CN205517357U - 面膜机的搅拌机构 - Google Patents

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曹飞东
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Beijing Zhongyi Shilian Technology Co.,Ltd.
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Abstract

本实用新型涉及一种面膜机的搅拌机构，属于面膜机的技术领域。本实用新型所述的面膜机的搅拌机构包括：包括搅拌箱，上盖、中盖和下盖；上盖与中盖固定形成密封空腔；中盖上设有注料孔、进水口和电机座，水位探针、温度探针和插针板固定在中盖上，并且水位探针和温度探针的下部伸入到搅拌箱内；搅拌电机设置在密封空腔内并且固定电机座上，搅拌电机的输出轴伸入到搅拌箱内，输出轴的端部连接有搅拌叶；搅拌箱的底部开设有流道出口和加热装置；搅拌箱下盖上设置有排液装置。本实用新型所述的搅拌机构结构紧凑，体积较小；而且搅拌箱以及搅拌叶表面光滑不易残留汁液，可以减少清洗频次并且易于清洗。

Description

面膜机的搅拌机构
技术领域
本实用新型涉及面膜机的技术领域，更具体地说，本实用新型涉及一种面膜机的搅拌机构。
背景技术
面膜机是通过榨汁离心原理，将果肉中的水合有养成分注入果膜制作容器，并经过完全密封中高温离心隔离技术，确保在中高温的情况下依然能够确保胶原分子结构和果蔬分子结构不被破换，并且有效将胶原蛋白活性肽中的胶原蛋白成分与果蔬中的有效成分融合，形成全新的胶原分子结构，从而合成得到完美的果膜液态，经过注入果膜盘、降温等程序，形成纯天然，并保留果蔬天然香味的果蔬面膜。搅拌机构是面膜机的关键部件之一，然而在现有技术中搅拌机构结构不够紧凑体积较大，而且榨汁容易残留在搅拌箱下盖以及搅拌叶等表面，导致需要频繁的清洗。
实用新型内容
为了解决现有技术中的上述技术问题，本实用新型的目的在于提供一种面膜机的搅拌机构。
为了实现上述发明目的，本实用新型采用了以下技术方案：
一种面膜机的搅拌机构，包括搅拌箱，以及位于搅拌箱上方的搅拌箱上盖、搅拌箱中盖，和位于搅拌箱下方的搅拌箱下盖；其特征在于：所述搅拌箱上盖为半圆形空腔，且其上设置有物料通道，端部开设有与残渣箱的出水口对接的进水口，所述搅拌箱上盖与所述搅拌箱中盖固定形成密封空腔；所述搅拌箱中盖上设有注料孔、进水口和电机座，水位探针、温度探针和插针板固定在所述搅拌箱中盖上，并且所述水位探针和温度探针的下部伸入到搅拌箱内；搅拌电机设置在所述密封空腔内并且固定在所述电机座上，所述搅拌电机的输出轴伸入到搅拌箱内，并且所述输出 轴的端部连接有搅拌叶；所述搅拌箱的底部开设有流道出口和加热装置；所述搅拌箱下盖与所述搅拌箱通过螺钉固定，且所述搅拌箱下盖上设置有排液装置。
其中，所述搅拌箱上盖与所述搅拌箱中盖的结合处、所述搅拌箱中盖与所述搅拌箱的结合处、所述搅拌箱与所述搅拌箱下盖的结合处均设置有密封塞。
其中，所述插针板连接水位探针、温度探针和搅拌电机的线路。
其中所述水位探针包括长探针和短探针，且所述水位探针通过螺钉固定在所述搅拌箱中盖上。
其中，所述电机座与所述搅拌电机的输出轴之间设置有电机塞套。
其中，所述搅拌箱为圆柱形，且其上端设置有与所述搅拌箱中盖相配合的卡扣。
