CN205539932U - 双工件台垂直曝光装置 - Google Patents

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平洁
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Jiangsu Yingsu integrated circuit equipment Co., Ltd
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Abstract

本实用新型公开了一种双工件台垂直曝光装置,包括至少一组曝光单元、分光镜(3)、反射镜(4),以及两个用于固定工件的垂直工件台Ⅰ(5)和工件台Ⅱ(6);所述曝光单元包括DMD微反射镜阵列(1)和成像透镜组(2);所述分光镜(3)置于曝光单元之后、工件台之前;所述反射镜(4)置于分光镜(3)正下方。本双工件台垂直曝光装置取消了单工件台水平曝光的方式,取而代之的是垂直曝光双工件台,在不改变照明光路和曝光单元的基础上,加入分光镜及反光镜,增加工件台数量。本双工件台垂直曝光装置在节约成本的同时大幅度提高了曝光效率。

Description

双工件台垂直曝光装置
技术领域
本实用新型涉及一种曝光装置,具体是一种双工件台垂直曝光装置。
背景技术
目前市场上主流的曝光机大多是单工件,水平放置曝光。曝光速度和曝光时间很难再有突破,导致效率低下。由于对曝光机高效率的要求,市场上都会通过提高曝光速度来减少曝光时间,这样就要提高光源的能量,由此不仅成本会大幅度提高,还会影响曝光结果。
实用新型内容
针对上述现有技术存在的问题,本实用新型提供一种双工件台垂直曝光装置,在不改变照明光路和曝光单元的基础上,加入分光镜及反光镜,增加工件台数量。本双工件台垂直曝光装置在节约成本的同时大幅度提高曝光效率。
为了实现上述目的,本双工件台垂直曝光装置包括至少一组曝光单元、分光镜、反射镜,以及两个用于固定工件的垂直工件台Ⅰ和工件台Ⅱ;
所述曝光单元包括DMD微反射镜阵列和成像透镜组;
所述分光镜置于曝光单元之后、工件台之前;
所述反射镜置于分光镜正下方。
进一步,所述分光镜为立体型分束镜,对曝光单元所用的紫外光波段呈50%反射,50%透射。
进一步,所述反射镜为45°直角三棱镜,对分光镜透射的50%紫外光全反。
进一步,所述工件台Ⅰ和工件台Ⅱ分别位于所述分光镜和反射镜的正后方,对分光镜和反射镜出射的光进行曝光。
与现有技术相比,本双工件台垂直曝光装置取消了单工件台水平曝光的方式,取而代之的是垂直曝光双工件台,在不改变照明光路和曝光单元的基础上,加入分光镜及反光镜,增加工件台数量。本双工件台垂直曝光装置在节约成本的同时大幅度提高了曝光效率。
附图说明
图1是本实用新型的主体结构示意图;
图2是图1的侧视图;
图中:1、DMD微反射镜阵列,2、成像透镜组,3、分光镜,4、反射镜,5、工件台Ⅰ,6、工件台Ⅱ。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做进一步说明。
如图1和图2所示,本双工件台垂直曝光装置包括至少一组曝光单元、分光镜3、反射镜4,以及两个用于固定工件的垂直工件台Ⅰ5和工件台Ⅱ6;
所述曝光单元包括DMD微反射镜阵列1和成像透镜组2;
所述分光镜3置于曝光单元之后、工件台之前;
所述反射镜4置于分光镜3正下方。
进一步,所述分光镜3为立体型分束镜,对曝光单元所用的紫外光波段呈50%反射,50%透射。
进一步,所述反射镜4为45°直角三棱镜,对分光镜3透射的50%紫外光全反。
进一步,所述工件台Ⅰ5和工件台Ⅱ6分别位于所述分光镜3和反射镜4的正后方,对分光镜3和反射镜4出射的光进行曝光。
本双工件台垂直曝光装置的工作原理如下:
使用DMD微反射镜阵列1进行翻转,形成曝光图像,通过成像透镜组 2的成像作用,将DMD微反射镜阵列1的像成在相应位置,在成像透镜组2的出光口与所述DMD的像之间放置分光镜3与反射镜4,使所述DMD的像发生转折,经分光镜3一半成在工件台Ⅰ5上的工件上,另一半经反射镜4成在工件台Ⅱ6上的工件上,工件台Ⅰ5和工件台Ⅱ6上的工件同时曝光相同的图像。
综上所述,本双工件台垂直曝光装置取消了单工件台水平曝光的方式,取而代之的是垂直曝光双工件台,在不改变照明光路和曝光单元的基础上,加入分光镜及反光镜,增加工件台数量。本双工件台垂直曝光装置在节约成本的同时大幅度提高了曝光效率。

Claims (4)

1.一种双工件台垂直曝光装置,其特征在于,
包括至少一组曝光单元、分光镜(3)、反射镜(4),以及两个用于固定工件的垂直工件台Ⅰ(5)和工件台Ⅱ(6);
所述曝光单元包括DMD微反射镜阵列(1)和成像透镜组(2);
所述分光镜(3)置于曝光单元之后、工件台之前;
所述反射镜(4)置于分光镜(3)正下方。
2.根据权利要求1所述的一种双工件台垂直曝光装置,其特征在于,
所述分光镜(3)为立体型分束镜,对曝光单元所用的紫外光波段呈50%反射,50%透射。
3.根据权利要求1所述的一种双工件台垂直曝光装置,其特征在于,
所述反射镜(4)为45°直角三棱镜,对分光镜(3)透射的50%紫外光全反。
4.根据权利要求1所述的一种双工件台垂直曝光装置,其特征在于,
所述工件台Ⅰ(5)和工件台Ⅱ(6)分别位于所述分光镜(3)和反射镜(4)的正后方,对分光镜(3)和反射镜(4)出射的光进行曝光。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108073045A (zh) * 2016-11-07 2018-05-25 俞庆平 一种双分镜头直写式曝光机系统

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Address after: 221000 west side of Hengshan Road, Pizhou City, Xuzhou City, Jiangsu Province

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Patentee before: JIANGSU YINGSU PHOTOELECTRIC TECHNOLOGY Co.,Ltd.

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