CN205590714U - 一种用于细胞灌注培养的气体供给装置 - Google Patents

一种用于细胞灌注培养的气体供给装置 Download PDF

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Abstract

本实用新型实施例提供一种用于细胞灌注培养的气体供给装置,涉及细胞培养技术领域,为了可使反应器周围的气体环境保持在特定的状态下而发明。一种用于细胞灌注培养的气体供给装置,包括反应器、反应器基座和密封盖,所述反应器基座上开设有用于安装反应器的反应器安装槽,所述反应器安装槽内设有用于通入气体的气体流道,所述反应器基座上开设有与所述气体流道连通的进气口,所述进气口连通有气源,所述反应器安装槽上方盖设有密封盖,所述密封盖可将所述反应器安装槽与外界密封。本实用新型用于细胞灌注培养的气体供给。

Description

一种用于细胞灌注培养的气体供给装置
技术领域
本实用新型涉及细胞培养技术领域,尤其涉及一种用于细胞灌注培养的气体供给装置。
背景技术
细胞培养泛指所有体外培养,其含义是指从动物活体体内取出组织,通过机械的方法或酶消化的方法将组织分离成单细胞,模拟体内生理环境等特定的体内条件下,进行孵育培养,使之生存并生长。
现有的细胞培养方式分为两种,一种为静态培养,通常使用培养瓶或者培养皿,将细胞置于培养器皿中,人为观察其生产状态,并不定时给予换液,为细胞提供充足的养分;另一种为灌注式培养,即将细胞接种于反应器内,可为细胞或组织源源不断的提供培养液供其生长。
静态培养的方式中,培养液需定期更换,静态培养系统不能保持环境恒定,人工操作的效率和精度不高,且易对培养环境造成污染。灌注式培养可减少人工操作从而减少污染的几率,但是,根据不同的细胞培养需求或不同的实验要求,还需要使反应器可以处于不同的特定气体环境中,由于需要连续不断的为细胞提供新鲜培养液,反应器一直和培养液连通,不易将反应器置于具有稳定的气体环境的培养箱中,且反应器周围没有单独设置容纳气体的空间,不方便使反应器周围的气体环境保持在特定的状态下。
实用新型内容
本实用新型的实施例提供一种用于细胞灌注培养的气体供给装置,可使反应器周围的气体环境保持在特定的状态下。
为达到上述目的,本实用新型的实施例采用如下技术方案:
一种用于细胞灌注培养的气体供给装置,包括反应器、反应器基座和密封盖,所述反应器基座上开设有用于安装反应器的反应器安装槽,所述反应器安装槽内设有用于通入气体的气体流道,所述反应器基座上开设有与所述气体流道连通的进气口,所述进气口连通有气源,所述反应器安装槽上方盖设有密封盖,所述密封盖可将所述反应器安装槽与外界密封。
进一步地,所述反应器基座上开设有进气通道,所述进气通道沿水平方向开设,所述进气口通过所述进气通道与所述气源连通。
进一步地,所述气源为储气瓶。
进一步地,所述反应器基座上设有与所述气体流道连通的气体浓度检测口,所述气体浓度检测口连通有气体浓度检测装置。
更进一步地,所述气体浓度检测装置包括气体浓度检测仪、与所述气体浓度检测口连通的检测室以及用于安装所述气体浓度检测仪的固定底座,所述检测室与所述固定底座连接,使所述检测室与外界密闭,所述气体浓度检测仪处于所述检测室中。
更进一步地,所述气体为二氧化碳,所述气体浓度检测仪为二氧化碳光学传感器。
进一步地,所述反应器包括培养室以及与所述培养室连通的培养液输入管和废液输出管,所述反应器基座的上表面开设有用于安装培养液输入管的输入管安装槽以及用于安装废液输出管的输出管安装槽,所述反应器安装槽位于所述输入管安装槽和所述输出管安装槽之间且分别与所述输入管安装槽和所述输出管安装槽贯通。
更进一步地,所述密封盖靠近所述培养液输入管和所述废液输出管的位置设有缺口,所述培养液输入管和所述废液输出管可穿过所述缺口,所述缺口上粘接有密封条。
进一步地,所述反应器包括多个所述培养室,所述气体流道的位置与多个所述培养室的位置对应。
更进一步地,所述反应器安装槽底部设有用于支撑所述反应器的支撑凸起,以使所述反应器的底部与所述反应器安装槽底部之间形成所述气体流道。
