。

如图1、图2所示，是本实用新型提供的一种室温铁皮石斛立体栽培装置的示意图及透光保温棚内部俯视图。从图1、图2中看出，包括：透光保温棚1，营养基输送装置2，营养基原液池3，栽培立体架4，控制系统5，温控传感器6，湿度传感器7；所述透光保温棚1由透光保温薄膜组成，透光保温棚1直径不少于3 m，透光保温棚1总高度不少于2.5 m；所述营养基输送装置2位于透光保温棚1内部地平面位置，营养基输送装置2抽水管一端连接有营养基原液池3，所述控制系统5位于营养基原液池3一侧，所述栽培立体架4位于透光保温棚1内部，栽培立体架4通过膨胀螺钉固定在地面，所述温控传感器6及湿度传感器7位于透光保温棚1内部顶面，温控传感器6及湿度传感器7与控制系统5导线控制连接。

如图3所示，是本实用新型中所述的营养基输送装置示意图。从图3或图1中看出，所述营养基输送装置2包括：输送电机2-1，输送总管2-2，流量控制计2-3，流量电控阀2-4，输送分管2-5，输送喷洒头2-6；所述输送电机2-1输送端连接有输送总管2-2，输送电机2-1与控制系统5导线控制连接；所述输送总管2-2表面依次串接有流量控制计2-3及流量电控阀2-4，所述流量控制计2-3及流量电控阀2-4分别与控制系统5导线控制连接；所述输送分管2-5连接在输送总管2-2输出端，输送分管2-5外形呈“曰”字状，输送分管2-5与输送总管2-2直径之比为1:1.5；所述输送喷洒头2-6位于输送分管2-5底端表面，输送喷洒头2-6依次均匀排列，单排输送喷洒头2-6数量不少于4组，相邻两输送喷洒头2-6间距在1 m～2 m之间。

如图4所示，是本实用新型中所述的栽培立体架结构示意图。从图4中看出，所述栽培立体架4包括：中央立柱4-1，营养基分配槽4-2，“L”型弯管4-3，花盆托槽4-4，花盆4-5，铁皮石斛4-6，营养基配送管4-7；所述中央立柱4-1外形呈圆棒状结构，中央立柱4-1直径不少于8 cm，中央立柱4-1总高度不低于2 m；所述营养基分配槽4-2位于中央立柱4-1外径表面，营养基分配槽4-2与中央立柱4-1中心轴线重合，营养基分配槽4-2垂直均匀排列，营养基分配槽4-2数量不少于3个，相邻两营养基分配槽4-2间距在60 cm～80 cm之间；所述“L”型弯管4-3分布在营养基分配槽4-2外径圆周表面，“L”型弯管4-3与营养基分配槽4-2相互贯通，“L”型弯管4-3数量不少于4～6个，“L”型弯管4-3沿营养基分配槽4-2外径相互60 °～90 °排列；所述花盆托槽4-4上端表面，花盆托槽4-4表面设有大量透气孔，花盆托槽4-4与“L”型弯管4-3通过卡扣活动连接；所述花盆4-5位于花盆托槽4-4内部，花盆4-5高出花盆托槽4-4上端面10 mm～20 mm，花盆4-5内部栽培有铁皮石斛4-6；所述营养基配送管4-7位于各层“L”型弯管4-3之间，营养基配送管4-7与各层“L”型弯管4-3相互贯通。

Claims

1.一种室温铁皮石斛立体栽培装置，包括：透光保温棚（1），营养基输送装置（2），营养基原液池（3），栽培立体架（4），控制系统（5），温控传感器（6），湿度传感器（7）；其特征在于，所述透光保温棚（1）由透光保温薄膜组成，透光保温棚（1）直径不少于3 m，透光保温棚（1）总高度不少于2.5 m；所述营养基输送装置（2）位于透光保温棚（1）内部地平面位置，营养基输送装置（2）抽水管一端连接有营养基原液池（3），所述控制系统（5）位于营养基原液池（3）一侧，所述栽培立体架（4）位于透光保温棚（1）内部，栽培立体架（4）通过膨胀螺钉固定在地面，所述温控传感器（6）及湿度传感器（7）位于透光保温棚（1）内部顶面，温控传感器（6）及湿度传感器（7）与控制系统（5）导线控制连接。

2.根据权利要求1所述的一种室温铁皮石斛立体栽培装置，其特征在于，所述营养基输送装置（2）包括：输送电机（2-1），输送总管（2-2），流量控制计（2-3），流量电控阀（2-4），输送分管（2-5），输送喷洒头（2-6）；所述输送电机（2-1）输送端连接有输送总管（2-2），输送电机（2-1）与控制系统（5）导线控制连接；所述输送总管（2-2）表面依次串接有流量控制计（2-3）及流量电控阀（2-4），所述流量控制计（2-3）及流量电控阀（2-4）分别与控制系统（5）导线控制连接；所述输送分管（2-5）连接在输送总管（2-2）输出端，输送分管（2-5）外形呈“曰”字状，输送分管（2-5）与输送总管（2-2）直径之比为1:1.5；所述输送喷洒头（2-6）位于输送分管（2-5）底端表面，输送喷洒头（2-6）依次均匀排列，单排输送喷洒头（2-6）数量不少于4组，相邻两输送喷洒头（2-6）间距在1 m～2 m之间。

3.根据权利要求2所述的一种室温铁皮石斛立体栽培装置，其特征在于，所述栽培立体架（4）包括：中央立柱（4-1），营养基分配槽（4-2），“L”型弯管（4-3），花盆托槽（4-4），花盆（4-5），铁皮石斛（4-6），营养基配送管（4-7）；所述中央立柱（4-1）外形呈圆棒状结构，中央立柱（4-1）直径不少于8 cm，中央立柱（4-1）总高度不低于2 m；所述营养基分配槽（4-2）位于中央立柱（4-1）外径表面，营养基分配槽（4-2）与中央立柱（4-1）中心轴线重合，营养基分配槽（4-2）垂直均匀排列，营养基分配槽（4-2）数量不少于3个，相邻两营养基分配槽（4-2）间距在60 cm～80 cm之间；所述“L”型弯管（4-3）分布在营养基分配槽（4-2）外径圆周表面，“L”型弯管（4-3）与营养基分配槽（4-2）相互贯通，“L”型弯管（4-3）数量不少于4～6个，“L”型弯管（4-3）沿营养基分配槽（4-2）外径相互60 °～90 °排列；所述花盆托槽（4-4）上端表面，花盆托槽（4-4）表面设有大量透气孔，花盆托槽（4-4）与“L”型弯管（4-3）通过卡扣活动连接；所述花盆（4-5）位于花盆托槽（4-4）内部，花盆（4-5）高出花盆托槽（4-4）上端面10 mm～20 mm，花盆（4-5）内部栽培有铁皮石斛（4-6）；所述营养基配送管（4-7）位于各层“L”型弯管（4-3）之间，营养基配送管（4-7）与各层“L”型弯管（4-3）相互贯通。