其中，所述加热装置包括PTC和压板，所述PTC通过所述压板固定在所述搅拌箱的底部底座上。
其中，所述排液装置包括密封活塞、回复顶杆、拉杆电机和拉杆电机顶杆；所述密封活塞设置在搅拌箱底部的流道出口处，所述回复顶杆上套设有回复弹簧，所述回复顶杆的第一端设置在所述密封活塞上，另一端与拉杆电机顶杆连接，拉杆电机顶杆的端部与所述拉杆电机连接。
与现有技术相比，本实用新型所述的面膜机的搅拌机构具有以下有益效果：
本实用新型所述的搅拌机构结构紧凑，体积较小；而且搅拌箱以及搅拌叶表面光滑不易残留汁液，可以减少清洗频次并且易于清洗。
附图说明
图1为本实用新型所述的面膜机的搅拌机构的分解结构示意 图。
图2为本实用新型所述的面膜机的搅拌机构的整体结构示意图。
具体实施方式
以下将结合具体实施例对本实用新型所述的面膜机的搅拌机构做进一步的阐述，以帮助本领域的技术人员对本实用新型的发明构思、技术方案有更完整、准确和深入的理解。
实施例1
如图1-2所示，本实施例所述的面膜机的搅拌机构，包括搅拌箱42，以及位于搅拌箱上方的搅拌箱上盖32、搅拌箱中盖38，和位于搅拌箱42下方的搅拌箱下盖48。所述搅拌箱上盖与所述搅拌箱中盖的结合处、所述搅拌箱中盖与所述搅拌箱的结合处、所述搅拌箱与所述搅拌箱下盖的结合处均设置有密封塞(39、41、44)。所述搅拌箱上盖32为半圆形空腔，且其上设置有物料通道，端部开设有与残渣箱的出水口对接的进水口，所述搅拌箱上盖32与所述搅拌箱中盖38固定形成密封空腔。所述搅拌箱中盖38上设有注料孔、进水口和电机座。水位探针36、温度探针35和插针板37固定在所述搅拌箱中盖38上，并且所述水位探针和温度探针的下部伸入到搅拌箱内，所述插针板连接水位探针、温度探针和搅拌电机的线路；其中，所述水位探针包括长探针和短探针，且所述水位探针通过螺钉固定在所述搅拌箱中盖上。搅拌电机33设置在所述密封空腔内并且固定在所述电机座上，所述搅拌电机33的输出轴伸入到搅拌箱内，并且为了防水减振，所述电机座与所述搅拌电机的输出轴之间设置有电机塞套34。所述输出轴的端部连接有搅拌叶40。所述搅拌箱为圆柱形，且其上端设置有与所述搅拌箱中盖相配合的卡扣。所述搅拌箱42的底部开设有流道出口和加热装置。所述搅拌箱下盖48与所述搅拌箱42通过螺钉固定，且所述搅拌箱下盖上设置有排液装置。所述加热装置包括PTC 46和压板47，所述PTC 46通过所述压板47固定在所述搅拌箱的底部底座上。所述排液装置包括密封活塞43、回复顶杆45、拉杆电机50和拉杆电机顶杆49。所述密封活塞43设置在搅拌箱底部的流道出口处，所述回复顶杆45上套设有回复弹簧，所述回复顶杆45的第一端设置在所述密封活塞43上，另一端与拉杆电机顶杆49连接，拉杆电机顶杆的端部与所述拉杆电机50连接。所述拉杆电机通过对回复顶杆的控制进而实现密封活塞的开关，拉杆电机为步进电机。电机正转，回复顶杆使得密封活塞打开从而进行排液，当溶液排完后，电机反转，回复顶杆使得密封活塞闭合。在本实施例所述的搅拌叶的外表面以及所述搅拌箱的内表面上形成有防污涂层，并且该防污涂层的厚度为0.2～50μm，作为优选地，所述防污涂层的厚度为1.0～10μm。所述防污涂层通过涂覆表面处理剂并经过固化形成。所述表面处理剂由5.0～8.0wt％的去金属离子胶体二氧化硅、0.3～0.5wt％的锐钛型钛白粉，0.1～0.2wt％的丙烯酸双环戊烯基氧乙基酯，0.3～0.5wt％的乙酰氧基硅烷，和余量的水组成。