本实用新型实施例提供的用于细胞灌注培养的气体供给装置,由于设置了反应器基座,反应器可安装在反应器基座的反应器安装槽中,同时密封盖可将反应器安装槽与外界密封,这样在反应器周围形成了可以容纳气体的独立空间,进一步地,在反应器安装槽中设有气体流道,在反应器基座上开设有与气体流道连通的进气口,且进气口连通有气源,气源通过进气口进入气体流道,分布在反应器周围,相比现有技术,根据不同的细胞培养需求或不同的实验要求,可对应采用不同的气源,进而使反应器周围的气体环境保持在特定的状态下。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例提供的用于细胞灌注培养的气体供给装置的结构示意图;
图2为本实用新型实施例提供的用于细胞灌注培养的气体供给装置中反应器的结构示意图;
图3为本实用新型实施例提供的用于细胞灌注培养的气体供给装置中密封盖的结构示意图;
图4为本实用新型实施例提供的用于细胞灌注培养的气体供给装置中反应器基座的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
本实用新型的实施例提供一种用于细胞灌注培养的气体供给装置,如图1、2、3、4所示,包括反应器1、反应器基座2和密封盖3,反应器基座2上开设有用于安装反应器1的反应器安装槽21,反应器安装槽21内设有用于通入气体的气体流道,反应器基座2上开设有与气体流道连通的进气口22,进气口22连通有气源(图中未示出),反应器安装槽21上方盖设有密封盖3,密封盖3可将反应器安装槽21与外界密封。
本实用新型实施例提供的用于细胞灌注培养的气体供给装置,参照图1和图2,由于设置了反应器基座2,反应器1可安装在反应器基座2的反应器安装槽21中,再参照图3和图4,同时密封盖3可将反应器安装槽21与外界密封,这样在反应器1周围形成了可以容纳气体的独立空间,进一步地,在反应器安装槽21中设有气体流道,在反应器基座2上开设有与气体流道连通的进气口22,且进气口22连通有气源,气源通过进气口22进入气体流道,分布在反应器1周围,相比现有技术,根据不同的细胞培养需求或不同的实验要求,可对应采用不同的气源,进而使反应器1周围的气体环境保持在特定的状态下。
为了使进气口22与气源连通,如图4所示,反应器基座2上开设有进气通道23,进气通道23沿水平方向开设,进气口22通过进气通道23与气源连通。将进气通道23沿水平方向开设,可以防止因意外溅落的液体或小杂物掉落在进气口22周围,导致进气口22被堵塞的问题发生。
气源可以为任意可提供所需气体的储气装置,例如储气瓶、储气罐等压力容器,由于细胞培养装置的体积一般较小,所需气体也相应较少,为了操作方便,可选用体积较小的储气瓶。
为了不同的实验要求或不同的细胞培养需求,还需要控制反应器1周围的气体中二氧化碳等各种气体的含量,这样,通入气体流道的气体可以选择氧气、氮气、二氧化碳或者这三种的混合气体,进一步地,为了对反应器1周围的气体中各种气体的含量进行更精确的控制,如图1和图4所示,反应器基座2上设有与气体流道连通的气体浓度检测口24,气体浓度检测口24连通有气体浓度检测装置4。气体浓度检测口24与气体浓度检测装置4连通,可以检测出反应器1周围的气体中各种气体的含量,进而做出有针对性的调节。
具体地,如图1所示,气体浓度检测装置4包括气体浓度检测仪41、与气体浓度检测口24连通的检测室42以及用于安装气体浓度检测仪41的固定底座43,检测室42与固定底座43连接,使检测室42与外界密闭,气体浓度检测仪41处于检测室42中。这样,气体浓度检测仪41可安装在固定底座43上,通过固定底座43与检测室42的连接,使气体浓度检测仪41处于检测室中,检测室42与外界密封,且与反应器安装槽21的气体流道通过气体浓度检测口24连通,进而气体浓度检测仪41可以检测出反应器1周围的气体环境。当然,气体检测装置4的检测室42也可由密封盖3在密封反应器安装槽21时一并密封。
需要说明的是,气体浓度检测仪41可根据不同的检测需要,采用检测不同气体浓度的检测仪,另一方面,气体浓度检测仪41可采用固态电解质传感器或光学传感器,相比较而言,光学传感器的稳定性和精度较高,因此,优选采用光学传感器。
通常,在细胞培养的过程中,气体中二氧化碳的浓度比较重要,二氧化碳则既是细胞代谢产物,也是细胞生长繁殖所需成分,它在细胞培养中的主要作用在于维持培养基的pH值(hydrogen ionconcentration,表示溶液酸碱度的数值),大多数细胞培养中需要利用二氧化碳保持或调整溶液稳定的pH值,因此,气源通入的气体为二氧化碳,气体浓度检测仪41为二氧化碳光学传感器。