在涂覆之前，将所述表面处理剂加热并搅拌均匀，然后进行涂膜并在120～150℃的温度固化处理5～20分钟即可。所得到的防污涂层不仅具有大于约120°的水接触角，显示了优异的疏水性能，而且通过选择乙酰氧基硅烷和丙烯酸双环戊烯基氧乙基酯还赋予该防污涂层优异的耐久性能，其不仅可以长期保持耐受(1000工作小时以上)而且疏水性能经长期使用也不被破坏。在本实施例中，所述的去金属离子胶体二氧化硅是指所述胶体二氧化硅中去除了碱金属离子并用水合氢离子取代。而乙酰氧基硅烷选自甲基三乙酰氧基硅烷、乙基三乙酰氧基硅烷，或乙烯基三乙酰氧基硅烷中的至少一种。
对于本领域的普通技术人员而言，具体实施例只是对本实用新型进行了示例性描述，显然本实用新型具体实现并不受上述方式的限制，只要采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的 各种非实质性的改进，或未经改进将本实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种面膜机的搅拌机构，包括搅拌箱，以及位于搅拌箱上方的搅拌箱上盖、搅拌箱中盖，和位于搅拌箱下方的搅拌箱下盖；其特征在于：所述搅拌箱上盖为半圆形空腔，且其上设置有物料通道，端部开设有与残渣箱的出水口对接的进水口，所述搅拌箱上盖与所述搅拌箱中盖固定形成密封空腔；所述搅拌箱中盖上设有注料孔、进水口和电机座，水位探针、温度探针和插针板固定在所述搅拌箱中盖上，并且所述水位探针和温度探针的下部伸入到搅拌箱内；搅拌电机设置在所述密封空腔内并且固定在所述电机座上，所述搅拌电机的输出轴伸入到搅拌箱内，并且所述输出轴的端部连接有搅拌叶；所述搅拌箱的底部开设有U形流道口和加热装置；所述搅拌箱下盖与所述搅拌箱通过螺钉固定，且所述搅拌箱下盖上设置有排液装置。
2.根据权利要求1所述的面膜机的搅拌机构，其特征在于：所述搅拌箱上盖与所述搅拌箱中盖的结合处、所述搅拌箱中盖与所述搅拌箱的结合处、所述搅拌箱与所述搅拌箱下盖的结合处均设置有密封塞。
3.根据权利要求1所述的面膜机的搅拌机构，其特征在于：所述插针板连接水位探针、温度探针和搅拌电机的线路。
4.根据权利要求1所述的面膜机的搅拌机构，其特征在于：所述水位探针包括长探针和短探针，且所述水位探针通过螺钉固定在所述搅拌箱中盖上。
5.根据权利要求1所述的面膜机的搅拌机构，其特征在于：所述电机座与所述搅拌电机的输出轴之间设置有电机塞套。
6.根据权利要求1所述的面膜机的搅拌机构，其特征在于：所述搅拌箱为圆柱形，且其上端设置有与所述搅拌箱中盖相配合的卡扣。
7.根据权利要求1所述的面膜机的搅拌机构，其特征在于：所述加热装置包括PTC和压板，所述PTC通过所述压板固定在所述搅拌箱的底部底座上。
8.根据权利要求1所述的面膜机的搅拌机构，其特征在于：所述排液装置包括密封活塞、回复顶杆、拉杆电机和拉杆电机顶杆；所述密封活塞设置在搅拌箱底部的流道出口处，所述回复顶杆上套设有回复弹簧，所述回复顶杆的第一端设置在所述密封活塞上，另一端与拉杆电机顶杆连接，拉杆电机顶杆的端部与所述拉杆电机连接。
9.根据权利要求1所述的面膜机的搅拌机构，其特征在于：所述的搅拌叶的外表面以及所述搅拌箱的内表面上形成有防污涂层。
10.根据权利要求9所述的面膜机的搅拌机构，其特征在于：所述防污涂层的厚度为0.2～50μm。
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