如图2和图4所示,反应器1包括培养室11以及与培养室11连通的培养液输入管12和废液输出管13,反应器基座2的上表面开设有用于安装培养液输入管12的输入管安装槽25以及用于安装废液输出管13的输出管安装槽26,反应器安装槽21位于输入管安装槽25和输出管安装槽26之间且分别与输入管安装槽25和输出管安装槽26贯通。这样,培养液输入管可安装在输入管安装槽4中,废液输出管可安装在输出管安装槽5中,方便对细胞培养室操作。
由于设置了与培养室11连通的培养液输入管12和废液输出管13,密封盖3密封反应器安装槽21时,容易挤压培养液输入管12和废液输出管13,进而导致培养液输入不足或细胞新陈代谢物排出不及时,因此,为了避免此问题的发生,如图3所示,密封盖3靠近培养液输入管12和废液输出管13的位置设有缺口31,培养液输入管12和废液输出管13可穿过缺口31,缺口31上粘接有密封条。这样,培养液输入管12和废液输出管13可穿过缺口31,不被挤压,同时,为了反应器安装槽21不会通过缺口31处与外界连通,缺口31上粘接有密封条,密封条可为高密度的海绵体,保证密封效果。
为了满足实验需求,需要一次培养大量的细胞或组织,因此,如图2所示,反应器1包括多个培养室11,气体流道的位置与多个培养室11的位置对应。当反应器1包括多个培养室11时,参照图4,将气体流道的位置与培养室11的位置对应,可使在气体流道中的气体与培养室11周围接触,确保了培养室11周围的气体环境的有效调节。
需要说明的是,为了反应器可以培养各种不同的细胞或组织,反应培养室通常采用具有生物相容性,且通透性良好的聚合物材料制成,这样细胞可与外界进行气体交换,有利于多种类的细胞或组织的培养。
具体地,参照图2和图4,反应器安装槽21底部设有用于支撑反应器1的支撑凸起211,以使反应器1的底部与反应器安装槽21底部之间形成气体流道。这样,在反应器1底部与反应器安装槽21之间就形成了气体流道,使气体可以处于反应器1周围。
以上仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种用于细胞灌注培养的气体供给装置,其特征在于,包括反应器、反应器基座和密封盖,所述反应器基座上开设有用于安装反应器的反应器安装槽,所述反应器安装槽内设有用于通入气体的气体流道,所述反应器基座上开设有与所述气体流道连通的进气口,所述进气口连通有气源,所述反应器安装槽上方盖设有密封盖,所述密封盖可将所述反应器安装槽与外界密封。
2.根据权利要求1所述的用于细胞灌注培养的气体供给装置,其特征在于,所述反应器基座上开设有进气通道,所述进气通道沿水平方向开设,所述进气口通过所述进气通道与所述气源连通。
3.根据权利要求1所述的用于细胞灌注培养的气体供给装置,其特征在于,所述气源为储气瓶。
4.根据权利要求1所述的用于细胞灌注培养的气体供给装置,其特征在于,所述反应器基座上设有与所述气体流道连通的气体浓度检测口,所述气体浓度检测口连通有气体浓度检测装置。
5.根据权利要求4所述的用于细胞灌注培养的气体供给装置,其特征在于,所述气体浓度检测装置包括气体浓度检测仪、与所述气体浓度检测口连通的检测室以及用于安装所述气体浓度检测仪的固定底座,所述检测室与所述固定底座连接,使所述检测室与外界密闭,所述气体浓度检测仪处于所述检测室中。
6.根据权利要求5所述的用于细胞灌注培养的气体供给装置,其特征在于,所述气体为二氧化碳,所述气体浓度检测仪为二氧化碳光学传感器。
7.根据权利要求1所述的用于细胞灌注培养的气体供给装置,其特征在于,所述反应器包括培养室以及与所述培养室连通的培养液输入管和废液输出管,所述反应器基座的上表面开设有用于安装培养液输入管的输入管安装槽以及用于安装废液输出管的输出管安装槽,所述反应器安装槽位于所述输入管安装槽和所述输出管安装槽之间且分别与所述输入管安装槽和所述输出管安装槽贯通。
8.根据权利要求7所述的用于细胞灌注培养的气体供给装置,其特征在于,所述密封盖靠近所述培养液输入管和所述废液输出管的位置设有缺口,所述培养液输入管和所述废液输出管可穿过所述缺口,所述缺口上粘接有密封条。
9.根据权利要求7所述的用于细胞灌注培养的气体供给装置,其特征在于,所述反应器包括多个所述培养室,所述气体流道的位置与多个所述培养室的位置对应。
10.根据权利要求9所述的用于细胞灌注培养的气体供给装置,其特征在于,所述反应器安装槽底部设有用于支撑所述反应器的支撑凸起,以使所述反应器的底部与所述反应器安装槽底部之间形成所述气体流道。
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